FALL CONFERENCE OF KSDT, 2019 2019 반도체 / 디스플레이스마트공정을위한 소재 / 장비혁신기술 2019. 11.19.( 화 ) 한양대종합기술원 (HIT 관 ) 6 층 ( 서울성동구왕십리로 222) 주최 한국반도체디스플레이기술학회한양대학교 BK21 사업단 후원 한국반도체산업협회한국반도체연구조합
2019 년추계학술대회 PROGRAM(11 월 19 일 ( 화 )) 1 일시및장소 : 2019 년 11 월 19 일 ( 화 )/ 한양대종합기술원 (HIT 관 ) 6 층 2 주최 : 한국반도체디스플레이기술학회, 한양대학교 BK21 사업단 시간 장소 : 한양대학교종합기술원 (HIT 관 ) 6 층 08:00~ 등록및환담 09:00~09:20 개회사 ( 정진욱조직위원장 ( 한양대 )) 인사말 ( 학회장및한양대부총장 ) - Plenary Session ( 좌장 : 홍문표교수 ( 고려대 )) 09:20~09:50 Plenary (1): 박수남상무 ( 삼성전자생산기술연구소 ): Plasma Technology Trend on Next Generation Semiconductor Equipment 09:50~10:20 Plenary (2): 장비업체전문가 : 디스플레이용진공장비 10:20~10:30 Coffee Break 10:30~11:00 11:00~11:30 11:30~12:00 12:00~13:30 Plenary (3): 장홍영교수 (KAIST): Some thoughts on the physics principles for the plasma industry Plenary (4): 홍문표교수 ( 고려대 ): Stretchable AMOLED 실현 : 새로운소재 공정 장비의개척 Plenary (5): 최준기담당 (SK 하이닉스 ): 반도체장비및국산화관련이슈 점심 : 벽제갈비 (Poster Session) - Session 1 소자 : 이장식교수 ( 포항공대 ) Session 2 장비 : 유신재교수 ( 충남대 ) Session 3 재료 ( 소재 ): 김태성교수 ( 성균관대 ) Session 4 부품및센서 : 홍상진교수 ( 명지대 ) 13:30~14:00 Invited(1): 정재경교수 ( 한양대 ) Invited(1): 서상훈연구소장 ( 윈텔 ): New high-power highdensity plasma source and its applications to new hard-mask removal processes Invited(1): 임상우교수 ( 연세대 ): 3D NAND 제작을위한 Selective Nitride Etching 공정기술 Invited(1): 정병화수석 ( 한국알박 ): Semiconductor Sputter Process Diagnosis Technology 14:00~14:20 Invited(2): 우지용박사 ( 한국전자통신연구원 ): 뉴로모픽컴퓨팅을위한시냅스및뉴런소자 김경남교수 ( 대전대 ): 다중주파수를이용한플라즈마소스개발및특성연구 박동섭책임 ( 삼성디스플레이 ): 단결정 2 차원재료의 OLED 적용 홍보한이사 ( 코멧테크놀러지코리아 ): RF match and generator 최근기술개발동향 14:20~14:40 Invited(3): 조성재교수 ( 가천대 ) 김진중이사 ( 뉴파워프라즈마 ) 안영기교수 ( 대림대 ): CMP 후세정용 PVA 브러쉬개발 이준용대표 ( 레인보우코퍼레이션 ): 실시간플라즈마공정진단센서개발동향 다음장에계속이어집니다.
시간 장소 : 한양대학교종합기술원 (HIT 관 ) 6 층 14:40~15:00 Invited(4): 이장식교수 ( 포스텍 ) 유신재교수 ( 충남대 ): Research activities on plasma source development in APPLE-CNU 박상현수석 ( 한국 3M): 액체여과및분리기술 백인혁부사장 ( 링크제네시스 ): 반도체장비통신 SW 표준화동향 15:00~15:30 Poster Session(1 분발표 : 각 Session 별진행 ) & Coffee Break 15:30~15:50 오영택 ( 한양대 ): 소자내 ( 內 ) 잔류응력이메모리셀특성에미치는영향성연구 이정렬박사 ( 부산대 ) 홍석준 ( 성균관대 ): CMP 패드 Groove 에관한연구 조철희 ( 충남대 ): 고정밀고주파파워계측센서개발 15:50~16:10 구보철 ( 한양대 ): Atomic Switch with Organic-Inorganic CH 3 NH 3 PbI 3 Perovskite Thin Film for Artificial Synaptic Device 이영석 ( 충남대 ): 고속 SiO 2 원자층식각을위한유도결합플라즈마소스특성 김주환 ( 성균관대 ): 서로다른크기를갖는콜로이달실리카를이용한혼합입자슬러리에관한연구 최정은 ( 명지대 ): 인공지능기술을이용한 ACL 증착공정모델링 16:10~16:40 Plenary (6): 박종철마스터 ( 삼성전자반도체연구소 ): EUV Patterning 시대를위한플라즈마에칭기술의전망 16:40~17:10 Plenary (7): 백지호담당 (LG 디스플레이 ): OLED 기술동향 17:10~17:30 Coffee Break 17:30~17:50 우수논문시상식 18:00~20:00 만찬 ( 학회임원진및관계자 ) * 상기프로그램은다소변경될수있습니다.
논문발표 ( 초록 ) 안내 1. 구두발표 1 반도체 / 디스플레이소자 / 패널기술 2 반도체 / 디스플레이장비기술 3 반도체 / 디스플레이재료 ( 소재 ) 기술 4 공정진단기술 2. 포스터발표 1 반도체소자및디스플레이패널 2 에너지하베스팅 / 변환 / 저장 3 반도체 / 디스플레이센서및부품 4 첨단패키지기술 5 반도체 / 디스플레이데이터마이닝기술 6 반도체 / 디스플레이장비및측정기술 7 반도체 / 디스플레이분석및진단기술 8 반도체 / 디스플레이 RF 및플라즈마기술 9 기타분야 3. 발표형태및안내 1 발표형태 : 구두발표및포스터발표 2 구두발표 : 20분간 ( 질의응답포함 ) 발표내용을소개함 (USB 지참 ). 포스터발표판의크기는약 90cm*110cm( 전지사이즈 ), A4용지 10매내외부착가능. 4. 발표논문 ( 초록 ) 제출 제출마감일 : 2019년 11월 1일 ( 금 ) 제출서류 : 초록발표신청서및초록 (A4 용지 1페이지이내 ) (* 구두발표또는포스터발표의발표분야및해당분야에꼭체크해주시기바랍니다.) 논문제출처 : 학회 e-mail(ksdt@ksdt.kr) 로송부문의 : ( 사 ) 한국반도체디스플레이기술학회사무국박창중실장전화 : 02-575-5744 이메일 : ksdt@ksdt.kr 우수발표논문시상 행사당일 17 시 30 분에우수논문시상예정임 ( 상장과부상수여 )
안내사항 2019 년추계학술대회등록비안내 1. 사전등록및결제방법 1 사전등록방법 ~ 11/5( 화 ) 까지선착순접수 ( 이메일및등록비입금 ) * 참석자정보 ( 성함, 기관명, 직급 ( 함 ), 핸드폰번호, 이메일 ) 를학회로제출 2 등록비납부 ( 결제 ) 방법 1) 무통장입금 : 신한은행 / 100-020-574120 / ( 사 ) 한국반도체디스플레이기술학회 * 입금후, 학회사무국으로확인요망 2) 현장납부 : 신용카드및현금결제가능 ( 영수증발행 ) * 단, 사전등록조기마감시현장등록불가함 2. 2019 년추계학술대회등록비 구분정회원학생비회원 ( 일반 ) 비고 사전등록 (~11/5) 15 만원 6 만원 20 만원 현장등록 18 만원 8 만원 23 만원 중식및프로시딩집제공 3. 문의처 문의처 : ( 사 ) 한국반도체디스플레이기술학회사무국박창중실장 Tel: 02-575-5744 E-mail: ksdt@ksdt.kr Homepage: www.ksdt.kr
조직위원회 직책이름소속 조직위원장정진욱한양대학교, 교수 조직위원이장식포항공과대학교, 교수 조직위원유신재충남대학교, 교수 조직위원김태성성균관대학교, 교수 조직위원홍상진명지대학교, 교수 조직위원문세연전북대학교, 교수
오시는길 주소 : 서울특별시성동구왕십리로 222 홈페이지 : www.hanyang.ac.kr 대표전화 : 02-2220-0114 추계학술대회개최장소 : 한양대종합기술연구원 (HIT) 6층행사장약도
후원기관 2018 년추계학술대회를후원해주셔서감사합니다.