특허청구의 범위 청구항 1 삭제 청구항 2 삭제 청구항 3 하기 (A), (B) 및 (E)를 함유하는 세정제 조성물로서, (A)와 (B)의 배합 비율이 (A)/(B) = 99/1~70/30(중량% 비)이며, 또한, 이 조성물 중의 전체 계면활성제 성분 중에서 (A)의

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1 (19) 대한민국특허청(KR) (12) 등록특허공보(B1) (51) 국제특허분류(Int. Cl.) A61K 8/46 ( ) A61K 8/36 ( ) A61Q 19/10 ( ) (21) 출원번호 (22) 출원일자(국제) 2004년04월28일 심사청구일자 2008년12월26일 (85) 번역문제출일자 2005년11월04일 (65) 공개번호 (43) 공개일자 2006년02월01일 (86) 국제출원번호 PCT/JP2004/ (87) 국제공개번호 WO 2004/ 국제공개일자 (30) 우선권주장 2004년11월18일 JP-P 년05월07일 일본(JP) (56) 선행기술조사문헌 JP A* JP A JP A* *는 심사관에 의하여 인용된 문헌 (45) 공고일자 2012년07월25일 (11) 등록번호 (24) 등록일자 2012년07월18일 (73) 특허권자 아지노모토 가부시키가이샤 일본국 도쿄도 쥬오구 교바시 1죠메15반1고 (72) 발명자 야마토 나오야 일본 가나가와켄 가와사키시 가와사키쿠 스즈키 쵸 1-1 아지노모토가부시키가이샤 나이 사이토 마사토시 일본 가나가와켄 가와사키시 가와사키쿠 스즈키 쵸 1-1 아지노모토가부시키가이샤 나이 오시무라 에이코 일본 가나가와켄 가와사키시 가와사키쿠 스즈키 쵸 1-1 아지노모토가부시키가이샤 나이 (74) 대리인 김성기, 김진회 전체 청구항 수 : 총 7 항 심사관 : 안규정 (54) 발명의 명칭 세정제 조성물 (57) 요 약 본 발명의 세정제 조성물은 (A) 황산염형 음이온 계면활성제 및 (B) N-아실알라닌 또는 그의 염과 함께 (C) 양 성 계면활성제, (D) 양이온성 고분자, (E) 실리콘 화합물 및 (F) 유성 원료로 이루어진 군에서 선택되는 적어 도 1종의 화합물을 배합하고, (A)와 (B)의 배합 비율을 (A)/(B) = 99/1~70/30(중량%)으로 하며, 또한, 조성물 중의 전체 계면활성제 성분 중에서 (A) 혹은 (C)의 농도를 가장 높은 조성으로 한 조성물로 이루어진다. 본 발 명의 세정제 조성물은 피부 또는 모발용 세정제로서 적합하며, 세정시에 거품이 빨리 일고, 거품량, 거품의 퍼 짐, 거품 유지가 우수하며, 또한, 헹굼시의 감촉은 피부 및 모발에 대하여 잔류감, 뻣뻣함을 부여하지 않고, 또한, 건조후의 감촉이 피부에 대해서는 촉촉하고 또한 산뜻한 사용감을 부여하며, 모발에 대해서는 촉촉함과 동시에 부드러움과 가벼움을 부여할 수 있다고 하는 효과를 발휘한다

2 특허청구의 범위 청구항 1 삭제 청구항 2 삭제 청구항 3 하기 (A), (B) 및 (E)를 함유하는 세정제 조성물로서, (A)와 (B)의 배합 비율이 (A)/(B) = 99/1~70/30(중량% 비)이며, 또한, 이 조성물 중의 전체 계면활성제 성분 중에서 (A)의 농도가 가장 높은 것을 특징으로 하는 피 부 또는 모발용 세정제 조성물: (A) 황산염형 음이온 계면활성제 (B) 하기 화학식 I로 표시되는 N-아실-L-알라닌 또는 그의 염 [화학식 I] (상기 식에서, R은 탄소수가 8~26인 포화 또는 불포화 아실기를 나타냄) (E) 실리콘 화합물 청구항 4 삭제 청구항 5 하기 (A), (B) 및 (E)와, 하기 (C), (D), 또는 (C) 및 (D)를 함유하는 세정제 조성물로서, (A)와 (B)의 배합 비율이 (A)/(B) = 99/1~70/30(중량%비)이며, 또한, 이 조성물 중의 전체 계면활성제 성분 중에서 (A) 혹은 (C)의 농도가 가장 높은 것을 특징으로 하는 피부 또는 모발용 세정제 조성물: (A) 황산염형 음이온 계면활성제 (B) 하기 화학식 I로 나타내는 N-아실-L-알라닌 또는 그의 염 [화학식 I] (상기 식에서, R은 탄소수가 8~26인 포화 또는 불포화 아실기를 나타냄) (C) 양성 계면활성제 (D) 양이온성 고분자 (E) 실리콘 화합물 청구항 6 제3항 또는 제5항에 기재한 세정제 조성물에 (F) 유성 원료, (G) 지방산 또는 그의 염, 또는 (F) 유성 원료 및 (G) 지방산 또는 그의 염을 더 배합하여 이루어진 피부 또는 모발용 세정제 조성물

3 청구항 7 삭제 청구항 8 제3항 또는 제5항에 있어서, 액체 세정제 조성물인 것을 특징으로 하는 피부 또는 모발용 세정제 조성물. 청구항 9 삭제 청구항 10 제3항 또는 제5항에 있어서, (A)와 (B)의 배합 비율이 (A)/(B) = 95/5~80/20(중량%비)인 피부 또는 모발용 세정제 조성물. 청구항 11 제3항 또는 제5항에 있어서, (E)의 함유량이 세정제 조성물 전체의 0.01~3 중량%인 피부 또는 모발용 세정제 조성물. 청구항 12 제3항 또는 제5항에 있어서, (E)의 함유량이 세정제 조성물 전체의 0.1~3 중량%인 피부 또는 모발용 세정제 조성물. 명 세 서 [0001] 기 술 분 야 본 발명은 황산염형 음이온 계면활성제와, N-아실-α-알라닌 또는 그의 염과, 양성 계면활성제, 양이온성 고 분자, 실리콘 화합물 및 유성 원료로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물을 필수 성분으로 서 함유하는 세정제 조성물에 관한 것으로서, 상세하게는, 세정시에 거품이 빨리 일고, 거품량, 거품의 퍼짐, 거품 유지가 우수하며, 헹굼시의 감촉은 피부 및 모발에 대하여 잔류감, 뻣뻣함을 부여하지 않고, 건조후의 감촉은 피부에 대해서는 촉촉하고 또한 산뜻한 사용감을 부여하며, 모발에 대해서는 촉촉함을 부여하는 동시 에 부드러움과 가벼움을 부여할 수 있는 피부 또는 모발용 세정제 조성물에 관한 것이다. [0002] [0003] [0004] [0005] 배 경 기 술 종래부터, 알킬황산에스테르염, 폴리옥시에틸렌알킬에테르황산염, 고급 지방산 비누로 대표되는 음이온 계면 활성제나 베타인형 양성 계면활성제가 그 거품량, 세정력이 높기 때문에, 이들을 주된 세정 성분(세정제 성분)으로 하는 피부 또는 모발용 세정제(세정제 조성물)가 사용되고 있다. 그러나, 이러한 세정제(세정제 조 성물)에 있어서는 피부에 대해서는 헹굼시에 잔류감이 있고, 또한 뻣뻣한 느낌이 강하며, 건조시에는 푸석푸 석함을 부여한다고 하는 결점이 있고, 모발에 대해서는 헹굼시에 잔류감이 있으며, 또한 뻣뻣한 느낌이 강하 고, 건조시에는 부스스함이 강하여 모발을 하나로 모으기 어려워지는 등의 결점이 있었다. 헹굼시의 뻣뻣함 완화, 대전방지 등의 목적으로 양이온화 셀룰로오스와 같은 양이온성 고분자 컨디셔닝제가 피부 또는 모발용 액체 세정제(세정제 조성물)에 사용되고 있지만, 양이온화 셀룰로오스는 충분한 효과를 내 기 위해서 대량으로 배합하면, 거품의 질을 나쁘게 하여 다시 헹굴 때 및 건조 후에 잔류감을 느끼게 한다고 하는 문제가 있었다. 실리콘 화합물은 모발에 광택을 부여하고, 미끄러짐을 좋게 하는 등의 목적으로 샴푸에 사용되고 있지만, 실 리콘 화합물은 충분한 효과를 내기 위해서 대량으로 배합하면 거품의 질, 세정시의 헹굼성을 저하시키고, 또 한 건조 후, 모발은 부스스함이 강하여 모발을 하나로 모으기 어려워진다고 하는 문제점이 있었다. 피부나 모발에 대하여, 특히 건조후의 촉촉함을 부여하기 위해서 세정제(세정제 조성물)에 여러 가지 유지가 배합 사용되지만, 그 많은 부분이 세정시에 씻겨내어져 건조후의 피부나 모발에 촉촉함을 효과적으로 부여하 기 어렵고, 충분한 효과를 내기 위해서 대량으로 배합하면 거품의 질을 나쁘게 한다고 하는 문제점이 있었다

4 [0006] [0007] [0008] [0009] 또한, 글리세린, 프로필렌글리콜, 젖산소다 등은 보습제로서 알려져 있지만, 이들 보습제를 단순히 세정제에 조합하기만 한 세정제 조성물로서는 피부나 모발의 촉촉함을 충분히 향상시킬 수는 없다. 특허 공표 평성 제 호 공보에서는 폴리옥시에틸렌알킬에테르황산염과 양성 계면활성제와 N-아실사르코 신염과 양이온화 셀룰로오스를 배합한 세정제 조성물이 개시되어 있다. 그러나, 이 세정제 조성물은 피부나 모발에 대하여, 헹굼시에 잔류감이 있고, 또한 건조시의 촉촉함을 얻을 수 없다고 하는 문제점이 있었다. 또 한, 미국 특허 제 호 명세서 및 미국 특허 제 호 명세서에서는 상기한 특허 공표 평성 제 호 공보에 개시된 조성물에 고급 알코올을 더 첨가한 세정제 조성물이 개시되어 있지만, 헹굼시의 잔류 감은 개선되지 않고, 건조시의 촉촉함은 얼마쯤 향상되지만, 산뜻함이 뒤떨어져 모발에 있어서는 부드러움 및 가벼움을 쉽게 부여하지 않는다고 하는 문제점이 있었다. 또한, 일본 특허 공개 평성 제 호 공보나 일본 특허 공개 평성 제 호 공보에서는, 폴리옥시에 틸렌알킬에테르황산염과, 양성 계면활성제와, N-아실사르코신염, N-아실-N-메틸-β-알라닌염 및 N-아실글루타 민산염 등에서 선택되는 화합물과, 메틸폴리실록산을 배합하는 샴푸 조성물이 개시되어 있지만, 이 조성물은 모발에 있어서 헹굼시의 뻣뻣함이나 건조후의 부드러움 및 가벼움의 점에서 뒤떨어진다고 하는 문제점이 있었 다. 상기 사정을 감안하여 본 발명은 세정시에 거품이 빨리 일고, 거품량, 거품의 퍼짐, 거품 유지가 우수하며, 또한, 헹굼시의 감촉은 피부 및 모발에 대하여 잔류감, 뻣뻣함을 부여하지 않고, 또한, 건조후의 감촉이 피부 에 대해서는 촉촉하고 또한 산뜻한 사용감을 부여하며, 모발에 대해서는 촉촉함과 동시에 부드러움과 가벼움 을 부여할 수 있는 피부 또는 모발용 세정제 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다. [0010] [0011] [0012] [0013] [0014] 발명의 상세한 설명 본 발명의 발명자들은 상기 목적을 달성하기 위해 예의 연구한 결과, (A) 황산염형 음이온 계면활성제 및 (B) N-아실-α-알라닌 또는 그의 염과 함께 (C) 양성 계면활성제, (D) 양이온성 고분자, (E) 실리콘 화합물 및 (F) 유성 원료로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종의 화합물을 배합하고, 이들 배합량비를 특정 범위로 조정함으로써, 상기 목적을 달성할 수 있는 것을 발견하여 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 즉, 본 발명은 하기 (1) 내지 (9)에 관한 것이다. (1) 하기 (A), (B) 및 (C)를 함유하는 세정제 조성물로서, (A)와 (B)의 배합 비율이 (A)/(B) = 99/1~70/30 (중량%비)이며, 또한, 이 조성물 중의 전체 계면활성제 성분 중에서 (A) 혹은 (C)의 농도가 가장 높은 것을 특징으로 하는 피부 또는 모발용 세정제 조성물: (A) 황산염형 음이온 계면활성제 (B) 하기 화학식 I로 표시되는 N-아실-α-알라닌 또는 그의 염 화학식 I [0015] [0016] [0017] [0018] [0019] [0020] 상기 식에서, R은 탄소수가 8~26인 포화 또는 불포화 아실기를 나타낸다. (C) 양성 계면활성제 (2) 하기 (A), (B) 및 (D)를 함유하는 세정제 조성물로서, (A)와 (B)의 배합 비율이 (A)/(B) = 99/1~70/30 (중량%비)이며, 또한, 이 조성물 중의 전체 계면활성제 성분 중에서 (A)의 농도가 가장 높은 것을 특징으로 하는 피부 또는 모발용 세정제 조성물: (A) 황산염형 음이온 계면활성제 (B) 하기 화학식 I로 표시되는 N-아실-α-알라닌 또는 그의 염 - 4 -

5 [0021] [화학식 I] [0022] [0023] [0024] [0025] [0026] [0027] [0028] 상기 식에서, R은 탄소수가 8~26인 포화 또는 불포화 아실기를 나타낸다. (D) 양이온성 고분자 (3) 하기 (A), (B) 및 (E)를 함유하는 세정제 조성물로서, (A)와 (B)의 배합 비율이 (A)/(B) = 99/1~70/30 (중량%비)이며, 또한, 이 조성물 중의 전체 계면활성제 성분 중에서 (A)의 농도가 가장 높은 것을 특징으로 하는 피부 또는 모발용 세정제 조성물: (A) 황산염형 음이온 계면활성제 (B) 하기 화학식 I로 표시되는 N-아실-α-알라닌 또는 그의 염 [화학식 I] [0029] [0030] [0031] [0032] [0033] [0034] [0035] 상기 식에서, R은 탄소수가 8~26인 포화 또는 불포화 아실기를 나타낸다. (E) 실리콘 화합물 (4) 하기 (A), (B) 및 (F)를 함유하는 세정제 조성물로서, (A)와 (B)의 배합 비율이 (A)/(B) = 99/1~70/30 (중량%비)이며, 또한, 이 조성물 중의 전체 계면활성제 성분 중에서 (A)의 농도가 가장 높은 것을 특징으로 하는 피부 또는 모발용 세정제 조성물: (A) 황산염형 음이온 계면활성제 (B) 하기 화학식 I로 표시되는 N-아실-α-알라닌 또는 그의 염 [화학식 I] [0036] [0037] [0038] [0039] [0040] [0041] [0042] 상기 식에서, R은 탄소수가 8~26인 포화 또는 불포화 아실기를 나타낸다. (F) 유성 원료 (5) 하기 (A) 및 (B)와, 하기 (C), (D), (E) 및 (F)에서 선택되는 2종 이상을 함유하는 세정제 조성물로서, (A)와 (B)의 배합 비율이 (A)/(B) = 99/1~70/30(중량%비)이며, 또한, 이 조성물 중의 전체 계면활성제 성분 중에서 (A) 혹은 (C)의 농도가 가장 높은 것을 특징으로 하는 피부 또는 모발용 세정제 조성물: (A) 황산염형 음이온 계면활성제 (B) 하기 화학식 I로 나타내는 N-아실-α-알라닌 또는 그의 염 [화학식 I] [0043] [0044] 상기 식에서, R은 탄소수가 8~26인 포화 또는 불포화 아실기를 나타낸다. [0045] (C) 양성 계면활성제 - 5 -

6 [0046] [0047] [0048] [0049] [0050] [0051] [0052] [0053] [0054] [0055] [0056] [0057] [0058] [0059] [0060] [0061] [0062] (D) 양이온성 고분자 (E) 실리콘 화합물 (F) 유성 원료 (6) 상기 (1) 내지 (5) 중 어느 하나에 기재한 세정제 조성물에 (G) 지방산 또는 그의 염을 더 배합하여 이루 어진 피부 또는 모발용 세정제 조성물. (7) (B) N-아실-α-알라닌 또는 그의 염이 N-아실-L-알라닌 또는 그의 염인 것을 특징으로 하는 상기 (1) 내 지 (6) 중 어느 하나에 기재한 세정제 조성물. (8) 액체 세정제 조성물인 것을 특징으로 하는 상기 (1) 내지 (7) 중 어느 하나에 기재한 세정제 조성물. (9) 상기 (1) 내지 (7) 중 어느 하나에 기재한 세정제 조성물을 함유하는 피부 또는 모발용 세정제. 이하, 본 발명을 상세히 설명한다. 본 발명의 세정제 조성물에 사용되는 성분 (A)의 황산염형 음이온 계면활성제로서는 공지의 황산염형 음이온 계면활성제를 제한 없이 사용할 수 있지만, 그 중에서도 알킬황산염, 에테르황산염형 음이온 계면활성제 등이 바람직하다. 상기 알킬황산염형 음이온 계면활성제는 탄소 원자수 8~22의 직쇄 또는 분지쇄의 포화 또는 불포화 고급 알 코올과 황산과의 에스테르염으로서, 예컨대, 라우릴황산염, 미리스틸황산염, 올레일황산염 등을 들 수 있다. 또한, 상기 에테르황산염형 음이온 계면활성제는 상기 알킬황산염의 알킬렌옥사이드 부가형으로서, 예컨대, 폴리옥시에틸렌라우릴에테르황산염, 폴리옥시에틸렌미리스틸에테르황산염, 폴리옥시에틸렌올레오일에테르황산 염 등을 들 수 있다. 이들 음이온 계면활성제에 있어서의 염기 성분으로서는 나트륨, 칼륨 등의 알칼리 금속; 마그네슘, 칼슘 등의 알칼리 토류 금속; 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민 등의 알칸올아민, 2-아미노-2-메틸-1-프로 판올, 2-아미노-2-메틸-1,3-프로판디올 등의 아미노알코올, 리신, 오르니틴, 아르기닌 등의 염기성 아미노산 등의 유기 아민 및 암모니아 등의 무기 아민 등을 들 수 있고, 이들 염기 성분은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 본 발명에 있어서, 상기 성분 (A)의 황산염형 음이온 계면활성제는 1종 또는 2종 이상을 병용하여도 좋고, 또 한, 그 배합량은 목적으로 하는 제품(즉, 세정제 조성물의 구체적 용도)에 의해 적절하게 결정되지만, 거품의 발생이나 거품량이라는 관점에서 조성물 전체의 통상 1~60 중량%, 바람직하게는 3~15 중량%, 더욱 바람직하 게는 5~15 중량%이다. 본 발명에서 사용하는 성분 (B)의 N-아실-α-알라닌 또는 그의 염은 상기 화학식 I로 표시되는 화합물 또는 염으로 이루어지고, N-아실-D-알라닌, N-아실-L-알라닌, N-아실-DL-알라닌 및 이들로부터 선택되는 2종 이상 의 혼합체를 포함한다. 상기 화학식 I에서 R로 표시되는 탄소 원자수가 8~26인 포화 또는 불포화 아실기는 분지쇄라도 좋고 직쇄라 도 좋으며, 예컨대, 카프릴로일, 카프릴노일, 라우로일, 미리스토일기, 팔미토일기, 스테아로일기, 올레오일 기 등을 들 수 있다. 본 발명에 있어서, 이 화학식 I의 화합물은 식 중 R로 표시되는 아실기가 동일한 단일 화합물이어도 좋고, 이 아실기가 다른 화합물의 혼합물이어도 좋다. 이러한 혼합물로서는 야자유 지방산, 우지 지방산, 경화 우지 지 방산, 피마자유 지방산, 올리브유, 팜유 지방산 등의 천연에서 얻어지는 혼합 지방산 혹은 합성에 의해 얻어 지는 지방산(분지쇄 지방산을 함유함) 유래의 아실기를 갖는 화합물 등을 들 수 있다. 이 화학식 I의 화합물 은 바람직하게는 식 중 R은 혼합 지방산 유래의 아실기로서, 그 경우, 아실기(즉 R)의 평균 탄소 원자수는 8 ~26, 바람직하게는 8~18이며, 특히 바람직한 혼합 지방산 유래의 아실기는 야자유 지방산 유래의 아실기이 다. 화학식 I의 화합물 염으로서는 알칼리 금속(예컨대, 나트륨, 칼륨 등), 알칼리 토류 금속(예컨대, 마그네슘, 칼슘 등), 유기 아민 등을 염기 성분으로 하는 염을 들 수 있고, 여기서, 유기 아민은 예컨대 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민 등의 알칸올아민, 2-아미노-2-메틸-1-프로판올, 2-아미노- 2-메틸-1,3-프로판디올 등의 아미노알코올, 리신, 오르니틴, 아르기닌 등의 염기성 아미노산류 등을 들 수 있 - 6 -

7 다. 이 염(염기 성분)은 제품 형태의 안정성, 용해성이 높고, 또한 이들을 입수하기 용이하기 때문에, 알칼리 금속염, 알칸올아민, 염기성 아미노산류 등이 바람직하며, 제품 형태의 안정성 등으로부터 알칼리 금속염이 보다 바람직하고, 거품의 퍼짐이나 거품 유지라는 관점에서 나트륨염이 가장 바람직하다. [0063] [0064] [0065] [0066] [0067] [0068] [0069] [0070] 화학식 I의 화합물 또는 그의 염의 바람직한 구체예로서는 예컨대 N-야자유 지방산 아실-DL-알라닌나트륨염, N-야자유 지방산 아실-L-알라닌나트륨염, N-야자유 지방산 아실-DL-알라닌칼륨염, N-야자유 지방산 아실-L-알 라닌칼륨염, N-야자유 지방산 아실-DL-알라닌트리에탄올아민염, N-야자유 지방산 아실-L-알라닌트리에탄올아 민염, N-야자유 지방산 아실-DL-알라닌리신염, N-야자유 지방산 아실-L-알라닌리신염, N-야자유 지방산 아실- DL-알라닌아르기닌염, N-야자유 지방산 아실-L-알라닌아르기닌염, N-라우로일-DL-알라닌나트륨염, N-라우로일 -L-알라닌나트륨염, N-라우로일-DL-알라닌칼륨염, N-라우로일-L-알라닌칼륨염, N-라우로일-DL-알라닌트리에탄 올아민염, N-라우로일-L-알라닌트리에탄올아민염, N-미리스토일-DL-알라닌나트륨염, N-미리스토일-L-알라닌나 트륨염, N-미리스토일-DL-알라닌칼륨염, N-미리스토일-L-알라닌칼륨염, N-미리스토일-DL-알라닌트리에탄올아 민, N-미리스토일-L-알라닌트리에탄올아민염, N-스테아로일-DL-알라닌나트륨염, N-스테아로일-L-알라닌나트륨 염, N-스테아로일-DL-알라닌칼륨염, N-스테아로일-L-알라닌칼륨염, N-스테아로일-DL-알라닌트리에탄올아민염, N-스테아로일-L-알라닌트리에탄올아민염을 들 수 있다. 본 발명에 있어서, 성분 (B)의 N-아실-α-알라닌 또는 그의 염은 그 입수가 용이하기 때문에 N-아실-DL-알라 닌 또는 그의 염, N-아실-L-알라닌 또는 그의 염이 바람직하고, 세정제의 헹굼시의 잔류감이 적다는 등의 관 점에서 N-아실-L-알라닌 또는 그의 염을 사용하는 것이 특히 바람직하다. 이상으로부터, 본 발명에 있어서의 가장 바람직한 N-아실-α-알라닌 또는 그의 염[성분 (B)]은 N-야자유 지방 산 아실-L-알라닌나트륨염이다. 본 발명에 있어서, 성분 (B)의 N-아실-α-알라닌 또는 그의 염은 1종을 이용하여도 좋고 2종 이상을 병용하여 도 좋으며, 그 배합량은 목적으로 하는 제품(즉, 세정제 조성물의 구체적 용도)에 의해 적절하게 결정되고, 특별히 제한되지 않지만, 조성물 전체에 대해 통상 0.03~10 중량%, 바람직하게는 0.1~5 중량%, 보다 바람직 하게는 0.1~3 중량%이다. 본 발명의 세정제 조성물에 있어서는 성분 (A)의 황산염형 음이온 계면활성제와 성분 (B)의 N-아실-α-알라닌 또는 그의 염과의 배합 비율이 (A)/(B) = 99/1~70/30(중량%비)인 것이 중요하다. 이 배합 비율을 벗어나 성 분 (A)의 양이 지나치게 많은[성분 (B)의 양이 지나치게 적은] 경우, 헹굼시나 건조시의 피부나 모발에 대한 감촉이 나빠지고, 한편, 성분 (A)의 양이 지나치게 적은[성분 (B)의 양이 지나치게 많은] 경우, 거품량, 거품 유지의 관점에서 세정제의 기본 성능이 뒤떨어지며, 또한 건조시의 피부에 대한 감촉도 나빠지게 된다. 본 발 명에 있어서, 성분 (A)와 성분 (B)의 배합 비율 [(A)/(B)]는 바람직하게는 99/1~80/20(중량%비), 보다 바람 직하게는 95/5~80/20(중량%비)이다. 본 발명에서 사용되는 성분 (C)의 양성 계면활성제는 특별히 제한되지 않고 공지의 양성 계면활성제를 사용할 수 있지만, 그 중에서도 카르보 베타인형 양성 계면활성제, 아미드 베타인형 양성 계면활성제, 술포 베타인형 양성 계면활성제, 히드록시 술포 베타인형 양성 계면활성제, 아미드 술포 베타인형 양성 계면활성제, 포스포 베타인형 양성 계면활성제, 이미다졸린형 양성 계면활성제 등이 바람직하며, 특히 바람직하게는 아미드 베타 인형 양성 계면활성제이다. 이들의 구체예로서는 라우릴디메틸아미노초산 베타인, 야자유 알킬 베타인, 스테 아릴디메틸아미노초산 베타인, 스테아릴디히드록시에틸 베타인, 라우르산아미드프로필 베타인, 야자유 지방산 아미드프로필 베타인(코코아미드프로필 베타인)액, 팜핵유 지방산 아미드프로필 베타인액, 리시놀레산아미드 프로필 베타인액, N-야자유 지방산 아실-N-카르복시에틸-N-히드록시에틸에틸렌디아민염, 팜핵유 지방산 아실- N-카르복시에틸-N-히드록시에틸에틸렌디아민염, 2-알킬-N-카르복시메틸-N-히드록시에틸이미다졸륨베타인, 운 데실-N-카르복시메틸이미다졸리늄 베타인, 염산알킬디아미노에틸글리신액, 비스(스테아릴-N-히드록시에틸이미 다졸린)클로르 초산 착체 등을 들 수 있다. 본 발명에 있어서, 성분 (A) 및 성분 (B)와 함께 성분 (C)가 병용됨으로써 이러한 성분 (A), (B) 및 (C)를 함 유하는 세정제 조성물(제1 형태의 세정제 조성물)은 피부에 있어서는 헹굼시의 잔류감과 건조후의 촉촉함에 있어서 바람직한 결과를 얻을 수 있고, 또한 모발에 있어서는 헹굼시의 잔류감과 건조후의 부드러움 및 가벼 움(부드러움과 가벼움)에 있어서 바람직한 결과를 얻을 수 있는 세정제 조성물이 된다. 또한, 성분 (C)의 양성 계면활성제는 1종을 이용하여도 좋고, 2종 이상을 병용하여도 좋으며, 그 배합량은 목 적으로 하는 제품(즉, 세정제 조성물의 구체적 용도)에 의해 적절하게 결정되고, 특별히 제한되지 않지만, 조 성물 전체에 대해 통상 0.5~15 중량%, 바람직하게는 2~10 중량%이다

8 [0071] [0072] [0073] [0074] [0075] [0076] [0077] [0078] 또한, 이 조성물(제1 형태의 세정제 조성물)에 있어서는 거품량, 거품 유지라는 세정제의 기본 성능의 관점에 서 조성물 중의 전체 계면활성제 성분 중에서 성분 (A) 혹은 성분 (C)의 농도가 가장 높아지는 조성 비율로 하는 것이 바람직하다. 본 발명에서 사용되는 성분 (D)의 양이온성 고분자는 특별히 제한되지 않고 공지의 양이온성 고분자를 사용할 수 있지만, 그 중에서도 키토산, 부분 가수분해 키틴, 키토산?dl-피롤리돈카르복실산염, 숙시닐키토산, 히드 록시프로필키토산 등의 키틴 유도체; 염화디메틸디알릴암모늄?아크릴아미드 공중합체, 폴리염화디메틸메틸렌 피페리디늄 등의 염화디메틸디알릴암모늄 유도체; 염화 O-[2-히드록시-3-(트리메틸암모니오)프로필]히드록시 에틸셀룰로오스, 염화 O-[2-히드록시-3-(라우릴디메틸암모니오)프로필]히드록시에틸셀룰로오스 등의 양이온화 셀룰로오스; 염화 O-[2-히드록시-3-(트리메틸암모니오)프로필]구아검 등의 양이온화 구아검; 메타크릴로일에 틸디메틸베타인?염화메타크릴로일에틸트리메틸암모늄?메타크릴산메톡시폴리에틸렌글리콜 공중합체, 메타크릴 로일에틸디메틸베타인?염화메타크릴로일에틸트리메틸암모늄?메타크릴산2-히드록시에틸 공중합체, 비닐피롤리 돈?N,N-디메틸아미노에틸메타크릴산 공중합체 디에틸황산염 등의 메타크릴산 유도체; 비닐이미다졸리늄메타클 로라이드?비닐피롤리돈 공중합체 등이 바람직하고, 특히 바람직하게는 양이온화 셀룰로오스, 양이온화 구아검 등이다. 본 발명에 있어서, 성분 (A) 및 성분 (B)와 함께 성분 (D)가 병용됨으로써, 이러한 성분 (A), (B) 및 (D)를 함유하는 세정제 조성물(제2 형태의 세정제 조성물)은 특히 피부에 있어서는 헹굼시의 뻣뻣함과 건조후의 촉 촉함에 있어서 바람직한 결과를 얻을 수 있고, 또한 모발에 있어서는 헹굼시의 뻣뻣함과 건조후의 촉촉함과 부드러움 및 가벼움(부드러움과 가벼움)에 있어서 바람직한 결과를 얻을 수 있는 세정제 조성물이 된다. 또한, 성분 (D)의 양이온성 고분자는 1종을 이용하여도 좋고, 2종 이상을 병용하여도 좋으며, 그 배합량은 목 적으로 하는 제품(즉, 세정제 조성물의 구체적 용도)에 의해 적절하게 결정되고, 특별히 제한되지 않지만, 조 성물 전체에 대해 통상 0.01~2 중량%, 바람직하게는 0.01~0.5 중량%이다. 또한, 이러한 성분 (A), (B) 및 (D)를 함유하는 세정제 조성물(제2 형태의 세정제 조성물)에 있어서도 성분 (A)와 성분 (B)의 배합 비율 [(A)/(B)]는 상기와 동일한 관점에서 상기한 규정 범위 내로 하는 것이 중요하고, 또한, 조성물은 그 전체 계면활성제 성분 중에서 성분 (A)의 농도가 가장 높아지는 조성으로 하는 것이 거품량, 거품 유지라고 한 세정제의 기본 성능의 관점에서 중요하다. 또한, 이 조성물에 있어서는 상기 한 성분 (C)를 더 함유하고 있는 것이 바람직하고, 이 경우에는 상기와 동일한 관점에서 조성물은 그 전체 계 면활성제 성분 중에서 성분 (A) 혹은 성분 (C)의 농도가 가장 높아지는 조성으로 하는 것이 보다 바람직하다. 본 발명에 있어서 계면활성제 란 일반적으로 계면 활성능을 갖는 물질을 가리킨다. 따라서, 성분 (A), 성 분 (C)는 물론, 성분 (B)도 본 발명에서 말하는 계면활성제이며, 또한, 후술하는 성분 (G)의 지방산 또는 그 의 염(고급 지방산 비누류)도 계면활성제이다. 또한, 본 발명의 조성물에 있어서는 이들 계면활성제[성분 (A), 성분 (B), 성분 (C), 성분(G)] 이외에 아실아미노산염류[단, 성분 (A)의 N-아실-α-알라닌염 을 제외 함], 알킬에테르인산에스테르염류 등의 음이온 계면활성제, 염화알킬트리메틸암모늄, 염화디알킬디메틸암모늄 등의 양이온 계면활성제, 폴리옥시에틸렌형, 다가 알코올에스테르형, 당 에스테르형당의 비이온 계면활성제, 기타 고분자 계면활성제나 천연 계면활성제 등의 계면활성제가 배합되어 있어도 좋다. 본 발명에 있어서, 조성물 중의 전체 계면활성제 성분 중에서 성분 (A)[혹은 성분 (C)]의 농도가 가장 높아 진다 라고 하는 것은 상기 임의의 계면활성제를 함유하는 경우에 있어서도 조성물 중의 전체 계면활성제 성 분 중에서 성분 (A)[혹은 성분 (C)]의 농도가 가장 높은(함유량이 많은) 것을 의미한다. 본 발명에서 사용되는 성분 (E)의 실리콘 화합물은 특별히 제한되지 않고 공지의 실리콘 화합물을 사용할 수 있지만, 그 중에서도 실리콘수지, 메틸페닐폴리실록산, 메틸폴리실록산, 옥타메틸시클로테트라실록산, 디메틸 실록산?메틸(폴리옥시에틸렌)실록산 공중합체, 데카메틸시클로펜타실록산, 디메틸실록산?메틸(폴리옥시에틸렌?폴리옥시프로필렌)실록산 공중합체, 메틸하이드로겐폴리실록산, 도데카메 틸시클로헥사실록산, 메틸폴리시클로실록산, 디메틸실록산?메틸스테아릴옥시실록산 공중합체, 메틸폴리실록산 에멀젼, 옥타메틸트리실록산, 환형 실리콘수지, 고중합 메틸폴리실록산, 테트라데카메틸헥사실록산, 트리메틸 실록시규산, 폴리에테르 변성 오르가노폴리실록산, 플루오로알킬폴리옥시알킬렌 공변성 오르가노폴리실록산, 알킬 변성 오르가노폴리실록산, 말단 변성 오르가노폴리실록산, 불소 변성 오르가노폴리실록산, 아모디메티콘, 아미노 변성 오르가노폴리실록산, 실리콘 겔, 아크릴실리콘, 트리메틸실록시규산, 실리콘 RTV 고무 등이 바람직하고, 특히 바람직하게는 메틸폴리실록산, 고중합 메틸폴리실록산, 데카메틸시클로펜타실록 산, 아모디메티콘이다

9 [0079] [0080] [0081] [0082] [0083] [0084] [0085] [0086] [0087] [0088] 본 발명에 있어서, 성분 (A) 및 성분 (B)와 함께 성분 (E)가 병용됨으로써, 이러한 성분 (A), (B) 및 (E)를 함유하는 세정제 조성물(제3 형태의 세정제 조성물)은 특히 피부에 있어서는 헹굼시의 뻣뻣함과 잔류감에 있 어서 바람직한 결과를 얻을 수 있고, 또한 모발에 있어서는 헹굼시의 뻣뻣함과 건조후의 부드러움 및 가벼움 (부드러움과 가벼움)에 있어서 바람직한 결과를 얻을 수 있다. 성분 (E)의 실리콘 화합물은 1종을 이용하여도 좋고, 2종 이상을 병용하여도 좋으며, 그 배합량은 목적으로 하는 제품(즉, 세정제 조성물의 구체적 용도)에 의해 적절하게 결정되고, 특별히 제한되지 않지만, 통상 조성 물 전체에 대해 0.01~20 중량%, 바람직하게는 0.1~10 중량%, 더욱 바람직하게는 0.1~3 중량%이다. 또한, 이러한 성분 (A), (B) 및 (E)를 함유하는 세정제 조성물(제3 형태의 세정제 조성물)에 있어서도 성분 (A)와 성분 (B)의 배합 비율 [(A)/(B)]는 상기와 동일한 관점에서 상기한 규정 범위 내로 하는 것이 중요하며, 또한, 조성물은 그 전체 계면활성제 성분 중에서 성분 (A)의 농도가 가장 높아지는 조성으로 하는 것이 상기와 동일한 관점에서 중요하다. 또한, 그 조성물에 있어서는 상기한 성분 (C)를 더 함유하고 있는 것 이 바람직하고, 이 경우에는 상기와 동일한 관점에서 조성물은 그 전체 계면활성제 성분 중에서 성분 (A) 혹 은 성분 (C)의 농도가 가장 높아지는 조성으로 하는 것이 보다 바람직하다. 본 발명에 있어서 사용되는 성분 (F)의 유성 원료는 상기 성분 (E)의 실리콘 화합물을 제외한 유성 화합물로 서, 예컨대, 올리브유, 피마자유라는 트리글리세리드를 주성분으로 하는 유지류, 카나우바 왁스, 칸데릴라 왁 스, 호호바오일이라는 왁스류, 유동 파라핀, 바셀린, 스쿠알렌이라는 탄화수소류, 라우르산, 미리스트산, 팔 미트산, 스테아르산, 이소스테아르산이라는 고급 지방산류, 라우릴알코올, 미리스틸알코올, 세틸알코올, 스테 아릴알코올, 이소스테아릴알코올, 2-옥틸도데칸올이라는 고급 알코올류, 미리스트산이소프로필, 미리스트산2- 옥틸도데실, 2-에틸헥산산세틸이라는 에스테르 유류 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 고급 알코올류 등이 바 람직하다. 본 발명에 있어서, 성분 (A) 및 성분 (B)와 함께 성분 (F)가 병용됨으로써, 이러한 성분 (A), (B) 및 (F)를 함유하는 세정제 조성물(제4 형태의 세정제 조성물)은 특히 피부에 있어서는 헹굼시의 잔류감과 건조후의 촉 촉함에 있어서 바람직한 결과를 얻을 수 있으며, 또한 모발에 있어서는 헹굼시의 잔류감과 뻣뻣함, 건조후의 촉촉함에 있어서 바람직한 결과를 얻을 수 있다. 성분 (F)의 유성 원료는 1종을 이용하여도 좋고, 2종 이상을 병용하여도 좋으며, 그 배합량은 목적으로 하는 제품(즉, 세정제 조성물의 구체적 용도)에 의해 적절하게 결정되고, 특별히 제한되지 않지만, 통상 조성물 전 체에 대해 0.01~10 중량%, 바람직하게는 0.1~5 중량%, 더욱 바람직하게는 0.1~2 중량%이다. 또한, 이러한 성분 (A), (B) 및 (F)를 함유하는 세정제 조성물(제4 형태의 세정제 조성물)에 있어서도 성분 (A)와 성분(B)의 배합 비율 [(A)/(B)]는 상기와 동일한 관점에서 상기한 규정 범위 내로 하는 것이 중요하고, 또한, 조성물은 그 전체 계면활성제 성분 중에서 성분 (A)의 농도가 가장 높아지는 조성으로 하는 것이 상기 와 동일한 관점에서 중요하다. 또한, 이 조성물에 있어서는 상기한 성분 (C)를 더 함유하고 있는 것이 바람직 하고, 이 경우에는 상기와 같은 관점에서 조성물은 그 전체 계면활성제 성분 중에서 성분 (A) 혹은 성분 (C) 의 농도가 가장 높아지는 조성으로 하는 것이 보다 바람직하다. 본 발명의 세정제 조성물은 상기 제1 내지 제4 형태의 조성물의 구성(조성) 중의 적어도 2개 이상을 복합한 구성(조성)의 조성물로 하는 것이 보다 바람직하고, 그와 같은 조성물로 함으로써 더욱 바람직한 결과를 얻을 수 있다. 또한, 본 발명의 세정제 조성물에 있어서 거품의 발생, 거품 유지라는 세정제의 기본 성능이 한층 더 향상되 는 것과, 피부나 모발에 있어서의 헹굼시의 잔류감을 한층 더 저감시키는 것을 목적으로 지방산염 또는 그의 염(고급 지방산 비누류)[=성분(G)]을 더 배합하여도 좋다. 이러한 성분 (G)의 지방산 또는 그의 염은 직쇄 또는 분지쇄형의 포화 또는 불포화 지방산 또는 그의 염으로 서, 탄소수가 동일한 단일 화합물 또는 탄소수가 다른 화합물의 혼합물로 이루어진다. 염의 경우의 염기 성분 으로서는 나트륨, 칼륨 등의 알칼리 금속, 마그네슘, 칼슘 등의 알칼리 토류 금속, 모노에탄올아민, 디에탄올 아민, 트리에탄올아민, 2-아미노-2-메틸-1-프로판올, 2-아미노-2-메틸-1,3-프로판디올 등의 유기 아민, 암모 니아 등의 무기 아민, 리신, 오르니틴, 아르기닌 등의 염기성 아미노산 등을 들 수 있고, 그 중에서도 알칼리 금속이 바람직하다. 이 지방산 또는 그 염은 탄소수(혼합물인 경우의 평균 탄소수)가 8~26이 바람직하고, 특 히 바람직하게는 8~18이며, 구체적으로는 라우르산, 미리스트산, 팔미트산, 스테아르산, 야자유 지방산, 경 화 우지 지방산, 팜유 지방산, 경화 팜유 지방산, 홍화씨유 지방산, 우지 지방산, 베헤닌산, 올레산, 이소스 - 9 -

10 테아르산 등이나 이들 염을 들 수 있고, 그 중에서도 라우르산(염), 미리스트산(염), 팔미트산(염), 야자유 지방산(염)이 바람직하다. [0089] [0090] [0091] [0092] [0093] [0094] 상기 성분 (G)의 지방산 또는 그의 염(고급 지방산 비누류)은 1종을 이용하여도 좋고 2종 이상을 병용하여도 좋으며, 그 배합량은 목적으로 하는 제품(즉, 세정제 조성물의 구체적 용도)에 의해 적절하게 결정되고, 특별 히 제한되지 않지만, 통상 조성물 전체에 대해 0.001~2 중량%, 바람직하게는 0.01~0.5 중량%이다. 또한, 이러한 성분 (G)를 더 배합한 형태의 세정제 조성물에 있어서도 그 전체 계면활성제 성분[성분 (G)를 함유함] 중에서 성분 (A)의 농도가 가장 높아지는 조성으로 하는 것이 상기와 동일한 관점에서 중요하고, 또 한, 성분 (A)와 함께 성분 (C)를 함유하고 있는 조성물로 하는 것이 바람직하며, 이 경우에는 상기와 동일한 관점에서, 조성물은 그 전체 계면활성제 성분[성분 (G)를 함유함] 중에서 성분 (A) 혹은 성분 (C)의 농도가 가장 높아지는 조성으로 하는 것이 보다 바람직하다. 본 발명의 세정제 조성물에는 본 발명의 목적(효과)을 저해하지 않는 범위 내에서 통상 화장료에 이용되는 오 일제, 분체(안료, 색소, 수지), 불소 화합물, 수지, 점제( 粘 劑 ), 고분자, 방부제, 향료, 자외선 흡수제, 보습 제, 다가 알코올, 생리 활성 성분, 염류, 용매, 산화방지제, 항균제, 제한제( 制 汗 劑 ), 킬레이트제, 중화제, ph 조정제 등의 성분을 동시에 배합할 수 있다. 본 발명의 세정제 조성물은 약산성에서 약알칼리성까지의 광범위한 조성물로 조정하여 사용할 수 있지만, 피 부 및 모발에 대한 자극을 낮추는 등의 관점에서 ph 5.0~6.8의 약산성 조성물로 하는 것이 바람직하다. 본 발명의 세정제 조성물의 제형(형태)은 특별히 제한은 없고, 액체형, 페이스트형, 겔형, 고체형, 분말형 등 의 임의의 제형(형태)으로 할 수 있지만, 거품이 이는 속도 등의 관점에서 액체형인 것이 바람직하다. 본 발명의 세정제 조성물은 샴푸, 컨디셔닝 샴푸 등의 각종 모발 세정제 및 세안료, 메이크업 리무버, 클렌징 크림, 바디 샴푸, 핸드 비누, 고형 비누, 쉐이빙 폼, 면도용 크림 등의 각종 피부 세정제로서 사용할 수 있고, 또한, 치약 등으로도 사용할 수 있다. [0095] [0096] [0097] [0098] [0099] [0100] [0101] [0102] [0103] [0104] 실 시 예 이하, 실시예와 비교예를 도시하여 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다. 또한, 본 발명은 이하에 기재한 실 시예에 의해 한정되지 않는다. 제조예 1(N-야자유 지방산 아실-L-알라닌나트륨염의 합성) L-알라닌 30.0 g에 물 167 g을 첨가하여 ph 10.98~11.02, 반응 온도 33~37 를 유지하면서, 야자유 지방산 클로라이드 g과 27 중량% NaOH 수용액을 교반하면서 1시간에 걸쳐 동시에 적가하였다. 1시간 숙성시킨 후, 반응액을 승온하여 75 중량% 황산을 첨가하여 ph를 2.0으로 조정하였다. 80 까지 더 승온하여, 약 10분 간 교반한 후, 10분간 정치시킨 결과 유기층과 수층으로 분리되었기 때문에, 수층 약 200 g을 용기의 하부에 서 제거하였다. 남은 유기층에 뜨거운 물을 첨가하여 다시 80 로 한 후, 10분 교반하고, 10분간 정치하여 분 리된 수층을 제거하여 유기층을 얻었다. 유기층에 27% 수산화나트륨 수용액 및 물을 첨가하여 ph 6.8이 되도 록 조정하고, 목적물(N-야자유 지방산 아실-L-알라닌나트륨염)을 얻었다. 제조예 2(N-야자유 지방산 아실-DL-알라닌나트륨염의 합성) L-알라닌 대신에 DL-알라닌을 사용한 것 이외에는 상기 제조예 1과 동일하게 하여 목적물(N-야자유 지방산 아 실-DL-알라닌나트륨염)을 얻었다. 하기의 표 1에 나타내는 조성의 세정제 조성물(실시예 1~10, 비교예 1~12)을 조제하여 이하의 평가 시험을 행하였다. 또, 각 조성물에 있어서의 표에 기재한 배합 성분 이외의 나머지 성분은 증류수이며, 표에 기재한 각 배합 성분의 양(표 안의 수치)은 조성물 전체를 100으로 했을 때의 중량 분률(%)이다. [평가 시험] 1 거품의 발생, 거품량, 거품의 퍼짐 및 거품 유지 등의 세정제로서의 기본 성능의 평가 5명의 전문 패널리스트에 의한 손 세정 평가로 행하였다. 평가는 하기 채점표로부터 환산되는 평균점이 4.1 이상인 경우를, 3.5~4.0을, 3.0~3.4를, 2.9 이하를 로 하였다. (거품의 발생)

11 [0105] [0106] [0107] [0108] [0109] [0110] [0111] [0112] [0113] [0114] [0115] [0116] [0117] [0118] [0119] [0120] [0121] [0122] [0123] [0124] [0125] [0126] [0127] [0128] [0129] [0130] [0131] 5: 빠르다 4: 약간 빠르다 3: 보통 2: 약간 느리다 1: 느리다 (거품량) 5: 풍부 4: 약간 풍부 3: 보통 2: 약간 부족 1: 부족 (거품의 퍼짐) 5: 양호 4: 약간 양호 3: 보통 2: 약간 바람직하지 못하다 1: 바람직하지 못하다 (거품 유지) 5: 양호 4: 약간 양호 3: 보통 2: 약간 바람직하지 못하다 1: 바람직하지 못하다 2 손 세정 시험 및 모발 세정 시험에 의한 관능 평가 손 세정 시험에서는 헹굼시의 잔류감과 뻣뻣함, 건조후의 촉촉함과 산뜻함을 평가하였다. 모발 세정 시험에서는 헹굼시의 잔류감과 뻣뻣함, 건조후의 촉촉함과 부드러움 및 가벼움(부드러움과 가벼 움)을 5명의 전문 패널리스트가 평가하였다. 평가는 1점(나쁘다)~5점(양호)의 5 단계로 평가하고, 5명의 평균점을 산출하여 평균점이 4.1 이상을, 3.5 ~4.0을, 3.0~3.4를, 2.9 이하를 로서 평가하였다

12 표 1 [0132] [0133] [0134] [0135] [0136] [0137] [0138] [0139] [0140] [0141] [0142] [0143] [0144] 상기 표 1에서 *1: 에말 20C 카오사 제조 *2: 아미소프트 CS-22 아지노모토사 제조 *3: 소이폰 SC 가와켄파인케미컬사 제조 *4: 알라논 ACE 가와켄파이케미컬사 제조 *5: 소프타졸린 CPB 가와켄파인케미컬사 제조 *6: Polymer JR-400 아마콜사 제조 *7: SH200(1만) 도오레?다우코닝사 제조 *8: 라우릴알코올/미리스틸알코올=2/1(중량%) 표 1로부터 알 수 있는 바와 같이, 실시예의 세정제 조성물은 비교예의 조성물에 비하여 세정시에 거품이 빨 리 일고, 거품량, 거품의 퍼짐, 거품 유지가 우수하며, 헹굼시의 감촉은 피부 및 모발에 대하여 잔류감, 뻣뻣 함을 부여하지 않고, 건조후의 감촉은 피부에 대해서는 촉촉하고 또한 산뜻한 사용감을 부여하며, 모발 에 대 해서는 촉촉함을 부여하는 동시에 부드러움과 가벼움을 부여하는 것을 알 수 있다. 실시예 11~실시예 14 하기의 표에 나타내는 처방으로 통상적인 방법에 따라 얻어지는 액체 핸드 비누(실시예 11), 컨디셔닝 샴푸 (실시예 12), 바디 샴푸(실시예 13) 및 샴푸(실시예 14)는 모두 거품의 발생, 거품량, 거품의 퍼짐 및 거품 유지로 이루어진 기본 성능은 양호하고, 또한, 사용감도 우수한 것이다. 또한, 각 표에 기재한 각 배합 성분 의 양(표 안의 수치)은 조성물 전체를 100으로 했을 때의 중량 분률(%)이다. [0145] 표 2 (액체 핸드 비누) 배합물 배합량(wt%) 폴리옥시에틸렌라우릴에테르황산염 8 라우릴황산염 2 N-야자유지방산아실-L-알라닌나트륨염 2 염화나트륨

13 디스테아르산글리콜 1 디메티콘 0.8 세타놀 0.5 코카미드 MEA 1 향료 0.2 시트르산 나트륨 0.2 구아히드록시프로필트리모늄클로라이드 0.2 크실렌술폰산암모늄 0.1 올레핀올리고머 0.1 안식향산염 0.1 에데트산염 0.1 트리(카프릴/카프린산)트리메틸올프로판 0.1 라우레스 시트르산 0.1 판테놀 0.1 판테닐에틸 0.1 메틸클로로이소타이졸린온 0.2 메틸이소티아졸린온 0.2 스테아릴알코올 0.1 물 잔량 [0146] 표 3 컨디셔닝 샴푸 배합물 배합량 폴리옥시에틸렌라우릴에테르황산염 9 염화나트륨 2 N-야자유지방산아실-DL-알라닌트리에탄올아민염 2 코카미드프로필베타인 2 라우릴황산염 1 디메티콘 0.8 디스테아르산글리콜 1 코카미드 MEA 1 라우로일사르코신염 1 크실렌술폰산암모늄 0.5 세타놀 0.5 향료 0.2 폴리쿼터늄 인산 2나트륨 0.1 스테아릴알코올 0.1 인산 나트륨 0.2 에데트산염 0.05 판테닐에틸 0.1 판테놀 0.1 메틸클로로이소티아졸린온 0.01 메틸이소티아졸린온 0.01 벤질알코올 0.05 안식향산염 0.1 안식향산 0.1 물 잔량

14 [0147] 표 4 바디샴푸 배합물 배합량(wt%) 폴리옥시에틸렌라우릴에테르황산염 7 코카미드프로필베타인 3 디스테아르산글리콜 2 N-야자유지방산아실-L-알라닌나트륨염 2 염화나트륨 1 디메티코놀 0.8 아르기닌 0.5 올레산 0.1 라우로일 가수분해 실크나트륨 0.2 실크 추출물 0.1 퍼플루오로폴리메틸이소프로필 0.1 구아히드록시프로필트리모늄클로라이드 0.1 데실글루코시드 1 PPG 시트르산 0.2 코카미드 MEA 0.3 라우레스 도데실벤젠술폰산 TEA 0.5 DPG 0.2 에탄올 0.1 살리실산염 0.2 파라벤 0.2 에데트산염 0.05 디부틸히드록시톨루엔 0.02 안식향산염 0.01 향료 0.1 물 잔량 [0148] 표 5 샴푸 배합물 배합량(wt%) 폴리옥시에틸렌라우릴에테르황산염 6 코카미드 DEA 2 코코암포초산나트륨 1 폴리옥시에틸렌라우릴에테르황산트리에탄올아민 4 N-야자유지방산아실-L-알라닌나트륨염 2 DPG 1 디스테라르산글리콜 2 소르비톨 0.5 마카다미아너트지방산피토스테릴 0.5 가수분해 케라틴 0.2 레시틴 0.2 디메티콘 0.7 양이온화 히드록시에틸셀룰로오스 시트르산 0.2 에테트산염 0.05 올레핀)C14-16)술폰산나트륨 1 라우레스-25 1 염산 TEA 0.5 BG

15 트리에탄올아민 0.2 안식향산염 0.2 파라벤 0.2 향료 0.15 물 잔량 [0149] [0150] 산업상 이용 가능성 이상의 설명에 의해 밝혀진 바와 같이, 본 발명에 따르면, 세정시에 거품이 빨리 일고, 거품량, 거품의 퍼짐, 거품 유지가 우수하며, 또한, 헹굼시에 있어서의 감촉은 피부 및 모발에 대하여 잔류감, 뻣뻣함을 부여하지 않고, 또한, 건조후 의 감촉은 피부에 대해서는 촉촉하고 또한 산뜻한 사용감을 부여하며, 모발에 대해서는 촉촉함을 부여하는 동시에 부드러움과 가벼움을 부여할 수 있는 세정제 조성물을 얻을 수 있다. 본 출원은 일본에서 출원된 일본 특허 출원 제 호를 기초로 하고 있고, 이들의 내용은 본 명세서에 전부 포함된다

명세서 기술분야 본 발명은 2차 전지로부터 유가( 有 價 ) 금속을 회수하는 방법에 관한 것이며, 상세하게는, 폐( 廢 )리튬 이온 전지 및 리튬 이온 전지의 제조 불량품에 함유되는 코발트를 회수하는 리튬 이온 전지내의 코발트 회수 방법 및 코발트 회수 시스템에 관한

명세서 기술분야 본 발명은 2차 전지로부터 유가( 有 價 ) 금속을 회수하는 방법에 관한 것이며, 상세하게는, 폐( 廢 )리튬 이온 전지 및 리튬 이온 전지의 제조 불량품에 함유되는 코발트를 회수하는 리튬 이온 전지내의 코발트 회수 방법 및 코발트 회수 시스템에 관한 (19)대한민국특허청(KR) (12) 공개특허공보(A) (51) Int. Cl. 7 H01M 10/54 B09B 3/00 (11) 공개번호 (43) 공개일자 10-2005-0088093 2005년09월01일 (21) 출원번호 10-2005-7009897 (22) 출원일자 2005년06월01일 번역문 제출일자 2005년06월01일 (86) 국제출원번호 PCT/JP2003/016733

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특허청구의 범위 청구항 1 앵커(20)를 이용한 옹벽 시공에 사용되는 옹벽패널에 있어서, 단위패널형태의 판 형태로 구성되며, 내부 중앙부가 후방 하부를 향해 기울어지도록 돌출 형성되어, 전면이 오 목하게 들어가고 후면이 돌출된 결속부(11)를 형성하되, 이 결속부(11 (51) Int. Cl. (19) 대한민국특허청(KR) (12) 등록특허공보(B1) E02D 29/02 (2006.01) E02D 17/20 (2006.01) E02B 3/14 (2006.01) (21) 출원번호 10-2010-0089517 (22) 출원일자 2010년09월13일 심사청구일자 (56) 선행기술조사문헌 JP2006037700 A* KR100920461

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(72) 발명자 나리사꼬 마꼬또 일본 후꾸이껭 쯔루가시 와까이즈미쪼 1반찌 제이 엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 쯔루가 고오죠오 내 나까무라 야스오 일본 후꾸이껭 쯔루가시 와까이즈미쪼 1반찌 제이 엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 쯔루가 고오죠오 내 야마오 (19) 대한민국특허청(KR) (12) 등록특허공보(B1) (51) 국제특허분류(Int. Cl.) H01M 10/54 (2006.01) H01M 10/0525 (2010.01) B09B 3/00 (2006.01) H01M 4/36 (2006.01) (21) 출원번호 10-2011-0087017 (22) 출원일자 2011년08월30일 심사청구일자 2011년08월30일

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(72) 발명자 오인환 서울 노원구 중계로 195, 101동 803호 (중계동, 신 안동진아파트) 서혜리 서울 종로구 평창14길 23, (평창동) 한훈식 서울 강남구 언주로71길 25-5, 301호 (역삼동, 영 훈하이츠) 이 발명을 지원한 국가연구개발사업 과제고유번호 (19) 대한민국특허청(KR) (12) 등록특허공보(B1) (45) 공고일자 2014년04월14일 (11) 등록번호 10-1384704 (24) 등록일자 2014년04월07일 (51) 국제특허분류(Int. Cl.) F16L 9/18 (2006.01) F17D 1/00 (2006.01) F16L 3/00 (2006.01) (21) 출원번호 10-2012-0113933

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