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1 The Patent Trends in Korea 2005

2 출문 특허청귀하 본보고서를 한국의특허동향 2005 ( 국가별 기술별 ) 최종보고서로출합니다 년 9 월 주관연구기관명 : 한국특허정보원 책임연구원 : 조경철 연 구 원 : 김봉진 안창보 관용 안현수 김명지 임용덕 이수영 자문위원 : 건국대학교경영정보학과교수한국정보통신대학 IT경영학교수한국과학기술정보연구원선임연구원한국산업기술재단책임연구원 임채성정재용이혁재박규호

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4 주요분석결과 내국인의특허출원은 2003년과 2004년에급격한증가세를보였으며, 발명의수를나타내는내국인의청구항수는 2003년에처음으로외국인의청구항수를추월함 년 ~2004년동안내국인이출원한특허가전체출원건의약 70% 를점유하고있어내국인이국내출원을주도하고있는것으로나타남. 다만청구항수는외국인이 57.6% 를차지하며내국인보다많음 - 외환위기이후국내연구개발투자의지속적증가가 2003년과 2004년내국인의특허출원급증으로나타남 - 출원건수대비등록률, 등록된특허의생존율및특허수명은외국인특허가내국인특허에비해우수하고, 출원건수대비권리분쟁특허수를나타내는권리분쟁률도내국인특허보다외국인특허가더낮은것으로나타남 내국인의특허출원급증을기업이주도하는가운데, 1997년까지대학의출원이내국인전체특허에서차지하는점유율은 0.3% 미만에불과하였으나, 2003년과 2004년에출원이급증하여내국인전체출원의 1.9% 를점유하고있음 - 이는 산업교육진흥및산학협력촉진에관한법률 에의해대학내산학협력단이신설되는등대학의지재권관리가강화되고있음을반영한것으로보임 - 국내연구주체중등록률, 등록특허의생존율및특허수명은대학과공공기관의특허가우수하며, 권리분쟁률은대학이가낮음 - 그러나, 연구개발투입대비특허출원성과는연구주체중대학이가저조함 삼성전자, 한국전자통신연구원그리고한국과학기술원이각각연구주체별다출원 1위를유지하고있는가운데, 삼성SDI, 한국생명공학연구원그리고서울대학교등의출원이 2004년에급증함

5 주요분석결과 최근 5년동안각연구주체별다출원상위 10개의주요기술분야를살펴본결과, 기업은 IT 및자동차관련분야에, 대학은 IT 관련분야에특허출원을집중하고있으며, 공공기관은 IT 및 BT 그리고기초화학분야에집중하고있는것으로나타남 - 주요대학중고려대학교는다출원상위 2개분야가바이오와의약으로나타나 BT 관련분야에특허출원을집중하고있는것으로조사되었음 OECD 국가중네덜란드는 2004년에전년대비 143.5% 의높은출원증가율을보이며다출원국가 5위를차지하였고, 아시아경쟁대상국중대만과중국은 2004년에 40% 이상의출원증가율을보이며각각다출원국가 10위와 18위를차지함 - 대만출원인가운데 Opti-Max Technology 와 Prime View International 이활발한특허출원활동을하여측정 / 광학분야에특허출원을집중하고있음 - 중국출원인의경우중국의최대석유회사인차이나페트로-케미칼사가꾸준한특허출원활동을하고있음 2000년이후국내에특허출원을시작하여활발하게하고있는주요신규외국출원인은일본의르네사스테크놀로지, 미국의 GE Medical Systems Global Technology, 독일의바이엘크롭사이언스및네덜란드의에이에스엠엘네덜란즈등으로나타남 내 외국인주요신규출원인모두전기 / 반도체및전자 / 통신분야에특허출원을집중하고있는가운데, 네덜란드와스웨덴의주요신규출원인은측정 / 광학, 프랑스의주요신규출원인은유기화학그리고영국의주요신규출원인은석유 / 정밀화학분야에각각출원을집중하고있는것으로나타남

6 주요분석결과 연구인력의수도권집중화현상이나타나는등지역별특허출원활동이수도권에편중된가운데, 2000년이후울산과인천의특허출원활동이감소함 - 수도권에유입된연구인력은수도권밖으로유출된연구인력의 1.6배로서연구인력의수도권집중화현상이발생함 - 충청권과영남권의연구인력이가많이수도권으로이동하였으며, 충청권의경우하이닉스반도체, 영남권의경우현대자동차의연구인력이동이가많음 - 영남권에서수도권으로이동한현대자동차의연구인력은현대자동차의울산연구소가경기도남양주로통합이전됨에따른것으로보이며, 이로인해울산의특허출원활동이감소한것으로판단됨 - 인천의특허출원활동이부진한것은대우계열사의구조조정에따른것으로분석됨 수도권과충청권간이동한발명자의기술분야는 IT 관련분야에, 영남권에서수도권으로이동한발명자의기술분야는자동차및 IT 관련분야에집중되어있는것으로조사됨 내국인간공동연구에의한특허출원은기업을중심으로가활발하게이루어지고있으며, BT 또는기초화학분야에서의공동연구비율이높은것으로나타남 한국과일본은전체특허출원건수대비국공동연구비율, 자국인이해외에서연구활동을수행한비율그리고외국연구인력을활용한기술혁신활동비율이매우저조한것으로나타남 - 국공동연구비율은중국이가높고, 외국연구인력을활용한기술혁신활동은스위스가가높은것을나타남

7 주요분석결과 내국인출원인중외국계기업은전기 전자업종에서가많은특허를출원하였으며, 우리의기술력이취약하고고부가가치를창출하는의약분야에서는 3개기업이특허 10건을출원하는등특허출원활동이매우미약한것으로나타남 외국계기업중 GM 대우자동차, LG OTIS 엘리베이터및볼보건설기계코리아등은외국인이인수또는합작한후특허출원활동이급격히감소하였으며, LG Philips LCD, 만도, BOE 하이디스테크놀로지등은특허출원이크게증가한것으로나타남 포항공과대학, 광주과학기술원및한국정보통신대학교는대학교수들의특허가대학명중심으로출원되었으며, 기타주요대학은 2004년부터대학명으로특허를가많이출원함 - 이는 산업교육진흥및산학협력촉진에관한법률 에의해대학내신설된 산학협력단 의지식재산권관리와연구자에대한성과보상활동이반영되고있는것으로보임 권리분쟁은 1999년이후급증세를보이고있으며, 무효심판 (1,838회), 소극적권리범위확인심판 (986회), 적극적권리범위확인심판 (365회) 및정정심판 (238회) 의순으로발생함 내국인의특허는컴퓨터, 건설분야, 일본특허는전기 / 반도체및측정 / 광학분야에서권리분쟁의발생빈도가높게나타남 - 내국인중개인특허는건설분야에서적극적권리범위확인심판과무효심판중심으로권리분쟁이발생하며, 기업특허는전기 / 반도체와전자 / 통신분야에권리범위확인심판과무효심판이모두많이발생하는것으로조사됨

8 목차례 Chapter 1 서론 1. 사업의개요 사업의배경 사업의목적 사업의추진경과 세부사업내용 6 2. 본보고서의주요내용 9 3. 분석틀 데이터범위및분류기준 분석항목 10 Chapter 2 국가별특허동향 1. 개요 국가별전체특허동향 전체특허출원동향 국가별내 외국인특허동향 국가별내 외국인특허출원동향 국가별내 외국인특허등록동향 국가별특허동향 국가별특허출원동향 국가별특허등록동향 29 i

9 목차례 2.4 주요국가의특허동향 일본 미국 독일 네덜란드 프랑스 영국 스위스 스웨덴 대만 중국 국공동연구와외국연구인력의활용 국공동연구 국가별국공동연구현황 기술별국공동연구동향 연구인력의국화활동 국가별외국연구인력의활용 기술별외국연구인력의활용 소결 74 Chapter 3 기술별특허동향 1. 개요 기술별전체특허동향 기술별특허동향 기술별특허출원동향 기술별특허등록동향 기술별내 외국인특허동향 기술별내 외국인특허출원동향 기술별내 외국인특허등록동향 89 ii

10 목차례 2.3 세부기술별특허동향 전기 / 반도체 전자 / 통신 유기화학 측정 / 광학 정보매체 컴퓨터 운송 / 포 고분자 의약 석유 / 정밀화학 차세대성동력산업의특허동향 개요 기술별전체특허동향 기술별연도별특허동향 기술별출원인별특허동향 기술별국가별특허동향 세부기술별특허동향 개요 디스플레이산업의특허동향 미래형자동차산업의특허동향 지능형로봇산업의특허동향 차세대전지산업의특허동향 차세대반도체산업의특허동향 소결 164 iii

11 한국의특허동향 출원인별 지역별목차 Chapter 4 출원인별특허동향 1. 개요 3 2. 연구주체별특허동향 3 3. 기술분야에따른연구주체별특허동향 공동연구 외국계기업의특허동향 소결 84 Chapter 5 지역별특허동향 1. 개요 지역별전체특허동향 지역별연구주체별특허동향 지역별특화기술 연구인력의권역별지역이동현황 지역간공동연구 소결 174 Chapter 6 특허의권리분쟁현황 1. 개요 권리분쟁유형별동향 기술분야별권리분쟁동향 권리분쟁의청구인과피청구인의현황 소결 195 iv

12 표차례 < 표 1-1> 사업추진경과 5 < 표 1-2> 전년도사업의주요내용 7 < 표 1-3> 산술평균과기하평균의예 12 < 표 1-4> 분석지표 14 < 표 2-1> 내 외국인의구간별특허출원건수와연평균증가율 20 < 표 2-2> OECD 회원국및아시아경쟁국의특허출원건수및점유율 24 < 표 2-3> 다출원국가의구간별특허출원건수및연평균증가율 28 < 표 2-4> 국가별권리분쟁이발생한특허동향 32 < 표 2-5> 일본 미국 독일 네덜란드의특허출원동향 34 < 표 2-6> 일본 미국 독일 네덜란드전체및주요신규출원인의국가별기술별출원건수 (2000 년이후 ) 36 < 표 2-7> 일본 미국 독일 네덜란드의특허활동지수 vs 연평균증가율 37 < 표 2-8> 일본 미국 독일 네덜란드등록특허의생존율및특허수명 40 < 표 2-9> 일본 미국 독일 네덜란드구간별출원인수동향 41 < 표 2-10> 일본 미국 독일 네덜란드주요출원인의구간별특허출원동향 43 < 표 2-11> 일본 미국 독일 네덜란드주요신규출원인의출원동향 45 < 표 2-12> 일본 미국 독일 네덜란드주요출원인의등록률동향 47 < 표 2-13> 프랑스 영국 스위스 스웨덴의특허출원동향 49 < 표 2-14> 프랑스 영국 스위스 스웨덴전체및주요신규출원인의국가별기술별출원건수 (2000 년이후 ) 50 < 표 2-15> 프랑스 영국 스위스 스웨덴의 AI vs 연평균증가율 51 < 표 2-16> 프랑스 영국 스위스 스웨덴등록특허의생존율및특허수명 54 < 표 2-17> 프랑스 영국 스위스 스웨덴구간별출원인수의동향 55 < 표 2-18> 프랑스 영국 스위스 스웨덴주요출원인의구간별특허출원동향 56 < 표 2-19> 프랑스 영국 스위스 스웨덴주요신규출원인의특허동향 58 v

13 표차례 < 표 2-20> 프랑스 영국 스위스 스웨덴주요출원인의등록률동향 60 < 표 2-21> 대만 중국의구간별특허출원동향 62 < 표 2-22> 대만출원인의주요기술별국내특허출원동향 62 < 표 2-23> 대만 중국구간별출원인수의동향 63 < 표 2-24> 대만 중국주요출원인의구간별특허출원동향 63 < 표 2-25> 2000년 ~2004년대만주요출원인의특허출원건수 64 < 표 2-26> OECD회원국및아시아주요경쟁국의국공동연구현황 65 < 표 2-27> 국가간국공동연구에의한특허출원건수 67 < 표 2-28> 주요국가별전체및국공동연구에의한특허생존율과특허수명 68 < 표 2-29> 기술별국공동연구특허출원건수및공동연구비율 69 < 표 3-1> 기술별내 외국인특허출원현황 85 < 표 3-2> 2000년이후전체및주요신규출원인의내 외국인기술별출원수 86 < 표 3-3> 내 외국인의기술별권리분쟁횟수 93 < 표 3-4> 전기 / 반도체주요국가의특허출원동향 96 < 표 3-5> 전기 / 반도체주요출원인의특허출원동향 97 < 표 3-6> 전기 / 반도체주요출원인의등록률동향 99 < 표 3-7> 전자 / 통신주요국가의특허출원동향 102 < 표 3-8> 전자 / 통신주요출원인의특허출원동향 103 < 표 3-9> 전자 / 통신주요출원인의등록률동향 105 < 표 3-10> 유기화학주요국가의특허출원동향 107 < 표 3-11> 유기화학주요출원인의특허출원동향 108 < 표 3-12> 유기화학주요출원인의등록률동향 110 < 표 3-13> 측정 / 광학주요국가의특허출원동향 113 < 표 3-14> 측정 / 광학주요출원인의특허출원동향 114 vi

14 표차례 < 표 3-15> 측정 / 광학주요출원인의등록률동향 115 < 표 3-16> 정보매체주요국가의특허출원동향 118 < 표 3-17> 정보매체주요출원인의특허출원동향 119 < 표 3-18> 정보매체주요출원인의특허등록률동향 121 < 표 3-19> 컴퓨터주요국가의특허출원동향 123 < 표 3-20> 컴퓨터주요출원인의특허출원동향 124 < 표 3-21> 컴퓨터주요출원인의특허등록률동향 126 < 표 3-22> 운송 / 포주요국가의특허출원현황 128 < 표 3-23> 운송 / 포주요출원인의특허출원동향 129 < 표 3-24> 운송 / 포주요출원인의등록률동향 131 < 표 3-25> 고분자주요국가의특허출원동향 133 < 표 3-26> 고분자주요출원인의특허출원동향 134 < 표 3-27> 고분자주요출원인의등록률동향 136 < 표 3-28> 의약주요국가의특허출원동향 138 < 표 3-29> 의약주요출원인의특허출원동향 139 < 표 3-30> 의약주요출원인의등록률동향 141 < 표 3-31> 석유 / 정밀화학주요국가의특허출원동향 143 < 표 3-32> 석유 / 정밀화학주요출원인의특허출원동향 144 < 표 3-33> 석유 / 정밀화학주요출원인의등록률동향 146 < 표 3-34> 차세대성동력산업의다출원인 ( 상위 10위 ) 별출원점유율 149 < 표 3-35> 차세대성동력산업의다출원국가 ( 상위 10위 ) 별출원점유율 150 vii

15 그림차례 < 그림 2-1> 전체특허출원건수동향 17 < 그림 2-2> 연도별국내특허출원국가수 18 < 그림 2-3> 내 외국인의특허출원점유율 18 < 그림 2-4> 내 외국인의연도별특허출원동향 19 < 그림 2-5> 출원년도별내 외국인발명의수동향 21 < 그림 2-6> 출원년도별내 외국인의특허등록률동향 21 < 그림 2-7> 연도별내 외국인의등록특허의생존율 22 < 그림 2-8> 연도별내 외국인의특허수명 23 < 그림 2-9> 다출원 1~10위국의연도별특허출원동향 26 < 그림 2-10> 다출원 11~20위국의연도별특허출원동향 27 < 그림 2-11> 2000년이후국가별주요신규출원인의수및비율 29 < 그림 2-12> 외국인중다출원상위 1위 ~10위국의등록률동향 30 < 그림 2-13> 외국인중다출원상위 11위 ~20위국의등록률동향 31 < 그림 2-14> 일본 미국 독일 네덜란드의기술별특허출원건수 34 < 그림 2-15> 일본 미국 독일 네덜란드의평균등록률 39 < 그림 2-16> 프랑스 영국 스위스 스웨덴의기술별특허출원건수 48 < 그림 2-17> 프랑스 영국 스위스 스웨덴등록특허의등록률 53 < 그림 2-18> 대만 중국의기술별특허출원건수 61 < 그림 2-19> 국가별외국인활용률 71 < 그림 2-20> 국가별해외에서의활동비율 72 < 그림 2-21> 기술별외국인활용률 73 < 그림 3-1> WIPO기준기술별특허출원건수현황 82 < 그림 3-2> 구간별기술분류의특허연평균증가율 83 < 그림 3-3> WIPO기준기술별특허등록률현황 84 < 그림 3-4> 내국인의기술별 RPA vs 연평균증가율 87 < 그림 3-5> 외국인의기술별 RPA vs 연평균증가율 88 viii

16 그림차례 < 그림 3-6> 내 외국인의기술별심사청구기간 89 < 그림 3-7> 내 외국인의기술별평균등록률 90 < 그림 3-8> 내 외국인의기술별평균생존율 91 < 그림 3-9> 내 외국인의기술별특허수명 92 < 그림 3-10> 전기 / 반도체내 외국인의특허출원동향 94 < 그림 3-11> 전기 / 반도체외국주요국가의특허출원동향 95 < 그림 3-12> 전기 / 반도체의 RPA vs 상대적연평균증가율 98 < 그림 3-13> 전자 / 통신내 외국인의특허출원동향 100 < 그림 3-14> 전자 / 통신외국주요국가의특허출원동향 101 < 그림 3-15> 전자 / 통신의 RPA vs 상대적연평균증가율 104 < 그림 3-16> 유기화학내 외국인의특허출원동향 106 < 그림 3-17> 유기화학외국주요국가의특허출원동향 107 < 그림 3-18> 유기화학의 RPA vs 상대적연평균증가율 109 < 그림 3-19> 측정 / 광학내 외국인의특허출원동향 111 < 그림 3-20> 측정 / 광학외국주요국가의특허출원동향 112 < 그림 3-21> 측정 / 광학의 RPA vs 상대적연평균증가율 114 < 그림 3-22> 정보매체의내 외국인특허출원동향 116 < 그림 3-23> 정보매체외국주요국가의특허출원동향 117 < 그림 3-24> 정보매체의 RPA vs 상대적연평균증가율 120 < 그림 3-25> 컴퓨터내 외국인의특허출원동향 122 < 그림 3-26> 컴퓨터외국주요국가의특허출원동향 122 < 그림 3-27> 컴퓨터의 RPA vs 상대적연평균증가율 125 < 그림 3-28> 운송 / 포내 외국인의특허출원동향 127 < 그림 3-29> 운송 / 포외국주요국가의특허출원동향 127 < 그림 3-30> 운송 / 포의 RPA vs 상대적연평균증가율 130 < 그림 3-31> 고분자내 외국인의특허출원동향 131 ix

17 그림차례 < 그림 3-32> 고분자외국주요국가의특허출원동향 132 < 그림 3-33> 고분자의 RPA vs 상대적연평균증가율 135 < 그림 3-34> 의약내 외국인의특허출원동향 136 < 그림 3-35> 의약외국주요국가의특허출원동향 137 < 그림 3-36> 의약의 RPA vs 상대적연평균증가율 140 < 그림 3-37> 석유 / 정밀화학내 외국인의특허출원동향 142 < 그림 3-38> 석유 / 정밀화학외국주요국가의특허출원동향 142 < 그림 3-39> 석유 / 정밀화학의 RPA vs 상대적연평균증가율 145 < 그림 3-40> 차세대성동력산업의연도별출원동향 148 < 그림 3-41> 차세대성동력산업의내외국출원점유율 151 < 그림 3-42> 차세대성동력산업의연구주체별특허출원건수 152 < 그림 3-43> 차세대성동력산업의내 외국별연평균증가율 vs RPA 153 < 그림 3-44> 일본출원특허의연평균증가율 vs RPA 지수 154 < 그림 3-45> 미국출원특허의연평균증가율 vs RPA 지수 154 < 그림 3-46> 독일출원특허의연평균증가율 vs RPA 지수 155 < 그림 3-47> 디스플레이산업의세부기술별출원동향 156 < 그림 3-48> 디스플레이산업의세부기술별출원동향 157 < 그림 3-49> 세부기술별상대적연평균증가율 vs RPA 지수 157 < 그림 3-50> 미래형자동차산업의세부기술별출원동향 158 < 그림 3-51> 세부기술별상대적연평균증가율 vs RPA 지수 159 < 그림 3-52> 지능형로봇산업의세부기술별출원동향 160 < 그림 3-53> 세부기술별상대적연평균증가율 vs RPA 지수 160 < 그림 3-54> 차세대전지산업의세부기술별출원동향 161 < 그림 3-55> 세부기술별상대적연평균증가율 vs RPA 지수 162 < 그림 3-56> 차세대반도체산업의세부기술별출원동향 163 < 그림 3-57> 세부기술별상대적연평균증가율 vs RPA 지수 163 x

18 한국의특허동향 2005 Chapter 1 서론 1. 사업의개요 2. 본보고서의주요내용 3. 분석틀

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20 1. 사업의개요 1 사업의개요 1.1 사업의배경 정보및지식사회로서점점더복잡하고다양화되어가는현대사회는과거와현재를통해미래를예측할수있는통계의중요성이더욱더높아지고있다. 특히, 지식기반경시대에있어서효과적인산업정책의수립과새로운기업전략수립, 현안문해결을위해서는종합적이고체계적인산업통계정보가절실히필요하다. 미국, 일본등선진국들은정책수립자, 기업의사결정권자, 연구원및학자들의 연구와정책개발을위해산업동향을신속하고구체적으로파악할수있는산업 통계의수집 분석 공표시스템을국가차원에서구축하여운영하고있다고한다 1). 특히산업통계중특허통계정보를산업및과학기술활동의혁신지표로서인식 하고특허정보를정책정보로써활용 2) 하려는시도가활발하게진행되고있다. 1 특허정보는혁신성과의중요한지표로서국가, 지역, 기술, 기업등발명의성과를반영하고, 기술의확산및 R&D의성과를측정하는도구로써활용된다. 기술적성과를측정하는몇가지의지표중에특허정보는가빈번하게활용되어지고있다 3). 특히, 정책도구적가치로서의특허통계는기술적변화과정을분석할수있는가유용한지표이고, 혁신주도형국경쟁에있어서성공의패턴을이해하고측정하는데매우중요한요소 (Gans and Stern, 2003) 이다 4). 2 3 Ⅰ 그러나, 우리나라의경우에는특허통계정보가초보적인수준에서벗어나지못하고있는것이현실이어서과학기술전략수립에필요한통계지표로서의활용은아직까지거의이루어지지못하고있다. Ⅱ 1) 강대일, Food Journal, p33 ( ) 2) Ⅰ. 특허정보의개요참조 3) Griliches, Z., Patents Statistics as Economic Indicators : A Survey, Journal of Economic Literature. Vol. 18, No. 4, p1669(1990 년 ) 4) Compendium of Patent Statistics OECD 3

21 1 서론 이에특허청에서는특허정보활용체계구축과특허정보인프라확대및이용활성화를통해국내기술혁신현황을설명하고, 연구개발정책을입안하거나평가하는데활용하고자 2002년부터국내에출원공개및등록된특허를대상으로통계데이터를체계적으로정비하기시작하였고이후매년특허통계분석보고서인 한국의특허동향 을발간하였다. 1.2 사업의목적 본사업의목적은과학기술지표및혁신도구로활용되는특허통계를체계적으로정리하여공함으로써, 첫째, 기술기획, 기술예측, 기술전략수립등국가과학기술정책수립시전문가검토 (peer review) 에의존하는기존의방식과더불어합리적이고객관적인의사결정에필요한기초정보를공하고, 둘째, 국내에출원된주요출원인 ( 내 외국 ) 에대한특허통계를통해기업의산업기술개발수요추정의정보자료및경영전략수립시활용할수있는정보를공하며, 셋째, 학계및산업계의특허정보연구를위한기초자료로공함으로써국내 외특허정보활용 확산을위한인프라를구축하는데그목적이있다고하겠다. 1.3 사업의추진경과 특허청은정책연구를위해 2002년 5월에국가별, 기술별특허통계를작성한 특허경쟁정보보고서 를발간하였고, 2002년 7월에는국가과학기술위원회에 기술혁신역량강화를위한특허정보활용 확산방안 을보고하였다 5). 동년 12월에는이에대한후속조치로써 한국의특허동향 2002 를발간하였다. 한국의특허동향 2002 에서는 1983년부터 2001년 12월 31일까지국내에출원공개된 77만여건의특허를대상으로출원인별, 지역별분포현황을 5) Ⅰ 의 < 표 3> 참조 (p164) 4

22 1. 사업의개요 살펴보았다. 2003년 10월에는 한국의특허동향 2003 을발간하였다. 한국의특허동향 2003 에서는 1983년부터 2002년 12월 31일까지국내에출원공개된 87만여건의공개특허와 1948년 11월 20일부터 2002년 12월 31일까지등록공고된 36만여건의등록특허를대상으로 OECD 및주요경쟁국의특허동향, 기술별특허동향, 출원인별특허동향및지역별특허동향등 4개의주별로구분하여작성하였다. 2004년 12월에발간된 한국의특허동향 2004 에서는 1990년부터 2003년 12월 31일까지국내에출원공개된 78만여건의공개특허와 2003년 12월 31일까지등록공고된 40만여건의등록특허를대상으로국가별 / 기술별특허동향및출원인별 / 지역별특허동향으로구분하여작성하였다. < 표 1-1> 사업추진경과 기간사업비고 국가과학기술위원회보고 한국의특허동향 2002 발간 기술혁신역량강화를위한특허정보활용 확산방안 에서 4 개사항의추진방안보고 - 연구개발정책수립등에특허정보활용체계구축 - 연구개발사업추진시특허정보조사활용권고 - 국가연구개발사업에대한특허심사결과환류체계구축 - 특허정보인프라확대및이용활성화지원 2001 년 12 월 31 일까지국내에출원공개된특허에대한 77 만여건을대상 - 출원인별, 지역별특허출원동향분석 한국의특허동향 2003 발간 한국의특허동향 2004 발간 2002 년 12 월 31 일까지국내에출원공개 (87 만여건 ) 및등록공고 (36 만여건 ) 특허를대상 - OECD 및주요경쟁국의특허동향 - 기술별특허동향 - 출원인별특허동향 - 지역별특허동향 2003 년 12 월 31 일까지국내에출원공개 (97 만여건 ) 및등록공고 (40 만여건 ) 특허를대상 - 국가별특허동향 - 기술별특허동향 - 출원인별특허동향 - 지역별특허동향 Ⅰ Ⅱ 5

23 1 서론 1.4 세부사업내용 2002년에발간된 한국의특허동향 2002 에서는특허통계의기반을다지기위해통계데이터의정비에주안점을두고사업을시작하였다. 따라서기초데이터확보를통해오류데이터를정비하고분석필드를구체화하는데많은노력을기울였다. 분석기준을정립하기위해국가코드, 출원인코드통일화 (unification), 국특허분류, 지역별명칭통일화및세분화작업을수행하였다. 여기에출원인은1 출원인 6) 을기준으로국특허분류 7) 는주분류 8) 만정비를하였다. 또한출원인을연구개발주체별로구분하여기업, 공공기관, 대학및개인으로나누었고, 기업을다시거래소상기업, 코스닥 3시등록기업및기타기업으로, 공공기관은정부, 정부출연연구소및국 공립시험연구소로, 대학은국공립대학과사립대학으로구분하여통일화작업을수행하였다. 지역은 16개광역자치단체와 232개기초자치단체로세분화하였다. 이렇게정비한분석필드를통해국내주요출원인분석과지역별특화기술을알아보기위해 LQ지수를도입하여분석을수행하였다. 2003년에발간된 한국의특허동향 2003 에서는 2002년에출원공개된데이터를업데이트하였고, 국내에출원되어등록된 36만여건의데이터를입수하여정비를수행하였다. 분석항목의다양화를위해모든출원인과국특허분류는부분류까지확대정비하였고, 청구항수및기술이전관련정보를정비하여특허의질 (Quality) 을평가할수있는토대를만들었다. 또한분석보고서를 4권으로분리하여심층적으로접근을하였고분석지표역시특허통계에활용가능한모든지표를도입하여특허분석에활용가능한지에대해적용해보았다. 여기에는산업의시 6) 출원인이란특허를받고자하는사람으로서등록후에특허권자로서권리를가질사람을지칭한다. 출원인은법인 ( 회사 ) 또는개인이될수도있고, 법인과개인이공동출원인이될수도있음. 여기서 1 출원인은단독출원인일때는출원인자체와공동출원인일때출원인명이가위에있는출원인을지칭함. 7) 국특허분류 (IPC, International Patent Classification) : 특허문헌에대해국적으로통용되는기술분류체계로 1954 년국특허분류유럽조약에의해성립하였고세계지적재산권기구 (WIPO) 의대표등이참가하여 1968 년 9 월정식으로발효되었음. 8) 기술은 2 개이상의기술이복합화되어개발되고있어이러한기술에대한특허는 IPC 를부여할때 2 개이상의기술분류가부여되고있음. 이때특허의메인기술분야에대한국특허분류를주분류라고하며그이외의분류를부분류라칭함. 6

24 1. 사업의개요 집중도를분석하는 HHI (Hirschman- Herfindahl Index), 기술의의존도를평가하는 DR(Dependency Rate), 반도체경기사이클과반도체분야특허출원과의상관관계등을분석하여선행경기지표로서의특허의역할등다양한지표를통해분석을실시하였다. 한국의특허동향 2004 에서는 2003년에출원공개및등록된데이터를업데이트하였다. 그리고기존보고서에서포함되었던정책적의미와무관한내용과이해가어려운분석내용을대폭삭하고, 이용자가쉽게특허통계정보에접근할수있도록하는데주안점을두었다. 분석내용으로는심층적인분석을수행하기위해발명자정보를세분화하여발명활동의혁신거점을보다심층적으로분석하였고참여정부이후국가가중점적으로추진하는지역균형발전 5개년 계획에서시된지역전략산업과특허와의상관관계분석등정책적활용에필요한분석내용들을추가시켰다. 또한, 차세대성동력 10대산업중최근에특허출원건수가급증하고있는리튬이차전지분야에대한국가별및출원인별동향분석내용을추가하였다. < 표 1-2> 전년도사업의주요내용구분발행연도주요분석내용 내 외국인특허출원동향 국가별특허출원동향 내 외국인특허출원및등록동향 Ⅰ 국가별 2003 국가별특허출원및등록동향 주요국가의주요출원인의특허출원동향 국공동연구 내 외국인특허출원및등록동향 Ⅱ 국가별특허출원및등록동향 2004 주요국가의주요출원인의특허출원동향 국공동연구 국가별우수한외국연구인력의활용현황 7

25 1 서론 구분발행연도주요분석내용 2002 기술별내 외국인의특허출원동향 주요 10대기술의주요출원인동향 기술별 2003 주요 10대기술의주요국가및출원인특허동향 HHI를이용한기술별기술집중도분석 NTRM 핵심기술중 BT분야특허동향 국표준산업분류별특허동향 2004 기술별내 외국인의특허출원및등록동향 주요국가의기술별선택과집중 주요국가의기술별등록특허의수명및생존율 리튬이온이차전지의특허동향 2002 연구주체별주요출원인의특허출원동향 연구 주체별 2003 연구주체별특허출원및등록동향 연구주체간공동연구 포트폴리오분석 외국인투자기업의특허동향 2004 연구주체별특허출원및등록동향 연구주체별등록특허의생존율, 수명및기술이전비율 연구주체간공동연구 2002 지역별특허출원동향 지역별특화기술 지역별 2003 지역별특허출원및등록동향 지역별특화기술 지역간공동연구 주요 10대기술의지역별특허동향 2004 지역별특허출원및등록동향 지역별특화기술과지역전략산업간비교분석 지역간공동연구 8

26 2. 본보고서의주요내용 2 본보고서의주요내용 본보고서는최근의기술개발동향을파악하기위해 2004년까지출원된특허를포함하여분석을실시하였고, 내용으로는 2004년까지수행했던사업의연속성을유지하며세부적으로기술별특허동향과연구주체별연구개발의효율성및특허동향등을심층분석하였다. 본보고서의주요구성은다음과같다. 2에서는기술경쟁이심화되면서외국인이국내시에진입하는동향등을파악하기위해국가별특허동향을살펴보았다. 여기에서는외국기업이국내기술을견하거나시선점을위해선택과집중하는기술분야를도출하고, 국가간공동연구현황, 우수한외국연구인력활용현황등을통해주요국가의특허동향을파악하고자하였다. 3에서는외국인특허가운데다출원기술분야와중내국인보다특허출원이많은기술 10개를선정하여세부분석을실시하였다. 또한국가에서추진하는차세대성동력 10대산업중 5개산업 9) 에대한국가별 -출원인별동향도파악해보았다. 4에서는국내연구개발주체별로기술개발동향을파악하기위해출원인별특허동향을살펴보았다. R&D 비용및연구원수대비특허출원성과를통해각연구주체별연구성과의효율성을살펴보았고, 연구개발의집중도, 산 학 연공동연구의현황과그성과, 주요기업의등록특허생존율등국내기업들의연구개발동향을조사하였다. 또한일부대학을대상으로하여이공대교수의연구개발활동을집중적으로조사하였다. 5에서는발명자정보를활용하여주요연구개발의거점을추적하고국가균형발전위원회에서전략적으로추진하는지역전략산업과의비교분석을통해특허통계정보의정책적효용가치에대해비교분석을수행하였다. 6에서는국내특허중무효심판, 권리범위확인심판등이청구된특허를대상으로국내특허의권리분쟁현황을살펴보았다 Ⅰ Ⅱ 9) 5 개산업은디스플레이, 미래형자동차, 지능형로봇, 차세대반도체및차세대전지임 9

27 1 서론 3 분석틀 3.1 데이터범위및분류기준 본특허통계는 2004년 12월 31일까지출원및등록공고된국내특허를대상으로하였으나, 실분석은 한국의특허동향 2004 와연속성을유지하기위해 1990년 1월 1일부터 2004년 12월 31일까지출원된특허를대상으로하였다. 기술분류는 WIPO에서정한 32개기술분류 10) 를기준으로분석을수행하였고, 행정구역에대한분류기준은 한국의특허동향 2004 에서사용했던기준 11) 과동일하게적용하였다. 한국의특허동향 2004 에서는민법 32조 ( 비영리재단법인설립 ) 의규정또는기타특별법에의해설립된기관 ( 연구조합, 학회및협회등 ) 을민간비영리기관을규정하였으나, 이중특별법에의해생긴기관중공공기관의성격을갖고있는일부기관을공공기관으로재분류하여특허동향을분석하였다. 3.2 분석항목 본사업에서는특허를통해기술개발의흐름을출원건수, 증가율및점유율을통해살펴보았고, 국가나기업의기술개발전략및선택과집중하는기술을발굴하기위해특허활동지수 (Activity Index, AI) 를활용하였다. 또한, 산 학 연공동연구의필요성, 국공동연구를통한협력관계및우수한외국연구인력활용현황등을살펴보기위해발명자정보를사용하여분석을수행하였다. 마지막으로지역간지역네트워크및지역특화기술을조사하고발굴하기위해지역특화지수 (Location Quotient, LQ) 를도입하였다. 본사업에사용되어지는분석지표들은다음과같다. 10) Ⅰ 의 < 표 6> 참조 (p184) 11) Ⅰ 2.4 지역별명칭통일화및세분화 및 2.5 연구개발주체별분류및코드부여 참조 (p177) 10

28 3. 분석틀 특허활동지수 (AI, Activity Index) 특허활동지수 (AI) 는기술특화 (specialization) 현황의파악을위해가많이사용되는지수중하나로서, 우리가관심의대상으로삼는특정주체가다른주체와비교하여상대적으로어떠한기술분야에기술혁신활동을집중하고있는가에대한정보를공한다, 구하는방법은다음과같다. 특정기술분야의특정출원인특허수 특정출원인특허수특허활동지수 특정기술분야의전체특허수 전체특허수 현시특허우위지수 (RPA, Revealed Patent Advantage) 현시특허우위지수 (RPA) 는 AI 지수와마찬가지로특정기술에대한집중도또는특화 (Specialization) 현황을보여주는지표이다. 분석적의미는 AI 지수와동일하나, AI 지수의비대칭성 (Skewness) 을극복하고지수의정규성 (normality) 을확보하기위한지수이며, 구하는식은아래와같다 지역특화지수 (LQ, Location Quotient) Ⅰ 해당지역의특화기술을살펴보기위한지표로서, 특허활동지수와유사한개념이며, 지역에서는 LQ로표현하고구하는방법은다음과같다. Ⅱ 도시의 기술분야의특허수 도시의총특허수 도시의 기술분야 전국 기술분야의특허수 전국총특허수 11

29 1 서론 연평균증가율분석기간인 1990년부터 2004년까지를 5년단위로 3개구간으로구분하였으며, 각구간별연평균증가율은기하평균으로서다음과같은식으로구하였다. G(%)= [{(1+g 1 )(1+g 2 ) (1+g n )} 1/n - 1] 100 구간 : n, 각구간의증가율 : g, 연평균증가율 : G 기하평균은인구증가율이나경증가율을구할경우적용되는것 12) 으로서, 산술평균은극단적인변화에큰오차가발생하므로본연구에서구간별연평균증가율은기하평균을사용하였다. 극단적인변화가일어난경우, 산술평균과기하평균의차이는 < 표 1-3> 과같다. 산술평균의경우 381.1% 로크게증가하였으나, 기하평균은 -32.9% 로실데이터를잘반영하고있다. < 표 1-3> 산술평균과기하평균의예 구분 1996년 1997년 1998년 1999년 특허출원건수 8,885건 3,865건 195건 2,720건 증가율 -56.5% -95.0% 1,294.9% 연평균증가율 산술평균 ( )/3 = 381.1% 기하평균 {(( )(1-0.95)(1+12.9)) 1/3-1} 100 = -32.9% 상대적연평균증가율연평균증가율을상대적인수치로살펴보기위한지표로서, 0보다크면연평균증가율이상대적으로높은것으로나타낸다. 구하는방법은다음과같다. 12) ( 현재 ) 12

30 3. 분석틀 : 상대적연평균증가율 : 특정출원인의연평균증가율 : 전체연평균증가율 등록특허의생존율 특허생존율이란등록된특허중특허권이유지되고있는특허의비율을의미한다. 등록된특허는특허권유지료납부유무에따라특허권이출원일로부터일반적으로최고 20년까지유지될수있다. 그러나특허권유지료는기간에따라 3년단위로비용이크게증가되기때문에경적인효과가높지않을경우특허권을소멸시킨다. 따라서특허생존율이높다는것은경적인효과가좋다는의미이므로기술수준이높은것으로판단할수있다. 본분석에서는등록된특허중 2005년 4월 9일까지특허권이유지되고있는특허를대상으로하였다. 1 특허수명 2 특허수명이란등록특허중특허출원일부터특허권이소멸된일자까지의기간을의미한다. 등록특허의수명은최고 20년까지가능하며, 특허수명이길수록특허의경적인효과가오래지속되는것을의미한다. 3 지역간협력관계 (r) 지역간협력관계는 Salton's formula에의해구함. Salton's formula는두지역사이의상대적인협력정도를나타내는방법이다. P i 는 i지역의총특허횟수, P j 는 j지역의총특허횟수, P ij 는두지역사이의협력횟수를말한다. Ⅰ Ⅱ 13

31 1 서론 권리분쟁률 1990년 ~2002년동안출원된특허중 2005년 8월 25일까지무효심판, 권리범위확인심판등이청구된특허가차지하는비율을나타냄 기타분석지표 < 표 1-4> 분석지표 분석지표의미비고 외국연구인력활용현황 기술별해외연구인력의국내유입현황또는국내연구인력의해외유출현황을파악 발명자국적코드이용 공동연구 국가별또는연구주체간 ( 산 학 연 ) 공동연구활동파악 출원인의국적또는코드이용 권리이전특허기술의파급흐름및사업화현황을파악 - 14

32 한국의특허동향 2005 Chapter 2 국가별기술동향 1. 개요 2. 국가별전체특허동향 3. 국공동연구와외국연구인력의활용 4. 소결

33

34 1. 개요 1 개요 본에서는 1990년 ~2004년동안국내에출원공개된 1,135,328건과 1990년 ~ 1997년동안출원되어 2004년 12월 31일까지등록공고된 225,343건을대상으로국가별출원및등록동향을살펴보았다. 2 국가별전체특허동향 2.1 전체특허출원동향 < 그림 2-1> 은 1990 년 ~2004 년동안국내에출원공개된특허를대상으로 연도별특허출원동향을나타내었다. 1990년에약 25,000여건이출원되어 1997년에는약 90,000여건까지증가하였으나 1998년에약 18,000여건이감소하였다. 이후특허출원은다시증가하여 2004년에 1990년특허의 5.4배수준인약 137,000여건의특허가출원되었다. 특허출원국가역시 1990년 46개국에서 2003년 82개국으로증가하였다가 2004년도에는 71개국으로전년도에비해소폭감소하였으나전반적인추세는출원국가가증가하고있는것으로나타났다. 따라서국내특허시은특허출원건수와특허출원국가수모두가양적으로성하고있는것으로나타났다. 160, , , ,000 89,567 91, , ,532 99, , ,466 Ⅰ 80,000 60,000 40,000 25,619 30,736 77,912 45,115 36,132 73,421 78,726 Ⅱ 20,000 27, < 그림 2-1> 전체특허출원건수동향 17

35 2 국가별특허동향 출원국가수 < 그림 2-2> 연도별국내특허출원국가수 2.2 국가별내 외국인특허동향 국가별내 외국인특허출원동향 < 그림 2-3> 은 1990년 ~2004년동안한국에출원된특허를대상으로내 외국인별출원건수와점유율을나타내었다. 동기간동안한국에출원된전체특허는 1,135,328건으로이중내국인이 69.9%(790,192건 ), 외국인이 30.4%(345,136건 ) 의특허출원점유율을보이고있는것으로나타났다. 외국인 345,136 건 (30.4%) 내국인 790,192 건 (69.6%) 18 출원기간 : 1990 년 ~2004 년 < 그림 2-3> 내 외국인의특허출원점유율

36 2. 국가별전체특허동향 < 그림 2-4> 는출원년도별내 외국인의특허출원동향을나타내었다. 내국인은 1990년대중반인 1995년 ~1997년간출원거품현상 13) 으로인해특허출원이급증하였으나, 외환위기발생직후인 1998년특허출원이큰폭으로감소하였다. 그러나이후다시꾸준한성세로돌아서서 2004년도에는 103,520건을출원하면서 1990년과비교하여 10배이상의출원증가를보이고있다. 반면외국인의특허출원은꾸준한증가세를보이면서 1990년에 16,642건의특허출원과비교해서 2004년에 33,843건으로 2배정도출원이증가한것으로나타났다. 참고로내국인의연도별출원건수중 1997년 1건, 1999년 4건, 2000년 2건, 2001년 30건이 한국의특허동향 2004 의데이터보다증가하였다. 이는해당특허가 2004년도에이르러서야공개가됨으로서 한국의특허동향 2005 분석에추가되었다 14). 120, ,000 특허출원건수 80,000 60,000 40,000 20, 내국인 8,97 13,0 15,6 21,1 28,0 58,7 67,7 66,5 48,9 54,3 70,2 70,9 73,3 88,9 103, 외국인 16,6 14,8 15,0 14,9 17,0 19,2 21,8 25,4 24,4 24,4 28,8 30,5 29,4 28,5 33, Ⅰ < 그림 2-4> 내 외국인의연도별특허출원동향 13) 한국의특허동향 2004 출원인별, pp.15~17 14) 특허는일반적으로특허출원후 1 년 6 월이경과한때또는특허출원일부터 1 년 6 월이경과하기전이라도출원인의조기공개신청이있는때에는특허출원관련정보를특허공보에게재하여대중에게공개하도록되어있다. [ 특허법 64 조 1 항 ] < 그림 2-4> 에서 2003 년과 2004 년은미공개특허를포함하고있다. 따라서미공개건이공개전에출원취하또는포기하는경우가발생하기때문에후에공개건을기준으로할때본건보다감소될수있다. Ⅱ 19

37 2 국가별특허동향 < 표 2-1> 을통해내 외국인별특허의출원건수와연평균증가율을살펴보았다. 1990년 ~1994년동안내국인에의한특허출원은 32.9% 의매우높은증가율을보인반면동기간동안외국인에의한특허출원은 0.6% 의연평균증가율을보이며아주소폭증가함을나타냈다. 1995년 ~1999년동안내 외국인에의한특허출원은각각 14.1%, 7.4% 를나타났다. 2000년 ~2004년은내국인이 13.8%, 외국인이 6.8% 로꾸준하게높은증가율을나타내고있다. 내국인의특허출원이 1997년외환위기이후 1998년한시적으로감소하였지만이후다시성세를보이고있어 1995년 ~1999년사이의연평균증가율에큰영향을미치지는못한것으로판단된다. < 표 2-1> 내 외국인의구간별특허출원건수와연평균증가율 기술분야 출원건수 1990~ ~ ~2004 연평균증가율 출원건수 연평균증가율 출원건수 연평균증가율 내국인 86,881 건 32.9% 296,334 건 14.1% 406,977 건 13.8% 외국인 78,569 건 0.6% 115,283 건 7.4% 151,284 건 6.8% 전체 165,450 건 15.2% 411,617 건 11.8% 558,261 건 11.8% < 그림 2-5> 는출원년도별내 외국인의발명의수동향을나타내었다. 특허에있어서청구항수는발명의수를나타내기때문에이를토대로출원년도별내 외국인의발명의수의동향을살펴보면, 내국인이외국인을추월한시기는 2003년이후로나타났다. 이는특허출원건수가추월한시기인 1992년보다 11년격차가발생한것이다. 20

38 2. 국가별전체특허동향 발명의 수 900, , , , , , , , ,000 0 내국인외국인 < 그림 2-5> 출원년도별내 외국인발명의수동향 국가별내 외국인특허등록동향 < 그림 2-6> 에서출원년도별내 외국인의특허등록률 15) 의동향을나타내었다. 외국인의특허등록률은 1990년 ~1996년까지 60% 대를유지하다가 1997년에 50% 대로감소하여 1990년 ~1997년동안평균 58.8% 의등록률을나타냈고, 외국인의특허등록률과 1990년대초반에는그리큰차이를보이지않다가 1995년에 15% 이상의큰차이를보이다가그격차가점차작아져서 1997년에 5% 이내로좁아지면서내국인의평균특허등록률 50.1% 를나타냈다 % 60% 50% 등록 40% 률 (% 30% )20% 외국인 심사진행중 3 Ⅰ 10% 0% 내국인 외국인 56.1% 60.7% 60.9% 60.8% 62.5% 62.6% 60.0% 50.4% 41.0% 32.3% 26.2% 21.1% 6.1% 1.0% 0.2% 내국인 57.7% 57.1% 59.6% 58.8% 57.5% 46.2% 47.3% 45.7% 45.1% 45.5% 38.9% 37.4% 16.9% 2.2% 0.7% Ⅱ < 그림 2-6> 출원년도별내 외국인의특허등록률동향 15) 특허등록률 =( 등록건수 )/( 출원건수 ) 100, 등록률은 2004 년기준으로심사청구기간 5 년과평균심사처리기간 2 년정도의기간을감안할경우 1997 년까지출원된특허만통계적인의미를지님. 따라서 1997 년이후출원된특허의등록률은심사처리단축으로등록이이루어진것을의미함. 21

39 2 국가별특허동향 1990년 ~1997년동안출원년도별내 외국인의등록특허의생존율 16) 을 < 그림 2-7> 에나타내었다. 외국인평균생존율은 77.9% 이고, 내국인평균생존율은 66.1% 를나타내며외국인등록특허의생존율이내국인보다거의 10% 이상높지만, 1997년에내국인등록특허생존율이 81.5% 로나타나면서생존율격차가 10% 이내로줄어든것으로나타났다. 100% 88.9% 90.1% 90% 86.8% 83.0% 특허 80% 76.0% 81.5% 생 66.7% 존 70% 률 61.1% 70.9% 57.6% (60% 63.4% 62.9% %)57.5% 50% 55.2% 내국인 40% 30% 46.1% 37.9% 외국인 < 그림 2-7> 연도별내 외국인의등록특허의생존율 < 그림 2-8> 은 1990년 ~1997년동안출원년도별내 외국인등록특허의특허수명 17) 을나타내었다. 평균특허수명은내국인 8.2년그리고외국인 9.9년으로서, 외국인의특허가내국인의특허보다권리가더오래지속되는것으로나타났다. 그러나내 외국간특허수명의격차는점차감소하는것으로조사되었다. < 그림 2-7> 과 < 그림 2-8> 에서외국인이내국인보다생존율이높고, 특허 수명이더긴이유는자국에서출원된특허를선별하여한국에출원하기때문인 것으로판단된다. 16) 2004 년 12 월 31 일까지출원공개된특허중심사과정을거쳐등록된특허를대상으로 2005 년 4 월 9 일까지특허권이유지되고있는특허비율을등록특허의생존율이라표현한다. 등록된특허의특허권을유지하기위해서는특허권유지비용이소요되며, 특허권의유지기간이길어질수록특허유지비용이많이증가하기때문에특허관리비용의부담때문에국내출연연구소등은 5 년이후부터특허의상업성을검토한후특허권포기여부를결정하게된다. 17) 2004 년 12 월 31 일까지출원공개된특허중심사과정을거쳐등록된특허를대상으로 2005 년현재특허권이소멸된특허를대상으로특허권소멸일까지기간을산출한것을특허수명으로표현한다. 22

40 2. 국가별전체특허동향 ()특 10.9 허 수 8 명 년 내국인 외국인 < 그림 2-8> 연도별내 외국인의특허수명 2.3 국가별특허동향 국가별특허출원동향 < 표 2-2> 는 1990년 ~2004년동안 OECD회원국과주요아시아경쟁대상국인대만, 중국, 홍콩및싱가포르등의국가들을대상으로하여구간별특허출원건수와점유율을나타내었다. 1990년 ~2004년동안전체특허출원중에서 OECD 회원국의출원점유율이 99.4%( 전체특허1,135,328건중 1,128,968건 ) 를차지하고있다. 그리고한국을외한외국인특허출원중에서는 98.2%(345,136건중 338,774건 ) 로높은점유율을차지하였다. 외국인중 OECD회원국의국가별점유율을살펴보면, 일본이 13.2%(150,148건 ) 와미국은 8.5%(97,043건 ) 를차지하고, 그뒤로독일 2.8%(31,679건 ), 네덜란드 1.1%(12,231건 ), 프랑스 1.0%(11,856건 ) 의순으로나타났다 Ⅰ Ⅱ 네덜란드, 프랑스및핀란드는최근특허출원이급증세를보이며 1995 년 ~1999 년 구간보다최근 2000 년 ~2004 년구간에서출원점유율이증가하는것으로조사 되었다. 23

41 2 국가별특허동향 주요아시아경쟁국인대만, 중국, 싱가포르및홍콩은출원점유율이 0.3%(3,432 건 ) 로써매우미약한수준을보이고있다. 그러나대만과중국은 2000 년이후특허출원이급증세를보이고있다. < 표 2-2> OECD 회원국및아시아경쟁국의특허출원건수및점유율 OECD 회원국 구분 전체출원건수점유율출원건수점유율출원건수점유율출원건수점유율 한국 86, % 296, % 406, % 790, % 일본 34, % 49, % 66, % 150, % 미국 23, % 33, % 40, % 97, % 독일 6, % 11, % 13, % 31, % 네덜란드 2, % 3, % 6, % 12, % 프랑스 2, % 3, % 5, % 11, % 영국 2, % 2, % 2, % 7, % 스위스 2, % 2, % 3, % 7, % 스웨덴 % 1, % 2, % 4, % 이탈리아 1, % 1, % 1, % 3, % 캐나다 % % 1, % 2, % 호주 % % 1, % 2, % 핀란드 % % 1, % 1, % 덴마크 % % % 1, % 벨기에 % % % 1, % 오스트리아 % % % % 노르웨이 % % % % 스페인 % % % % 헝가리 % % % % 뉴질랜드 % % % % 아일랜드 % % % % 룩셈부르크 % % % % 멕시코 % 5 0.0% % % 그리스 7 0.0% % % % 폴란드 7 0.0% 9 0.0% % % 포르투갈 3 0.0% 4 0.0% % % 아이슬란드 0 0.0% 5 0.0% % % 터키 1 0.0% 3 0.0% % % 체코공화국 2 0.0% 6 0.0% 6 0.0% % 슬로바키아 0 0.0% 5 0.0% 6 0.0% % 소계 164, % 409, % 554, % 1,128, % 24

42 2. 국가별전체특허동향 구분 전체 출원건수점유율출원건수점유율출원건수점유율출원건수점유율 대만 % % % 2, % 아시아경쟁국 중국 % % % % 싱가포르 % % % % 홍콩 % % % % 소계 % % % 2, % 기타 % 1, % 1, % 3, % 전체합계 165, % 411, % % 1,135, % < 그림 2-9> 와 < 그림 2-10> 은한국을외한외국국가중다출원 1 위 ~10 위국과 11 위 ~20 위국의연도별특허출원동향을각각나타내었다. 다출원상위 5개국가중일본과미국은각각 2001년과 2000년이후특허출원이감소세를보이다가 2004년에다시증가하였으며, 네덜란드는특허출원건수가지속적으로증가하다가 2003년에일시적으로감소한후 2004년에다시증가하는경향을나타내었다. 다출원 6위 ~10위내에해당하는국가중영국은 1997년이후출원량이완만하게감소하고있는가운데, 타국가들은꾸준한증가세를보이고있다. 11위 ~15위국가에서는대만과핀란드가 2000년이후특허출원이급증하여각각 2001년과 2002년이후다출원국가 10위내로진입하였다. 15위 ~20위국가는국내특허출원건수가이스라엘, 중국을외하고는연간 100여건에도미치지못하지만최근 3년동안꾸준한증가세를보여주고있다. 중국은 2000년까지매년 40건미만의특허가출원되었으나, 2001년부터특허출원이급증하기시작하여 2004년에 119건이출원되면서다출원국가 17위 18) 를차지하였다 Ⅰ Ⅱ 18) 한국을외한외국인중다출원국가순위임 25

43 2 국가별특허동향 16,000 14,000 < 다출원 1~5 위국가별출원건수 > 12,000 출원건수 10,000 8,000 6,000 4,000 2, 일본미국독일네덜란드프랑스 < 다출원 6~10 위국가별출원건수 > 600 출원건수 영국스위스스웨덴이탈리아캐나다 < 그림 2-9> 다출원 1~10 위국의연도별특허출원동향 26

44 2. 국가별전체특허동향 < 다출원 11~15 위국가별출원건수 > 350 출원건수 호주대만핀란드덴마크벨기에 < 다출원 16~20 위국가별출원건수 > 2 출원건수 Ⅰ 이스라엘오스트리아노르웨이스페인중국 Ⅱ < 그림 2-10> 다출원 11~20 위국의연도별특허출원동향 27

45 2 국가별특허동향 한국을외한다출원상위 20개국가를대상으로구간별특허출원건수및연평균증가율을 < 표 2-3> 에서나타냈다. 1990년 ~2004년동안 5년씩 3구간으로나누어분석한결과, 대부분국가들이연평균 10% 미만의증가율변동이발생하는것으로나타났다. 1990년 ~1999년까지는연평균증가율이상승하였으나최근 (2000년 ~2004년 ) 들어감소하는것으로나타났다. 반면특히중국은 42.9% 로가높은연평균증가율을나타내었고, 네덜란드, 대만, 핀란드도 20% 대의높은연평균증가율을나타났다. < 표 2-3> 다출원국가의구간별특허출원건수및연평균증가율 구분 출원건수증가율출원건수증가율출원건수증가율 일본 34,135건 2.0% 49,619건 4.8% 66,394건 8.1% 미국 23,423건 -0.4% 33,273건 8.4% 40,347건 4.1% 독일 6,694건 1.8% 11,517건 12.0% 13,468건 -0.2% 네덜란드 2,286건 -10.8% 3,227건 17.3% 6,718건 19.9% 프랑스 2,752건 -5.0% 3,795건 9.6% 5,309건 7.9% 영국 2,199건 -2.4% 2,833건 3.8% 2,665건 -1.6% 스위스 2,126건 -0.6% 2,438건 4.6% 3,001건 7.9% 스웨덴 580건 18.2% 1,621건 20.1% 2,490건 2.4% 이탈리아 1,103건 -4.3% 1,130건 -0.8% 1,240건 9.5% 캐나다 383건 4.7% 696건 8.6% 1,042건 15.2% 호주 465건 11.1% 628건 0.3% 1,021건 14.3% 대만 211건 8.5% 473건 26.1% 1,391건 25.4% 핀란드 212건 6.6% 615건 14.7% 1,136건 26.2% 덴마크 284건 31.2% 536건 10.0% 618건 2.0% 벨기에 281건 3.0% 498건 9.9% 623건 6.5% 이스라엘 125건 6.4% 323건 25.1% 585건 6.9% 오스트리아 245건 2.7% 367건 7.1% 373건 -0.2% 노르웨이 113건 11.1% 237건 11.8% 289건 3.4% 스페인 121건 6.5% 162건 5.9% 278건 11.1% 중국 43건 -21.7% 90건 46.1% 326건 42.9% 합계 164,662건 410, ,291건 28

46 2. 국가별전체특허동향 < 그림 2-11> 에서 1999년까지특허출원이없다가 2000년이후부터특허를출원하여 2004년까지 20건이상출원한출원인을주요신규 (Emerging) 출원인으로선정하고이를통해최근주요신규출원인의특허동향을살펴보았다. 대한민국은 186개의주요신규출원인이나타났고, 122개의외국인주요신규출원인중에는일본이 41개로가많았고, 미국 27개, 독일 19개순으로나타났고, 주요국가중에서출원인수대비주요신규출원인의비율이가높은나라는네덜란드로 1.7% 를차지하였고, 프랑스가 1.3% 로그뒤를이었다. 네덜란드프랑스 5개 (1.6%) 독일 9개 (2.9%) 19개 (6.1%) 기타 22 개 (7.1%) 대한민국 186 개 (60.2%) 미국 27 개 (8.7%) 1 일본 41 개 (13.3%) 네덜란드 프랑스 1.3% 1.7% 2 독일미국일본 0.5% 0.8% 1.2% 3 대한민국 0.8% 0.0% 0.4% 0.8% 1.2% 1.6% 2.0% 1. 1 출원인국적기준 < 그림 2-11> 2000 년이후국가별주요신규출원인의수및비율 Ⅰ 국가별특허등록동향 Ⅱ < 그림 2-12> 과 < 그림 2-13> 은외국인중다출원상위 10 개국과 11 위 ~20 위국의 등록률동향을나타내었다. 출원년도를기준으로 1990 년 ~1997 년동안의등록률을 살펴보면일본은 72.3% 를나타내며가높은등록률을보였고, 스웨덴 29

47 2 국가별특허동향 61.3%, 네덜란드 50.4%, 미국 50.0% 의등록률을나타내며그뒤를이었다. 다출원순위 11위 ~20위국의특허등록률을살펴보면, 중국이 54.7% 를나타낸것을비롯하여핀란드, 덴마크, 노르웨이등이 50% 대의등록률을나타내고있다. 80% 60% 심사진행중 40% 20% 0% 일본미국독일네덜란드프랑스 % 60% 40% 20% 0% 영국스위스스웨덴이탈리아캐나다 < 그림 2-12> 외국인중다출원상위 1 위 ~10 위국의등록률동향 30

48 2. 국가별전체특허동향 80% 60% 심사진행중 40% 20% 0% 호주대만핀란드덴마크벨기에 % 80% 60% 이스라엘오스트리아노르웨이스페인중국 % 20% 3 0% Ⅰ < 그림 2-13> 외국인중다출원상위 11 위 ~20 위국의등록률동향 Ⅱ < 표 2-4> 는 1990 년 ~2004 년동안출원된특허중권리범위확인심판, 무효 심판및정정심판등권리분쟁이발생한특허동향을분석한표이다 년부터 2002 년까지출원된특허 880,433 건중 1,837 건 (0.21%) 이권리 31

49 2 국가별특허동향 분쟁이발생하였고연도별로살펴보면 2000년에출원된특허가 215건으로가많은분쟁건수를기록하였다. 국가별로살펴보면우리나라가 1,528건으로전체권리분쟁의 83.2% 를차지하였고, 일본이 175건으로 9.5%, 미국, 독일이각각 64건, 3건을나타내었다. < 표 2-4> 국가별권리분쟁이발생한특허동향 국가 합계 점유율 대한민국 , % 일본 % 미국 % 독일 % 네덜란드 % 영국 % 스웨덴 % 스위스 % 프랑스 % 벨기에 % 캐나다 % 덴마크 % 대만 % 오스트리아 % 이스라엘 % 이탈리아 % 중국 % 노르웨이 % 스페인 % 우크라이나 % 합계 , % 32

50 2. 국가별전체특허동향 2.4 주요국가의특허동향 주요국가들의기술별특허동향을살펴보기위해 1990년 ~2004년동안국내에출원된다출원국가중에서국내에출원된특허가 4,000건이상인 8개국가 19) 와아시아경쟁국중최근에특허출원이급증한대만과연평균증가율이높은중국을추가하여분석하였다 일본 미국 독일 네덜란드 1) 일본 미국 독일 네덜란드의특허동향 < 그림 2-14> 와 < 표 2-5> 는 1990년 ~2004년동안국내에출원된일본, 미국, 독일및네덜란드의기술별특허출원건수와점유율을비교분석하였다. 일본이분석기간동안출원한 150,148건중에서전기 / 반도체 34,607건 (23.0%), 측정 / 광학 15,188건 (10.1%), 정보매체 14,346건 (9.6%) 으로 IT분야에 40% 이상의출원이집중되었던것으로나타났다. 미국은분석기간동안총 97,043건을출원하여전기 / 반도체 13,781건 (14.2%), 전자 / 통신 10,778건 (11.1%), 유기화학 7,918건 (8.2%) 의순으로 IT분야와함께기초과학분야에도많은출원이이루어지고있는것으로조사되었다. 독일은분석기간동안출원한 31,679건에서유기화학 4,882건 (15.4%), 전기 / 반도체 3,363건 (10.6%), 운송 / 포 2,828건 (8.9%) 순으로출원하였다. 네덜란드는동기간동안총 12,231건을출원하여전자 / 통신 3,292건 (26.9%), 전기 / 반도체 1,787건 (14.6%), 정보매체 1,317건 (10.8%) 순으로출원하였다 Ⅰ Ⅱ 19) 일본, 미국, 독일, 네덜란드, 프랑스, 영국, 스위스, 스웨덴 33

51 섬유식료품원자력의약인쇄건설컴퓨터특 송/포금/도금분자진/펌프기/폭발이오리/혼합료/레져유/정밀화학속가공화학/수처리화학용품 2 국가별특허동향 40,000 35,000 30,000 가25,000 20,000 15,000 10,000 5,000 0 정고일본미국독일네덜란드 허출원건수 금광업기계농수산속가공부품무무기바분비금석야엔운유기의전전정보지조명초미세측정/기/반도체자/통신매체출원기간 : '90~2004 년 /가열광학기술< 그림 2-14> 일본 미국 독일 네덜란드의기술별특허출원건수 < 표 2-5> 일본 미국 독일 네덜란드의특허출원동향 구분 일본미국독일네덜란드출원건수점유율출원건수점유율출원건수점유율출원건수점유율 가정용품 1, % 1, % % % 건설 1, % % % % 고분자 5, % 5, % 2, % % 광업 % % % 3 0.0% 금속가공 3, % 1, % % % 기계부품 3, % 1, % 1, % % 농수산 1, % % % % 무기 / 폭발 % % % 7 0.1% 무기화학 / 수처리 2, % 1, % % % 바이오 1, % 2, % % % 분리 / 혼합 2, % 3, % 1, % % 비금속가공 3, % 2, % % % 석유 / 정밀화학 3, % 3, % 1, % % 섬유 2, % 1, % % % 식료품 % % % % 야금 / 도금 3, % 1, % % % 34

52 2. 국가별전체특허동향 구분 일본미국독일네덜란드출원건수점유율출원건수점유율출원건수점유율출원건수점유율 엔진 / 펌프 4, % 1, % 1, % % 운송 / 포 6, % 3, % 2, % % 원자력 % % % 8 0.1% 유기화학 5, % 7, % 4, % % 의료 / 레져 2, % 4, % % % 의약 2, % 5, % 1, % % 인쇄 2, % % % % 전기 / 반도체 34, % 13, % 3, % 1, % 전자 / 통신 12, % 10, % 1, % 3, % 정보매체 14, % 3, % % 1, % 지 % % % % 조명 / 가열 3, % 1, % % % 초미세기술 % % % 1 0.0% 측정 / 광학 15, % 6, % 1, % % 컴퓨터 8, % 7, % % 1, % 합계 150, % 97, % 31, % 12, % 1 < 표 2-6> 은 2000년이후일본 미국 독일 네덜란드의전체출원인과주요신규출원인에의한특허출원의기술분야중다출원상위 5개기술분야의출원동향을살펴보았다. 일본은전체출원인과주요신규출원인의다출원상위 5개기술이모두 IT 관련분야이며, 이기술분야들이전체기술에서차지하는비율은각각 60.5% 와 76.8% 로서일본출원인은대체적으로 IT분야에출원이집중되는것으로나타났으며특히주요신규출원인은이분야에더욱집중하는것으로조사되었다. 미국도역시일본과마찬가지로전체출원인과주요신규출원인모두전기 / 반도체, 전자 / 통신과같은 IT분야에출원집중도가높은것으로나타났으나, 주요신규출원인의경우의료 / 레져분야에도출원집중도가높은것으로조사되었다. 2 3 Ⅰ Ⅱ 독일은전체출원인에서유기화학과전기 / 반도체분야에서높은점유율을 보인데반해주요신규출원인은유기화학과엔진 / 펌프분야에더집중된특허출원을 나타냈다. 35

53 2 국가별특허동향 네덜란드는전자 / 통신분야와전기 / 반도체분야에전체적으로집중되었지만주요신규출원인은측정 / 광학분야에 157건으로 34.9% 을나타냈고, 전기 / 반도체분야에서는 149건으로 33.1% 의높은점유율을각각보이면서측정 / 광학분야에새롭게더집중하고있는것으로나타났다. < 표 2-6> 일본 미국 독일 네덜란드전체및주요신규출원인의국가별기술별출원건수 (2000 년이후 ) 국가 일본 미국 독일 네덜란드 전체출원인의기술분야별출원건수주요신규출원인의기술분야별출원건수 기술분야특허건수점유율기술분야특허건수점유율 전기 / 반도체 16, % 전기 / 반도체 % 측정 / 광학 7, % 정보매체 % 정보매체 6, % 측정 / 광학 % 전자 / 통신 5, % 컴퓨터 % 컴퓨터 4, % 전자 / 통신 % 주요기술소계 40, % 주요기술소계 1, % 전체 66, % 전체 2, % 전기 / 반도체 6, % 전기 / 반도체 % 전자 / 통신 5, % 의료 / 레져 % 컴퓨터 3, % 전자 / 통신 % 유기화학 3, % 측정 / 광학 % 측정 / 광학 2, % 컴퓨터 % 주요기술소계 20, % 주요기술소계 % 전체 40, % 전체 1, % 유기화학 1, % 유기화학 % 전기 / 반도체 1, % 엔진 / 펌프 % 운송 / 포 1, % 전기 / 반도체 % 고분자 1, % 운송 / 포 % 엔진 / 펌프 % 기계부품 % 주요기술소계 6, % 주요기술소계 % 전체 13, % 전체 % 전자 / 통신 1, % 측정 / 광학 % 전기 / 반도체 1, % 전기 / 반도체 % 정보매체 % 유기화학 % 컴퓨터 % 정보매체 % 측정 / 광학 % 고분자 % 주요기술소계 5, % 주요기술소계 % 전체 6, % 전체 % 1. 출원년도 : 2000년 ~2004년 2. 1 IPC기준 36

54 2. 국가별전체특허동향 < 표 2-7> 20) 은 2000 년 ~2004 년동안 4 개국가의특허활동지수 (AI) 와연평균 증가율을나타냈다. 일본의연평균증가율평균은 8.1% 이며, 연평균증가율이평균보다높고, 특허활동이활발한기술분야는건설, 광업, 바이오, 섬유, 식료품, 엔진 / 펌프, 원자력, 의료 / 레져, 의약, 지, 조명 / 가열및컴퓨터등으로나타났다. 미국의연평균증가율평균은 4.1% 이며, 금속가공, 기계부품, 식료품, 전기 / 반도체, 전자 / 통신, 측정 / 광학및컴퓨터가특허출원활동이활발하며평균보다 높은증가율을보이고있다. 독일의연평균증가율평균은 -0.2% 로특허출원이감소하고있는것으로 나타났다. 특허활동이활발하고, 연평균증가율이평균보다높은분야는가정용품, 건설, 식료품, 의료 / 레져, 인쇄, 전자 / 통신및조명 / 가열등으로나타났다. 네덜란드의연평균증가율평균은 19.9% 이고, 특허출원활동이활발하며, 연평균증가율이평균보다높은분야는금속가공, 섬유, 전기 / 반도체등으로나타났다. IT분야의경우연평균증가율은높지만특허활동은상대적으로부진한것으로나타났다. 1 2 < 표 2-7> 일본 미국 독일 네덜란드의특허활동지수 vs 연평균증가율 구분 AI 일본미국독일네덜란드 연평균증가율 AI 연평균증가율 AI 연평균증가율 AI 연평균증가율 가정용품 % % % % 건설 % % % % 고분자 % % % % 광업 % % 금속가공 % % % % 기계부품 % % % % 농수산 % % % Ⅰ Ⅱ 20) 각국의연평균증가율이평균보다높고, AI 가 1.0 이상으로서특허출원활동이활발한부분은하늘색으로표시하였다. 37

55 2 국가별특허동향 구분 AI 일본미국독일네덜란드 연평균증가율 AI 연평균증가율 AI 연평균증가율 무기 / 폭발 % % % 4.3 AI 연평균증가율 무기화학 / 수처리 % % % % 바이오 % % % % 분리 / 혼합 % % % % 비금속가공 % % % % 석유 / 정밀화학 % % % % 섬유 % % % % 식료품 % % % % 야금 / 도금 % % % % 엔진 / 펌프 % % % 14.1 운송 / 포 % % % % 원자력 % % % 1.0 유기화학 % % % % 의료 / 레져 % % % % 의약 % % % % 인쇄 % % % 3.8 전기 / 반도체 % % % % 전자 / 통신 % % % % 정보매체 % % % % 지 % % % % 조명 / 가열 % % % 5.2 초미세기술 % 측정 / 광학 % % % % 컴퓨터 % % % % 평균 % % % % < 그림 2-15> 는 1990년 ~1997년동안의 4개국가의기술별특허등록률을나타냈다. 일본은평균등록률이 72.3% 인것으로나타났고, 엔진 / 펌프분야와야금 / 도금분야에서각각 82.4% 와 78.9% 로높은등록률을보이고, 정보매체, 전기 / 반도체, 전자 / 통신및컴퓨터등의 IT분야는평균보다등록률이높게나타났다. 반면 38

56 1 2 Ⅰ 3 Ⅱ 2. 국가별전체특허동향 39 유기화학, 의료 / 레져및의약등은타기술분야에비해낮은등록률을보이고있다. 미국의평균등록률은 50.0% 이며, 평균보다높은등록률을나타내는기술분야는섬유 (62.9%), 컴퓨터 (60.9%) 및조명 / 가열 (59.3%) 등으로나타났다. 미국역시일본과같이정보매체, 전자 / 반도체등의 IT 분야가평균보다높은등록률을나타내는것으로조사되었다. 독일의평균등록률은 44.5% 로낮은등록률을보이고있다. 무기 / 폭발과식료품에서각각 72.9%, 69.7% 로독일내다른기술분야에비해높은등록률을보였고, 엔진 / 펌프 58.7% 및기계부품 55.9% 순으로나타나기계관련분야의등록률이높게나타났다. 전자 / 통신 55.3%, 정보매체 53.9%, 컴퓨터 51.5% 등의 IT 분야도평균보다높은등록률을나타냈다. 네덜란드의평균등록률은 50.4% 이고, 가공용품 66.7%, 야금 / 도금 65.4% 순으로높은등록률을보였으며석유 / 정밀화학 56.0%, 전자 / 통신 56.0%, 컴퓨터 55.6% 역시평균보다높은등록률을나타내었다. 0% 20% 40% 60% 80% 100% 120% 가정용품건설고분자광업금속가공기계부품농수산무기/폭발무기화학/수처리바이오분리/혼합비금속가공석유/정밀화학섬유식료품야금/도금엔진/펌프운송/포원자력유기화학의료/레져의약인쇄전기/반도체전자/통신정보매체지조명/가열측정/광학컴퓨터등록률일본미국독일네덜란드출원기간 : '90~'97 년 < 그림 2-15> 일본 미국 독일 네덜란드의평균등록률

57 2 국가별특허동향 < 표 2-8> 은 1990년 ~1997년동안출원되어등록된 4개국가의생존율과수명을나타내었다. 일본은바이오의생존율과수명이각각 84.6% 와 11.3년으로서 WIPO 기준 32개기술분야중가높고긴것으로조사되었으며, IT분야에서는정보매체의생존율 (80.2%) 과수명 (10.3년) 이가높고긴것으로나타났다. 미국은인쇄가 93.9% 로가높은생존률을보이고, 다음으로바이오 (93.6%), 의약 (89.9%) 이그뒤를이었고, 특허수명은의약이 11.3년으로가긴것으로조사됨에따라, 미국은 BT관련분야에서의특허가특허권으로서영향력이높으며권리가비교적오래지속되는것으로나타났다. 독일과네덜란드에서생존율이가높은기술은각각엔진 / 펌프 (95.0%) 와건설 (92.3%) 로조사되었다. < 표 2-8> 일본 미국 독일 네덜란드등록특허의생존율및특허수명 구분 일본미국독일네덜란드 생존율특허수명생존율특허수명생존율특허수명생존율특허수명 가정용품 71.6% % % % 9.0 건설 68.1% % % % 12.0 고분자 75.5% % % % 11.4 광업 50.0% % % 9.0 금속가공 72.0% % % % 11.0 기계부품 77.9% % % % 11.0 농수산 73.7% % % 13.0 무기 / 폭발 72.4% % % 12.1 무기화학 / 수처리 73.4% % % % 11.8 바이오 84.6% % % % 11.0 분리 / 혼합 73.8% % % % 11.6 비금속가공 74.3% % % % 11.2 석유 / 정밀화학 80.2% % % % 9.9 섬유 67.1% % % % 10.0 식료품 76.7% % % % 10.2 야금 / 도금 76.3% % % % 10.0 엔진 / 펌프 69.2% % %

58 2. 국가별전체특허동향 구분 일본미국독일네덜란드 생존율특허수명생존율특허수명생존율특허수명생존율특허수명 운송 / 포 68.8% % % % 11.2 원자력 78.6% % % 11.8 유기화학 73.7% % % % 11.3 의료 / 레져 70.9% % % % 15.0 의약 79.7% % % % 9.9 인쇄 78.6% % % % 12.0 전기 / 반도체 77.7% % % % 12.2 전자 / 통신 76.5% % % % 12.1 정보매체 80.2% % % % 12.2 지 64.8% % % 12.0 조명 / 가열 73.7% % % % 12.0 측정 / 광학 79.1% % % % 12.1 컴퓨터 74.9% % % % 합계 75.8% % % % 11.5 초미세기술은분석에서외 21) 2 2) 일본 미국 독일 네덜란드주요출원인의특허동향 < 표 2-9> 에서주요 4개국의구간별출원인수동향을나타내었다. 독일을외한일본, 미국및네덜란드는구간별출원인수가꾸준히증가함에따라국내특허시에진입하는출원인이다변화되는것으로분석되었다. < 표 2-9> 일본 미국 독일 네덜란드구간별출원인수동향 3 Ⅰ 국가 1990~ ~ ~2004 일본 4, 898 5, 658 6,547 미국 4,277 5,579 6,308 Ⅱ 독일 1,297 1,847 1,781 네덜란드 ) 본 한국의특허동향 기술별 p.81 참조 41

59 2 국가별특허동향 < 표 2-10> 은 1990년 ~2004년동안각국가별다출원상위 5개출원인의구간별출원건수, 점유율및연평균증가율의동향을나타내었다. 일본기업중일본의다출원상위 5개기업이차지하는비율은 1990년 ~1994년에 27.1% 였으나 2000년 ~2004년에 21.0% 로감소하는것으로조사되었다. 이는국내특허시에다양한일본기업이출원하면서, 주요 5개기업의출원집중도가감소된것으로분석되었다. 1990년 ~1994년동안일본기업중다출원 4위였던 Matsushita는특허출원이꾸준히증가하여 2000년 ~2004년구간에서다출원 2위로순위상승하며 5.5% 의점유율을차지하였다. Toshiba는 1990년 ~1994년에일본기업중다출원 1위였으나특허출원이점차감소하여 2000년 ~2004년도에는 1,948건으로다출원순위 5위로떨어지면서점유율도 2.9% 로크게감소하였다. 미국의다출원상위 5개출원인중 IBM은 1990년 ~1994년에 596건으로다출원 4위에머물었으나이후 1위로올라서면서 2000년 ~2004년에 4.4% 의점유율을보여주었다. 3M은점차그점유율이증가하면서 2000년 ~2004년에 17.6% 의높은연평균증가율을보여주었다. 휴대폰등을생산하는 Motorola는 1990년 ~1994년 718건으로다출원 1위를차지하였는데, 1995년 ~1999년에연평균증가율이 -6.2% 로감소세를보이다가 2000년 ~2004년에 11.0% 의증가율을보이면서증가세를나타냈다. 독일의 Robert Bosch는 1990년 ~1994년에 422건으로 6.3% 의점유율을보이면서다출원 4위를차지하고, 1995년 ~1999년에점유율 10.7% 를차지하면서다출원 2위에올라섰고, 2000년 ~2004년에는 10.6%(1,421건 ) 의점유율을차지하면서다출원 1위를차지하였다. 세계적인종합화학회사중하나인 Hoechst는 1990년 ~1994년에 13.3%(891건 ) 로다출원 1위를차지하였는데, 1999년프랑스의롱프랑로라사와합병하여 Aventis로바뀐이후특허출원이크게감소하였다. 네덜란드의경우한국내네덜란드전체특허출원의 61.8% 를 Philips가차지 42

60 2. 국가별전체특허동향 하고있는것으로나타났다. 연평균증가율도계속적으로상승하고있어앞으로도네덜란드의한국내특허출원은 Philips가주도할것으로보인다. 화학및약회사인 AKZO는 1990년 ~1994년에 191건으로다출원 4위를차지하였는데, 꾸준한증가세로 2000년 ~2004년에는 251건으로 Philips에이어다출원 2위에올랐다. < 표 2-10> 일본 미국 독일 네덜란드주요출원인의구간별특허출원동향 국가일본미국독일네덜란드 주요출원인 출원건수 1990~ ~ ~2004 점유율연평균증가율 출원건수 점유율연평균증가율 출원건수 점유율연평균증가율 Sony 2, % 9.7% 3, % 5.5% 3, % 4.3% Matsushita 1, % -2.5% 2, % 12.6% 3, % 11.4% Toshiba 2, % -10.9% 2, % -8.6% 1, % 2.7% NEC % 87.4% 3, % 18.1% 2, % -34.5% Hitachi 1, % -2.4% 1, % 0.4% 2, % -8.5% 주요출원인소계 9, % 2.2% 13, % 6.0% 13, % -2.9% 일본전체 34, % 2.0% 49, % 4.8% 66, % 8.1% IBM % 26.7% 2, % 20.1% 1, % -10.5% 3M % 11.8% % -7.7% 1, % 17.6% Motorola % 4.9% 1, % -6.2% % 11.0% P&G % 1.5% 1, % 30.8% % -22.9% Dupont % -15.0% % 2.3% % 8.8% 주요출원인소계 3, % 4.8% 6, % 9.3% 4, % -8.7% 미국전체 23, % -0.4% 33, % 8.4% 40, % 4.1% Robert Bosch % -7.7% 1, % 33.1% 1, % -13.8% BASF % -11.5% % 22.1% 1, % -0.7% Siemens % 7.5% 1, % 41.6% % -15.7% Bayer % 6.1% % 3.6% % -28.0% Hoechst % -2.4% % -49.2% % % 주요출원인소계 2, % -3.4% 4, % 15.5% 4, % -8.1% 독일전체 6, % -2.7% 11, % 16.8% 13, % -12.1% Philips 1, % -13.1% 1, % 20.6% 4, % 24.4% Maatschappij % -6.6% % 0.8% % 0.8% AKZO % 3.2% % 1.7% % 4.0% Unilever % -24.5% % 27.2% % -6.2% DSM % 23.6% % 48.2% % -24.8% 주요출원인소계 1, % -10.9% 2, % 17.8% 5, % 18.7% 네덜란드전체 2, % -10.8% 3, % 17.3% 6, % 19.9% Ⅰ Ⅱ 43

61 2 국가별특허동향 < 표 2-11> 에서 1999 년까지특허출원이전혀없었으나 2000 년이후출원이 급증하여주목되는일본 미국 독일 네덜란드의주요신규출원인을살펴보았다. 일본은 2003년에 Hitachi와 Mitsubishi가합작하여설비한반도체관련업체인르네사스테크놀러지가 2003년부터 100건이상의특허를출원한것으로나타났고, 2000년이후특허출원된 352건중에전기 / 반도체분야에 208건을출원하면서이기술분야에좀더집중하고있는것으로나타났다. NEC에서반도체전문기업으로독립한엔이씨일렉트로닉스가 87건으로그뒤를잇고있는것으로나타났다. 앞서살펴본이들주요신규출원인의주력기술은모두 IT분야인것으로나타났다. 미국은글러벌약회사인지이메디컬시스템즈글로발테크놀러지가총특허출원건수 169건중의료 / 레져분야에 149건을출원하면서이기술분야에집중하는것으로조사되었고, 반도체전문기업인에이저시스템즈, 미국사이나미드사와유한양행의합작으로한국에설립된와이어쓰가 2000년이후활발한특허출원활동을펼치고있는것으로나타났다. 독일은화학관련업체인바이엘크롭사이언스와주력업종이엔진 / 펌프분야인알로이즈우벤이주요신규출원인중에서도두각을보이는것으로나타났고, 주요신규출원인들의주요기술은유기화학을비롯하여엔진 / 펌프, 운송 / 포등다양한것으로나타났다. 네덜란드는에이에스엠엘네덜란즈가총 268 건을출원하였는데이중측정 / 광학 분야에서 136 건을출원하면서최근네덜란드측정 / 광학분야의출원을주도하고 있는것으로나타났다. 44

62 2. 국가별전체특허동향 < 표 2-11> 일본 미국 독일 네덜란드주요신규출원인의출원동향 국가출원인합계 주요기술분야특허수 르네사스테크놀로지 전기 / 반도체 208 엔이씨일렉트로닉스 전기 / 반도체 87 일본 한도따이센단테크놀로지스 전기 / 반도체 137 후지쯔디스플레이테크놀로지스 측정 / 광학 104 후지츠히다찌플라즈마디스플레이 정보매체 67 지이메디컬시스템즈글로발테크놀러지엘엘씨 의료 / 레져 149 에이저시스템즈 전기 / 반도체 87 미국 와이어쓰 유기화학 39 베리안세미콘덕터이큅먼트어소시에이츠 전기 / 반도체 53 1 엑손모빌리서치 & 엔지니어링 석유 / 정밀화학 36 바이엘크롭사이언스 유기화학 독일 알로이즈우벤 엔진 / 펌프 53 바이엘머티리얼사이언스 유기화학 19 보스운트코. 카게 운송 / 포 52 3 카알 - 차이스 - 스티프퉁트레이딩에즈쇼옷트그라스 무기화학 / 수처리 28 Ⅰ 네덜란드 에이에스엠엘네델란즈 측정 / 광학 136 디에스엠아이피어셋츠 유기화학 22 히다치글로벌스토리지테크놀로지스네덜란드 정보매체 37 Ⅱ 에이에스엠엘홀딩 전기 / 반도체 18 솔베이파마슈티칼스 유기화학 16 45

63 2 국가별특허동향 < 표 2-12> 는일본, 미국, 독일및네덜란드에서주요출원인의등록률을 나타내었다. 1990년 ~1997년일본의평균등록률은 72.3% 이고, 다출원상위 5개출원인의평균등록률은 73.0% 로서평균보다높게나타났다. Matsushita와 Toshiba, NEC는 80% 이상의높은등록률을나타냈다. 반면 Sony는 1990년과 1991년에각각 73.4% 및 74.1% 의높은등록률을보이다가 1997년에는 10.0% 로크게하락하였다. 이들평균등록률은심사청구율과비슷한흐름을보이는데심사청구율이 90% 대를넘는다른출원인과달리 Sony의 1990년 ~1997년까지의심사청구율은 75.4% 이고, Hitachi는 72.2% 의심사청구율을나타냈다. 미국다출원상위 5개출원인의평균등록률이 59.7% 로미국전체평균등록률 50.0% 보다높은등록률을나타냈다. 다출원 1위인 IBM은 88.9% 의아주높은등록률을보이면서특허획득을위한관리가아주우수한것으로나타났다. 반면, 3M은미국평균등록률보다낮은 37.1% 의저조한특허등록률을나타냈다. 독일은다출원상위 5개출원인의평균등록률이독일전체의특허등록률인 44.5% 보다더낮은 38.6% 를나타냈다. 주요출원인중 Robert Bosch사가 54.9% 로가높은등록률을나타냈고, Hoechst사가가낮은 30.0% 를나타냈다. 네덜란드역시다출원상위 5개출원인의평균등록률이 50.7% 로전체특허등록률인 53.7% 보다낮게나타냈다. Philips가 52.9% 로가높은등록률을나타났지만 1997년 29.2% 로낮아졌다. 그뒤로 Maatschappij와 Unilever의등록률은 50.0% 와 47.4% 로조사되었다. 46

64 2. 국가별전체특허동향 < 표 2-12> 일본 미국 독일 네덜란드주요출원인의등록률동향 국가 주요출원인 평균 Sony 73.4% 74.1% 63.9% 68.2% 66.8% 59.5% 45.9% 10.0% 55.0% Matsushita 84.1% 85.3% 82.8% 84.8% 87.1% 86.6% 84.5% 71.7% 82.2% Toshiba 82.7% 79.7% 87.4% 86.5% 87.0% 87.5% 89.8% 87.2% 85.3% 일본 NEC 87.1% 92.0% 85.4% 88.1% 89.3% 88.4% 85.9% 86.8% 87.4% 미국독일네덜란드 Hitachi 63.7% 73.5% 66.8% 61.3% 60.5% 63.0% 59.8% 45.9% 62.1% 주요출원인소계 76.7% 78.3% 75.4% 75.6% 77.0% 75.0% 70.9% 61.4% 73.0% 일본총계 72.0% 74.0% 74.9% 74.6% 76.2% 75.1% 73.3% 63.3% 72.3% IBM 97.5% 97.4% 87.5% 87.1% 85.2% 84.1% 90.7% 90.0% 88.9% 3M 42.5% 39.2% 31.2% 40.1% 36.8% 34.6% 42.9% 31.2% 37.1% Motorola 62.3% 67.5% 77.7% 77.5% 55.7% 72.3% 59.6% 52.7% 64.7% P&G 33.7% 33.3% 73.2% 44.1% 48.9% 48.1% 40.7% 69.0% 51.8% Dupont 42.8% 47.2% 41.4% 56.6% 53.4% 53.3% 61.9% 65.8% 51.5% 주요출원인소계 51.0% 55.9% 60.3% 61.5% 56.0% 64.4% 63.6% 59.8% 59.7% 미국총계 47.3% 50.5% 52.9% 53.2% 50.1% 53.3% 51.2% 44.2% 50.0% Robert Bosch 44.2% 57.1% 63.5% 64.2% 75.9% 62.3% 58.8% 38.7% 54.9% BASF 24.0% 33.3% 40.3% 28.6% 37.0% 43.0% 28.2% 33.0% 32.4% Siemens 41.7% 38.9% 52.9% 66.7% 51.6% 59.0% 48.0% 38.0% 46.7% Bayer 24.8% 38.9% 33.0% 36.2% 45.7% 48.4% 31.7% 25.0% 35.7% Hoechst 32.5% 30.8% 38.6% 37.3% 31.1% 28.1% 21.1% 9.6% 30.0% 주요출원인소계 30.2% 37.8% 40.6% 41.9% 45.2% 45.9% 39.9% 31.2% 38.6% 독일총계 39.5% 41.6% 46.5% 47.8% 52.4% 50.7% 44.7% 35.7% 44.5% Philips 47.0% 61.5% 69.5% 67.7% 61.7% 57.9% 55.6% 29.2% 52.9% Maatschappij 60.3% 60.0% 48.2% 27.6% 37.5% 54.2% 52.2% 41.9% 50.0% AKZO 56.7% 56.5% 44.2% 39.5% 32.4% 50.0% 47.1% 35.7% 44.7% Unilever 75.7% 57.4% 66.7% 38.1% 41.7% 32.4% 16.7% 28.2% 47.4% DSM 33.3% 36.4% 62.5% 28.6% 22.2% 38.9% 12.5% 35.8% 주요출원인소계 51.9% 59.7% 62.3% 57.6% 52.5% 50.7% 51.5% 30.9% 50.7% 네덜란드총계 52.0% 60.8% 59.9% 55.6% 52.3% 51.0% 50.9% 31.5% 53.7% Ⅰ Ⅱ 47

65 2 국가별특허동향 프랑스 영국 스위스 스웨덴 1) 프랑스 영국 스위스 스웨덴의특허동향 < 그림 2-16> 과 < 표 2-13> 은 1990 년 ~2004 년동안국내에출원된프랑스, 영국, 스위스및스웨덴의기술별특허출원건수와점유율을통해출원동향을살펴보았다. 프랑스는동기간동안총 11,856 건을출원하였으며, 기술분야중유기화학은 1,456 건 (12.4%) 으로가많았고, 전자 / 통신 1,228 건 (10.4%), 의약 1,075 건 (9.1%) 으로그뒤를이었다. 영국은동기간동안총 7,697 건을출원하였으며, 이중유기화학분야가 1,444 건 (18.8%) 으로특허출원이가많고, 의약 600 건 (7.8%), 전자 / 통신 566 건 (7.4%), 전기 / 반도체 499 건 (6.5%) 으로기초과학분야와 IT 분야에출원이많은것으로나타났다. 스위스는 7,565 건을출원하였으며 1,845 건 (24.4%) 으로유기화학분야에가많은출원을하였고, 의약 560 건 (7.4%), 석유 / 정밀화학 476 건 (6.3%), 운송 / 포 460 건 (6.1%) 으로나타났다. 스웨덴은 4,691 건을출원하여전자 / 통신 1,027 건 (21.9%), 유기화학 474 건 (10.1%), 전기 / 반도체 397 건 (8.5%), 금속가공 340 건 (7.2%) 순으로나타났다 ,200 1,600 2,000 가정용품건설고분자광업금속가공기계부품농수산무기/폭발무기화학/수처리바이오분리/혼합비금속가공석유/정밀화학섬유식료품야금/도금엔진/펌프운송/포원자력유기화학의료/레져의약인쇄전기/반도체전자/통신정보매체지조명/가열초미세기술측정/광학컴퓨터특허출원건수프랑스영국스위스프랑스출원기간 : '90~2004 년 < 그림 2-16> 프랑스 영국 스위스 스웨덴의기술별특허출원건수

66 2. 국가별전체특허동향 < 표 2-13> 프랑스 영국 스위스 스웨덴의특허출원동향 구분 프랑스영국스위스스웨덴 출원건수점유율출원건수점유율출원건수점유율출원건수점유율 가정용품 % % % % 건설 % % % % 고분자 % % % % 광업 % 6 0.1% 2 0.0% % 금속가공 % % % % 기계부품 % % % % 농수산 % % % 5 0.1% 무기 / 폭발 % % % % 무기화학 / 수처리 % % % % 바이오 % % % % 분리 / 혼합 % % % % 비금속가공 % % % % 석유 / 정밀화학 % % % % 섬유 % % % % 식료품 % % % % 야금 / 도금 % % % % 엔진 / 펌프 % % % % 운송 / 포 % % % % 원자력 % % 6 0.1% % 유기화학 1, % 1, % 1, % % 의료 / 레져 % % % % 의약 1, % % % % 인쇄 % % % % 전기 / 반도체 1, % % % % 전자 / 통신 1, % % % 1, % 정보매체 % % % % 지 % % % % 조명 / 가열 % % % % 초미세기술 2 0.0% 4 0.1% 0 0.0% 0 0.0% 측정 / 광학 % % % % 컴퓨터 % % % % 합계 11, % 7, % 7, % 4, % < 표 2-14> 는 2000 년이후프랑스 영국 스위스 스웨덴에서전체출원인의 다출원상위 5 개기술과주요신규출원인의다출원상위 5 개기술을나타내었다. Ⅰ 프랑스의전체출원인은전자 / 통신에 1,008 건 (19.0%) 으로가많은특허를 출원한반면, 주요신규출원인은유기화학 (119 건, 41.6%) 에특허출원비중이 Ⅱ 가높은것으로나타났다. 영국은전체출원인이유기화학및전기 / 반도체분야에집중한반면주요신규출원인은새롭게석유 / 정밀화학 41건 (44.1%), 의료 / 레져 27건 (29.0%) 를 49

67 2 국가별특허동향 차지하며이두분야에특허출원이집중하고있는것으로나타났다. 스위스는전체출원인과주요신규출원인모두유기화학및의약분야에집중하는것으로나타났는데, 특히전체출원인의상위 5개기술의점유율은전체에서 52.5% 를차지한반면주요신규출원인은 84.9% 를차지하면서상위 5개기술에특허출원이매우집중되고있는것으로나타났다. 스웨덴은전체출원인이전자 / 통신분야와유기화학분야에집중한반면주요신규출원인은유기화학분야와새롭게측정 / 광학분야에각각 17건으로 40.5% 를차지하며높은집중도를나타냈다. < 표 2-14> 프랑스 영국 스위스 스웨덴전체및주요신규출원인의국가별기술별출원건수 (2000 년이후 ) 국가프랑스영국스위스스웨덴 전체출원인의기술별출원건수 주요신규출원인의기술별출원건수 기술분야 특허건수 점유율 기술분야 특허건수 점유율 전자 / 통신 1, % 유기화학 % 의약 % 전기 / 반도체 % 전기 / 반도체 % 의료 / 레져 % 유기화학 % 컴퓨터 % 운송 / 포 % 엔진 / 펌프 % 주요기술소계 2, % 주요기술소계 % 전체 5, % 전체 % 유기화학 % 석유 / 정밀화학 % 전기 / 반도체 % 의료 / 레져 % 의약 % 분리 / 혼합 % 전자 / 통신 % 전기 / 반도체 5 5.4% 측정 / 광학 % 엔진 / 펌프 3 3.2% 주요기술소계 1, % 주요기술소계 % 전체 2, % 전체 % 유기화학 % 유기화학 % 의약 % 의약 % 석유 / 정밀화학 % 엔진 / 펌프 % 전기 / 반도체 % 바이오 % 운송 / 포 % 인쇄 % 주요기술소계 1, % 주요기술소계 % 전체 3, % 전체 % 전자 / 통신 % 유기화학 % 유기화학 % 측정 / 광학 % 전기 / 반도체 % 의료 / 레져 3 7.1% 의약 % 의약 2 4.8% 금속가공 % 전기 / 반도체 2 4.8% 주요기술소계 1, % 주요기술소계 % 전체 2, % 전체 % 50

68 2. 국가별전체특허동향 < 표 2-15> 는 2000년 ~2004년동안 4개국에대한기술별특허활동지수와연평균증가율을나타내었다. 프랑스에서연평균증가율이평균 (7.9%) 보다높고, 특허활동이활발한 22) 기술분야는가정용품, 건설, 엔진 / 펌프, 전기 / 반도체, 정보매체및컴퓨터등으로나타났다. 영국은연평균증가율평균이 -1.6% 로최근특허출원이감소하는것으로나타났다. 특허활동이활발하고, 연평균증가율이평균보다높은기술분야는가정용품, 운송 / 포, 전기 / 반도체및조명 / 가열등으로나타났다. 최근 4년동안스위스의연평균증가율평균은 7.9% 이고, 농수산, 야금 / 도금, 전자 / 통신, 정보매체및컴퓨터분야는특허활동지수가 1.0이상으로특허출원 활동이상대적으로활발하고특허출원도증가하는것으로나타났다. 스웨덴에서연평균증가율이평균 (2.4%) 보다높고특허활동이상대적으로 활발한기술분야는분리 / 혼합, 비금속가공, 엔진 / 펌프, 운송 / 포및컴퓨터로 나타났다. 구분 < 표 2-15> 프랑스 영국 스위스 스웨덴의 AI vs 연평균증가율 AI 프랑스영국스위스스웨덴연평균연평균연평균연평균 AI AI AI 증가율증가율증가율증가율 가정용품 % % % 5.0 건설 % % % % 고분자 % % % 24.9 광업 % 금속가공 % % % % 기계부품 % % % % 농수산 % 무기 / 폭발 % 무기화학 / 수처리 % % % 4.4 바이오 % % % % 분리 / 혼합 % % % % 비금속가공 % % % % Ⅰ Ⅱ 22) 특허활동지수가 1 이상인분야 51

69 2 국가별특허동향 구분 AI 프랑스영국스위스스웨덴연평균연평균연평균연평균 AI AI AI 증가율증가율증가율증가율 석유 / 정밀화학 % % % 섬유 % % % 식료품 % % % 야금 / 도금 % % % % 엔진 / 펌프 % % % % 운송 / 포 % % % % 원자력 % % 유기화학 % % % % 의료 / 레져 % % % % 의약 % % % % 인쇄 % % 전기 / 반도체 % % % % 전자 / 통신 % % % % 정보매체 % % % % 지 % % 0.3 조명 / 가열 % % % % 측정 / 광학 % % % % 컴퓨터 % % % % 합계 % % % % 특허출원건수가 10 건이하인기술분야는분석대상에서외하였음 < 그림 2-17> 은 1990년 ~1997년동안 4개국기술별특허등록률을나타내었다. 특허등록률은스웨덴이 61.3% 로써나타내며가높게나타났고, 기타국가는 50% 미만의저조한등록률을보이고있다. 프랑스는평균등록률이 48.9% 이며기술분야중섬유와광업이 66.7% 로서가높은등록률을보이고있다. 의약 64.5%, 지 60.0% 및무기화학 / 수처리 59.7% 를나타내며평균보다높은등록률을보인반면농수산, 원자력, 건설분야는타기술분야보다등록률이비교적낮게나타났다. 영국의평균등록률은 39.2% 이며조명 / 가열분야가 56.9% 로서가높은등록률을보였다. 뒤를이어고분자 48.6%, 의료 / 레져 47.2%, 무기화학 / 수처리 45.9% 로 52

70 1 2 Ⅰ 3 Ⅱ 2. 국가별전체특허동향 53 조사되었다. 스위스의평균등록률은 46.0% 이며 75.0% 의원자력분야가가높은등록률을보였다. 인쇄 67.3%, 기계부품 57.1%, 비금속가공 56.7% 를나타내며그뒤를차지하였다. 스웨덴에서인쇄분야는 1990 년 ~1997 년사이에 7 건이출원되었으며, 7 건모두등록되어 100% 의등록률을보였고, 석유 / 정밀화학 90.0%, 섬유 76.9% 및의료 / 레져 75.0% 순으로나타났다. 0% 20% 40% 60% 80% 100% 120% 가정용품건설고분자광업금속가공기계부품농수산무기/폭발무기화학/수처리바이오분리/혼합비금속가공석유/정밀화학섬유식료품야금/도금엔진/펌프운송/포원자력유기화학의료/레져의약인쇄전기/반도체전자/통신정보매체지조명/가열측정/광학컴퓨터등록률프랑스영국스위스스웨덴출원기간 : '90~'97 년 < 그림 2-17> 프랑스 영국 스위스 스웨덴등록특허의등록률 1990 년 ~1997 년동안출원되어 2004 년까지등록공고된프랑스, 영국, 스위스및스웨덴특허의생존율과수명을 < 표 2-16> 에서살펴보면, 이중스웨덴은 WIPO 기준 32 개기술분야중 20 개기술분야의특허가 2005 년 4 월 9 일까지특허권이지속되어있으며, 지와석유 / 정밀화학을외한기타기술분야도 90% 이상의생존율을나타내고있다. 이로써, 스웨덴은상업성등가치가높은특허가국내에출원및등록된것으로판단된다.

71 2 국가별특허동향 < 표 2-16> 프랑스 영국 스위스 스웨덴등록특허의생존율및특허수명 구분 프랑스영국스위스스웨덴 생존율특허수명생존율특허수명생존율특허수명생존율특허수명 가정용품 65.1% % % % 건설 85.2% % % % 고분자 61.1% % % % 금속가공 75.0% % % % 기계부품 82.2% % % % 농수산 100.0% 100.0% 100.0% 100.0% 무기 / 폭발 66.7% % % 100.0% 무기화학 / 수처리 76.7% % % 100.0% 바이오 92.9% % % % 분리 / 혼합 81.4% % % % 8.0 비금속가공 72.2% % % % 석유 / 정밀화학 69.2% % % % 9.0 섬유 82.1% % % % 식료품 78.9% % 69.4% % 야금 / 도금 79.5% % 76.9% % 엔진 / 펌프 90.3% % % % 11.0 운송 / 포 80.0% % % % 11.4 원자력 80.6% % % 100.0% 유기화학 78.8% % % % 의료 / 레져 83.3% % % % 11.8 의약 79.1% % % % 14.0 인쇄 66.7% % 74.3% % 전기 / 반도체 78.7% % 71.8% % 12.0 전자 / 통신 89.0% % % 97.5% 12.6 정보매체 93.1% % % % 지 100.0% 94.1% % % 10.7 조명 / 가열 75.9% % % % 측정 / 광학 77.9% % % % 컴퓨터 81.1% % % % 합계 78.5% % % % 11.3 특허출원건수가 10건미만인경우분석대상에서외하였음 54

72 2. 국가별전체특허동향 2) 프랑스 영국 스위스 스웨덴주요출원인의특허동향 < 표 2-17> 은 4개국에서국내에특허를출원한출원인수의동향을구간별로살펴보았다. 영국은구간별출원인수가꾸준히증가하였으며, 특히 1995년 ~1999년구간의출원인이크게증가하였다. 반면, 프랑스, 스위스및스웨덴은 2000년 ~2004년구간에서출원인이감소하였으며, 이중프랑스는감소폭이큰것으로조사되었다. < 표 2-17> 프랑스 영국 스위스 스웨덴구간별출원인수의동향 국가 1990~ ~ ~2004 프랑스 영국 스위스 스웨덴 < 표 2-18> 은 1990년 ~2004년동안각국가별주요출원인의구간별출원건수, 점유율및연평균증가율의동향을살펴보았다. 1 프랑스에서 1999년부터특허출원을시작한멀티미디어그룹인 Thomson Licensing은 2000년 ~2004년동안 1,252건 (23.6%) 을출원하여다출원 1위에오르고, 연평균증가율도 139.4% 를나타내며아주높은성세를보이고있다. Atopina 23) 는 Roreal에이어서다출원 3위에올랐다. 영국주요출원인의특허출원은 1990년 ~1994년도에 30.0% 의점유율을보였으나점차하락하여 2000년 ~2004년 15.2% 로써절반정도로떨어졌다. Glaxo Smithklein Beecham 24) 은구간별특허출원건수가꾸준히증가하면서점유율도 1990년 ~1994년 7.7% 에서 2000년 ~2004년 9.2% 로높아진것으로나타났다. ASTRAZENECA 25) 는주연구활동이연구소가있는스웨덴에서이루어짐에따라본사가있는영국에서 ASTRAZENECA의출원건수는급격히 2 3 Ⅰ Ⅱ 23) Atopina 는 2000 년 4 월토털피나와엘프아토켐이합병하면서생긴회사로두회사의출원건수를합산하여분석하였음 24) Glaxo Smithklein Beecham 은 1989 년 Smithklein 과 Beecham 합병한후, 2000 년에 Glaxo 와 Smithklein Beecham 이합병을함 25) ASTRAZENECA 는 1998 년 9 월영국의 ZENECA 가스웨덴의 ASTRA 를인수합병하여만들어졌고, 본사는영국런던에, 연구개발센터는스웨덴에위치. 55

73 2 국가별특허동향 감소하고있는것으로나타났다. 스위스출원인중전체다출원 1위는 Novartis 26) 지만, 1990년 ~1994년 39.1% 에서 1996년합병이후, 1995년 ~1999년 20.1%, 2000년 ~2004년에 9.2% 로점차큰폭으로떨어지고있다. 반면 Novartis에서독립한 Ciba Specialty Chem 은 1995년 ~1999 년 77.3% 의연평균증가율을보이면서 2000년 ~2004 년 344건 (11.5%) 으로 Hoffman Laroche에이어다출원 2위에올랐다. 스웨덴에서다출원 1위는 LM Ericsson으로출원건수가지속적으로증가하고있다. 다출원 2위인 ASTRAZENECA 27) 는 1995년 ~1999년에 193건 (11.9%) 에서 2000년 ~2004년 453건 (18.2%) 으로꾸준한증가세를보였다. 건설중비업체인 Volvo Construction Equipment는 1999년부터출원하여 2000년 ~2004년에 178건 (7.1%) 을출원하면서급격한성세를보이며다출원 3위에올랐다. < 표 2-18> 프랑스 영국 스위스 스웨덴주요출원인의구간별특허출원동향 국가 프랑스 영국 주요출원인 출원건수 1990~ ~ ~2004 점유율연평균증가율 출원건수 점유율연평균증가율 출원건수 점유율연평균증가율 Thomson Licensing 6 0.2% 1, % 139.4% Roreal % 14.4% % 64.1% % -23.7% Atopina % % -1.6% % -7.8% 쌩고벵비뜨라지 % % 5.7% % 7.2% 앵스띠뛰프랑세뒤뼤뜨롤 % 28.8% % 25.3% % -7.8% 소계 % 26.3% % 24.2% 2, % 18.6% 프랑스총계 2, % -5.0% 3, % 9.6% 5, % 7.9% Glaxo Smithkein Beecham % -7.5% % 6.9% % -4.1% IMPERIAL CHEM % -28.3% % -9.0% % -27.5% BRITISHI TELECOM % 10.7% % -10.2% % 13.2% ASTRAZENECA % 121.3% % -26.9% % % BP CHEMICALS % 1.7% % 12.5% % -6.8% 소계 % -9.0% % -1.1% % -5.2% 영국총계 2, % -2.4% 2, % 3.8% 2, % -1.6% 26) Novartis 는 1996 년 CIBA-GEIGY 와 SANDOZ 가합병을함 27) ASTRAZENECA 의본사는영국에있고, 특허출원활동이활발한연구소는스웨덴에있어서합병된후, 연구소가소재한스웨덴의국적으로출원된것은 ASTRA 의건수와합산하여특허동향의분석을실시함 56

74 2. 국가별전체특허동향 국가 주요출원인 출원건수 1990~ ~ ~2004 점유율연평균증가율 출원건수 점유율연평균증가율 출원건수 점유율연평균증가율 Novartis % -4.5% % -19.7% % 12.7% Hoffman Laroche % -8.8% % 18.5% % 7.6% 스위스 Ciba Specialty Chem 3 0.1% % % 77.3% % 4.4% Nestle % -5.4% % 13.4% % -9.7% Asea Brown Boveri % 43.2% % 0.9% 6 0.2% % 소계 1, % -3.2% 1, % 1.3% 1, % 4.8% 스위스총계 2, % -0.6% 2, % 4.6% 3, % 7.9% 스웨덴 LM Ericsson % 36.5% % 25.7% % -27.9% ASTRAZENECA % 89.9% % 29.9% % 13.4% SANDVIK % 49.5% % 21.1% % 30.9% Volvo Construction Equipment 1 0.1% % 118.7% ABB % % -43.3% 소계 % 41.9% % 27.9% 1, % -3.0% 스웨덴총계 % 18.2% 1, % 20.1% 2, % 2.4% 1 < 표 2-19> 는프랑스 영국 스위스 스웨덴에서 2000년이후특허출원이급증하여주목되는주요신규출원인의특허동향을나타내었다. 프랑스는르라보레또레쎄르비에르가 2000년이후에출원한 70건의특허중유기화학분야에서 62건을차지하고, 로디아폴리아미드인터미디에이츠는총 39건중에서 32건을유기화학분야에출원하였다. 이밖에에프씨아이와넥쌍은 2 3 각각 33 건과 29 건의특허출원중에 28 건과 12 건을전기 / 반도체분야에출원하는등 주요신규출원인은유기화학과전기 / 반도체분야에특허출원을집중하는것으로 나타났다. Ⅰ 영국은디씨에이디자인인터내셔널이의료 / 레져분야에 26건을출원하였고, 그밖의주요신규출원인은석유 / 정밀화학등에많은특허를출원하는것으로 조사되었다. Ⅱ 스위스는노바티스와아스트라네카의농업부분이합병되어설립된다국적 농업회사인신젠타파티서페이션즈가유기화학분야에 80 건을비롯해총 87 건을 57

75 2 국가별특허동향 출원하여주요신규출원인중에가많은출원을하였고, 글로벌안약관련약회사인알콘이그뒤를이었다. 스웨덴은 2000년이후에특허출원한주요신규출원인이엑스카운터와바이오비트럼두개뿐이고, 이들의주요기술은측정 / 광학과유기화학분야인것으로나타났다. < 표 2-19> 프랑스 영국 스위스 스웨덴주요신규출원인의특허동향 국가주요신규출원인합계 주요기술분야특허수 르라보레또레쎄르비에르 유기화학 62 로디아폴리아미드인터미디에이츠 유기화학 32 프랑스 에프씨아이 전기 / 반도체 28 넥쌍 전기 / 반도체 12 아벤티스크롭사이언스 유기화학 25 디씨에이디자인인터내셔널 의료 / 레져 26 영국 인피늄인터내셔날 석유 / 정밀화학 23 액센투스 분리 / 혼합 13 인터내셔널코팅스 석유 / 정밀화학 18 신젠타파티서페이션즈 유기화학 80 스위스 알콘 의약 32 비터보시스템즈 엔진 / 펌프 19 케이비에이 - 지오리 인쇄 11 스웨덴 엑스카운터 측정 / 광학 17 바이오비트럼 유기화학 17 58

76 2. 국가별전체특허동향 1990 년 ~1997 년동안출원된특허를대상으로각국가별주요출원인의특허 등록률의동향을 < 표 2-20> 에나타내었다. 프랑스주요출원인의평균등록률 28) 은 40.4% 로프랑스전체평균등록률인 48.9% 보다더낮은것으로나타났다. 이는 92년부터꾸준히출원을해오고있지만 96년부터특허등록이되어평균등록률이 6.1% 라는아주낮은등록률이나온 Atopina로인해전체적인주요출원인의평균등록률이낮게나타났다. 29) 반면 Roreal과쌩고벵비뜨라지는 70% 이상의등록률을나타냈다. 영국의다출원상위 5개출원인의등록률은 38.7% 로서영국평균등록률인 34.6% 보다약간상회하는것으로나타났다. 다출원 1위인 Glaxo Smithklein Beecham은 1990년 23.1%, 1994년 21.1%, 1997년에 18.9% 의낮은등록률을기록하며전체평균등록률이 27.1% 로낮게나타났다. 스위스의다출원상위 5개출원인의평균등록률은 44.0% 를보이면서평균등록률인 46.0% 보다낮은등록률을나타냈다. Nestle은 1990년대중반이후등록률이크게감소하였으나평균 58.4% 로스위스의다출원상위 5개출원인중가높은등록률을보이고있다. 스웨덴에서다출원상위 3개출원인의평균등록률 30) 은 67.7% 로나타나스웨덴평균등록률인 61.3% 보다높은등록률을나타냈다. 이중 LM Ericsson이 76.0% 를나타내며평균보다높은등록률을나타내고, ASTRAZENECA 가 44.2% 의낮은등록률을보인반면, 세계적인툴전문기업인 SANDVIK은평균등록률 75.3% 로스웨덴평균등록률인 61.3% 보다도높은등록률을나타냈다 Ⅰ 28) 프랑스주요출원인중다출원 1 위인 Thomson Licensing 은 1996 년부터출원되었기때문에 1990 년 ~ 1997 년까지분석가능한등록률분석에서외. 29) Atopina 의 1990 년 ~1997 년동안의출원건수와등록건수 Atopina 합계 출원건수 등록건수 ) 스웨덴다출원 4 위와 5 위에해당하는 Volvo Construction Equipment 와 ABB 는 1990~1997 년에출원이없기때문에등록률동향리스트에서외됨. Ⅱ 59

77 2 국가별특허동향 < 표 2-20> 프랑스 영국 스위스 스웨덴주요출원인의등록률동향 국가주요출원인 평균 Roreal 71.4% 62.5% 100.0% 25.0% 75.0% 83.8% 57.1% 85.7% 76.7% 프랑스 영국 스위스 스웨덴 Atopina 8.9% 17.1% 6.1% 쌩고벵비뜨라지 63.6% 80.0% 81.8% 84.6% 72.7% 100.0% 85.7% 7.7% 70.2% 앵스띠뛰프랑세뒤뻬뜨롤 75.0% 100.0% 100.0% 25.0% 45.5% 65.2% 45.5% 29.5% 50.4% 소계 66.7% 77.4% 36.7% 25.0% 35.7% 41.9% 34.5% 39.7% 40.4% 프랑스총계 41.7% 51.5% 53.9% 50.5% 54.5% 56.0% 50.0% 38.9% 48.9% Glaxo Smithklein Beecham 23.1% 28.6% 26.7% 30.2% 21.1% 29.4% 46.4% 18.9% 27.1% IMPERIAL CHEM. 33.0% 32.5% 35.7% 64.3% 50.0% 63.6% 45.5% 52.2% 40.7% BRITISHI TELECOM 50.0% 77.8% 50.0% 52.6% 20.6% 10.9% 30.1% ASTRAZENECA 48.6% 57.9% 54.5% BP CHEMICALS 35.7% 50.0% 80.0% 50.0% 53.3% 61.1% 42.1% 13.3% 47.2% 소계 30.3% 37.1% 38.3% 50.8% 39.8% 51.1% 36.6% 30.2% 38.7% 영국총계 33.4% 39.3% 40.6% 44.4% 47.8% 45.5% 38.6% 28.4% 34.6% Novartis 42.8% 37.8% 41.8% 46.3% 57.3% 53.6% 34.6% 35.4% 44.3% Hoffman Laroche 30.8% 53.1% 57.5% 54.2% 66.7% 69.0% 62.5% 64.3% 56.3% Ciba Specialty Chem 100.0% 100.0% 50.0% 40.0% 20.0% 26.7% Nestle 70.0% 50.0% 85.7% 44.4% 75.0% 83.3% 46.2% 23.1% 58.4% Asea Brown Boveri 20.0% 25.0% 27.8% 20.8% 47.6% 28.0% 21.4% 19.2% 26.4% 소계 41.7% 39.7% 47.4% 44.2% 58.3% 54.9% 36.4% 31.6% 44.0% 스위스총계 40.5% 43.8% 51.8% 49.1% 55.0% 54.2% 41.3% 34.7% 46.0% LM Ericsson 82.4% 97.1% 80.0% 92.9% 83.1% 78.1% 71.4% 63.2% 76.0% ASTRAZENECA 50.0% 45.5% 54.5% 46.2% 38.1% 42.5% 44.9% 44.2% SANDVIK 100.0% 100.0% 33.3% 77.8% 60.0% 86.7% 82.6% 57.1% 75.3% 소계 78.9% 88.9% 58.3% 76.5% 75.3% 71.0% 64.3% 57.4% 67.7% 스웨덴총계 58.1% 70.0% 61.3% 63.6% 71.4% 65.3% 58.2% 53.2% 61.3% 대만 중국 1) 대만 중국의특허동향 1990년 ~2004년동안대만과중국의기술별특허출원건수와구간별로다출원상위기술분야를각각 < 그림 2-18>, < 표 2-21> 및 < 표 2-22> 에나타내었다. 동기간동안대만은특허출원건수 2,075 건으로다출원 12 위에올랐다. 기술 분야로는전기 / 반도체 533 건 (25.7%), 컴퓨터 250 건 (12.0%), 측정 / 광학 223 건 (10.7%), 전자 / 통신 156 건 (7.5%) 의순으로출원되었으며, 다출원상위 5 개 60

78 1 2 Ⅰ 3 Ⅱ 2. 국가별전체특허동향 61 기술분야는 IT 관련분야로서대만전체특허의 65.3% 를차지하는등대만의특허출원은 IT 분야에매우집중되어있는것으로조사되었다. 구간별로살펴보면다출원상위 5 개기술분야인 IT 분야가 1990 년 ~1994 년도에는 74 건 (35.1%) 에서 1995 년 ~1999 년 263 건 (55.5%), 2000 년 ~2004 년 934 건 (67.1%) 으로큰증가세를나타내었다. 가주목되는점은측정 / 광학분야의증가세이다 년 ~1999 년에특허출원건수가 6 위에그치던측정 / 광학분야가점차증가하여 2001 년 15 건으로 5 위, 2002 년 ~2003 년각각 33 건, 35 건으로 3 위그리고 2004 년에는 101 건으로 113 건이출원된전기 / 반도체분야에이어출원점유율 2 위를차지하였다. 중국은우리나라에출원한특허출원건수가 459 건이며이중약 71%(326 건 ) 가 2000 년이후출원되었다. 기술분야는대만과달리다양한분야에유사한수준으로특허출원이이루어지고있다. 다출원 1 위기술은의약분야로 2000 년 ~ 2004 년 36 건으로 11.0% 의점유율을나타내었고전기 / 반도체, 유기화학등이그뒤를이었다 가정용품건설고분자광업금속가공기계부품농수산무기/폭발무기화학/수처리바이오분리/혼합비금속가공석유/정밀화학섬유식료품야금/도금엔진/펌프운송/포원자력유기화학의료/레져의약인쇄전기/반도체전자/통신정보매체지조명/가열초미세기술측정/광학컴퓨터특허출원건수대만중국출원기간 : '90~2004 년 < 그림 2-18> 대만 중국의기술별특허출원건수

79 2 국가별특허동향 국가 기술분야 < 표 2-21> 대만 중국의구간별특허출원동향 출원건수 1990~ ~ ~2004 점유율연평균증가율 출원건수 점유율연평균증가율 출원건수 점유율연평균증가율 전기 / 반도체 % 38.4% % 29.5% % 23.1% 컴퓨터 % -24.0% % 74.1% % 19.5% 측정 / 광학 3 1.4% % 47.6% % 70.5% 대만 전자 / 통신 % 31.6% % 18.5% % 33.8% 정보매체 9 4.3% 18.9% % 0.0% % 60.0% 소계 % 5.0% % 30.3% % 27.7% 대만총계 % 8.5% % 26.1% % 25.4% 의약 2 4.7% % % 14.9% 전기 / 반도체 % 5 5.6% % 유기화학 1 2.3% 2 2.2% % 중국 컴퓨터 2 2.2% % 58.5% 의료 / 레져 % % 3 3.3% % 55.2% 소계 % % % % 53.7% 중국총계 % -21.7% % 46.1% % 42.9% < 표 2-22> 대만출원인의주요기술별국내특허출원동향 기술분류 순위 출원건수 순위출원건수 순위출원건수 순위출원건수 순위출원건수 순위출원건수 전기 / 반도체 측정 / 광학 컴퓨터 전자 / 통신 정보매체 운송 / 포 의료 / 레져 의약 섬유 비금속가공

80 2. 국가별전체특허동향 2) 대만 중국주요출원인의특허동향 < 표 2-23> 을살펴보면대만과중국은국내에출원하는기업이점차증가하고 있으며, 특히 2000 년 ~2004 년동안에는큰폭으로증가한것으로나타났다. < 표 2-23> 대만 중국구간별출원인수의동향 국가 1990~ ~ ~2004 대만 중국 < 표 2-24> 는 1990년 ~2004년동안대만과중국의주요출원인에대한구간별특허출원동향을나타내었다. 대만은다출원상위 5개출원인이전체특허의 10.5%(217건 ) 를차지하며, 타국가에비해적은것으로나타났다. 1995년에반도체수탁생산업체로전환한 UMC(United Microelectronics) 는 51건으로다출원 1위에올랐으나, 2001년이후로출원이없는것으로나타났다. 국가주요출원인 < 표 2-24> 대만 중국주요출원인의구간별특허출원동향 출원건수 1990~ ~ ~2004 점유율연평균증가율 출원건수 점유율연평균증가율 출원건수 점유율연평균증가율 UMC % 4 0.3% Industrial Technology Research Institute 4 1.9% % 4.6% % 19.1% 대만 Winbond Electronics 9 4.3% % -7.8% 6 0.4% Opti Max Technology % Inventec 4 0.8% 0.0% % 소계 % 56.5% % 20.1% % 30.6% 대만총계 % 8.5% % 26.1% % 25.4% 차이나페트로-케미칼 7 7.8% % % 55.2% 후아웨이테크놀러지 % 10.8% 차이나아카데미오브 텔레커뮤니케이션즈 8 2.5% % 테크놀로지중국차이나페트로케미칼 7 7.8% % 1 0.3% 디벨로프먼트 칭다오피티엘켐 7 2.1% -5.6% 소계 % % % 41.5% 중국총계 % -21.7% % 46.1% % 42.9% Ⅰ Ⅱ 63

81 2 국가별특허동향 < 표 2-25> 에서최근 2000년부터 2004년동안의대만다출원 5위의주요출원인을나타내었다. 전체에서는다출원 4위를차지한대만최대편광프리즘조업체인 Opti-Max Technology는 2004년도에처음 38건을출원하면서 2000년 ~2004년구간에서는다출원 1위에올랐고, Prime View International 사가 2004년 19건의특허출원을하면서 2004년대만내다출원 1,2위를각각차지하였다. Invectec은 1995년 ~1999년에 4건 (0.8%) 을출원하였다가 2000년 ~ 2004년 34건 (2.4%) 을출원하며큰증가세를보인것으로나타났다. Astec Computer도 2000년 ~2004년구간에 28건을출원하면서새롭게다출원 5위에오르면서최근의출원상승세를나타냈다. 중국에서다출원상위 5개출원인의출원건수가 73건으로 16.0% 의점유율을나타내었다. 이들다출원 5위출원인은모두 1990년 ~1994년에출원이없고 2000년 ~2004년에이르러서야특허출원이활발해졌다. 다출원 1위출원인은중국최대석유회사인차이나페트로-케미칼로 1995년 ~1999년에 7건 (7.8%) 에서 2000년 ~2004년 32건 (9.8%) 로증가하였다. 반면, 차이나페트로케미칼디벨로프먼트는 1995년 ~1999년에 7건 (7.8%) 을출원했지만 2000년 ~ 2004년에단 1건만출원하였다. < 표 2-25> 2000 년 ~2004 년대만주요출원인의특허출원건수 주요출원인 합계 Opti Max Technology Invectec Prime View International Industrial Technology Research Institute Astec Computer

82 3. 국공동연구와외국연구인력의활용 3 국공동연구와외국연구인력의활용 3.1 국공동연구 국가별국공동연구현황 1990년 ~2004년동안 OECD회원국및아시아주요경쟁국을대상으로국공동연구에의한특허출원건수및국공동연구비율을 < 표 2-26> 에나타내었다. 특허출원건수를기준으로보면, 국공동연구에의한출원건수가가많은 국가는일본으로서국공동출원이 3,423 건이고, 한국 2,790 건, 미국 2,713 건 으로그뒤를이었다. 1990년 ~2004년동안특허출원건수가 100건이상인국가중에서중국의국공동연구비율이 24.9% 를나타내며국가간연구활동에서가활발한것으로나타났다. OECD회원국중에서는아일랜드가 9.2% 를차지하고, 그뒤로캐나다가 9.0% 를차지하였다. 국공동출원건수가가많았던일본은국공동출원비율이 2.2% 로나타났고, 미국은 2.8% 의낮은수치를보였다. 우리나라도국공동출원비율이 0.4% 로 OECD회원국과아시아경쟁국사이에서가낮게나타났다. < 표 2-26> OECD회원국및아시아주요경쟁국의국공동연구현황 구분 OECD 국가 국가 국공동출원건수 국가별출원건수 31) 국공동출원비율 한국 2, , % 일본 3, , % 미국 2,713 98, % 독일 1,143 32, % 네덜란드 , % 프랑스 , % 영국 497 7, % 스위스 472 7, % 스웨덴 118 4, % 이탈리아 160 3, % 캐나다 203 2, % 호주 162 2, % Ⅰ Ⅱ 65

83 2 국가별특허동향 구분 아시아경쟁국 국가 국공동출원건수 국가별출원건수 31) 국공동출원비율 핀란드 60 1, % 덴마크 83 1, % 벨기에 124 1, % 오스트리아 187 2, % 노르웨이 % 스페인 % 헝가리 % 뉴질랜드 % 아일랜드 % 룩셈부르크 % 멕시코 % 그리스 % 폴란드 % 포르투갈 % 아이슬란드 % 터키 % 체코공화국 % 슬로바키아 % 대만 80 2, % 중국 % 싱가포르 % 홍콩 % < 표 2-27> 은국공동연구특허다출원상위 20개국의국가간공동연구특허출원건수를나타냈다. 미국, 일본, 독일은다출원상위 20개국과모두협력관계를이루고있는것으로나타났고, 한국은독일과핀란드를외한모든국가와협력관계를이루고있는것으로나타났다. 대부분의국가와가활발한협력관계를이루고있는국가는미국으로일본 (905건), 한국 (602건), 독일 (439건), 스위스 (113건) 와많은국공동연구가있는것으로나타났다. 일본은미국 (905건), 독일 (308건) 과활발한국공동연구가진행되고있는것으로나타났다. 한국은일본과 1,779 건으로가많은국공동연구를진행하였고, 그다음 31) 국가별출원건수는복수출원인을고려한것으로, 즉출원인국적에한국이포함된특허출원건수가 790,977 건으로나타났고, p28 의 < 표 2-2> 는 1 출원인국적을기준으로함. 66

84 3. 국공동연구와외국연구인력의활용 으로미국 (602 건 ), 오스트리아 (115 건 ) 순서대로국공동연구를수행하는것으로 조사되었다. 중국은국공동연구에의한특허출원건수가 134건이고그중 90건이한국과의국공동연구가진행된것으로나타나국공동연구대상국가가한국에집중되어있는것으로조사되었다. 한편대만은전체국공동연구건수 80건중에일본과의공동연구가 38건이고미국과의공동연구가 14건으로국공동연구가상기두국가에집중되어있는것으로분석되었다. < 표 2-27> 국가간국공동연구에의한특허출원건수 국가명코드 AT AU BE CA CH CN DE DK FI FR GB IL IT JP KR NL RU SE TW US 오스트리아 AT 호주 AU 벨기에 BE 캐나다 CA 스위스 CH 중국 CN 독일 DE 덴마크 DK 핀란드 FI 프랑스 FR 영국 GB 이스라엘 IL 이탈리아 IT Ⅰ 일본 JP , 한국 KR , 네덜란드 NL Ⅱ 러시아 RU 스웨덴 SE 대만 TW 미국 US

85 2 국가별특허동향 < 표 2-28> 은국공동연구에의한 1990 년 ~1997 년의특허다출원상위 20 개국을대상으로등록특허의생존율과특허수명을국가전체와국공동연구에 의한특허로상호비교하였다. 등록특허의생존율은러시아와스웨덴, 영국, 캐나다, 핀란드및호주를외 하고는모두국공동출원된특허의생존율이전체보다더높았다. 국공동연구에의한특허가자국의전체평균특허생존율보다 10% 이상높게나타난국가는네덜란드, 대만, 대한민국, 독일및이탈리아로나타났다. 국공동연구에의한등록특허의생존율이자국의전체평균특허생존율보다 5~10% 높게나타난국가는미국, 스위스, 이스라엘, 일본및중국등 5개국이며, 5% 미만으로나타난국가는벨기에와오스트리아로조사되었다. 덴마크는국공동연구에의한등록특허가모두특허권이유지되고있어 100% 의특허생존율을나타냈다. 국공동연구된특허가전체평균보다특허생존율이 21.6% 낮게나타난핀란드는 국공동연구된특허가치수준이매우저하되어있는것으로분석되었다. 국공동연구에의한특허수명이전체의특허수명에비해높은국가는네덜란드, 대만, 대한민국, 벨기에, 이탈리아인것으로나타났다. < 표 2-28> 주요국가별전체및국공동연구에의한특허생존율과특허수명 특허생존율 (%) 특허수명 ( 년 ) 국가명 전체 국공동연구 전체 국공동연구 네덜란드 NL 74.7% 94.1% 대만 TW 60.8% 75.0% 대한민국 KR 66.1% 80.8% 덴마크 DK 95.7% 100.0% 독일 DE 81.0% 91.7% 러시아 RU 89.1% 85.3% 미국 US 79.0% 86.8% 벨기에 BE 88.7% 92.0% 스웨덴 SE 97.3% 96.7%

86 3. 국공동연구와외국연구인력의활용 특허생존율 (%) 특허수명 ( 년 ) 국가명 전체 국공동연구 전체 국공동연구 스위스 CH 79.8% 89.7% 영국 GB 88.2% 87.7% 오스트리아 AT 84.4% 87.3% 이스라엘 IL 86.0% 94.1% 이탈리아 IT 78.3% 89.5% 일본 JP 75.8% 85.0% 중국 CN 75.0% 83.3% 캐나다 CA 91.8% 87.5% 프랑스 FR 78.5% 85.6% 핀란드 FI 96.6% 75.0% 호주 AU 93.8% 92.9% 기술별국공동연구동향 기술분야에따른각구간별국공동연구에의한특허출원건수와국공동 연구비율을 < 표 2-29> 에나타내었다. 1 국공동연구특허건수가 100 건이상인기술분야중 BT 및기초과학관련 분야인바이오, 의약및유기화학은국공동출원비율이모두 1.5% 이상으로 타기술분야에비해매우높은수준을보인것으로전세계적으로국공동연구가 활발한분야는 BT 및기초과학분야로판단된다. 구분 < 표 2-29> 기술별국공동연구특허출원건수및공동연구비율 1990~ ~ ~2004 전체 국공동 특허 국공동 특허 국공동 특허 연구비율 건수 연구비율 건수 연구비율 건수 특허건수 국공동연구비율 가정용품 % % % % 건설 % % % % 고분자 % % % % 광업 8 4.9% % 6 1.0% % 금속가공 % % % % 기계부품 % % % % 농수산 7 0.8% 4 0.2% % % 무기 / 폭발 4 1.1% 7 1.5% 5 0.7% % 무기화학 / 수처리 % % % % 바이오 % % % % 2 3 Ⅰ Ⅱ 69

87 2 국가별특허동향 구분 1990~ ~ ~2004 전체 국공동 특허 국공동 특허 국공동 특허 연구비율 건수 연구비율 건수 연구비율 건수 특허건수 국공동연구비율 분리 / 혼합 % % % % 비금속가공 % % % % 석유 / 정밀화학 % % % % 섬유 % % % % 식료품 % % % % 야금 / 도금 % % % % 엔진 / 펌프 6 0.1% % % % 운송 / 포 % % % % 원자력 1 0.3% 3 0.6% 5 0.8% 9 0.6% 유기화학 % % % % 의료 / 레져 % % % % 의약 % % % % 인쇄 % % % % 전기 / 반도체 % % % % 전자 / 통신 % % % % 정보매체 % % % % 지 4 0.6% % 5 0.4% % 조명 / 가열 % % % % 초미세기술 % 5 0.7% 5 0.7% 측정 / 광학 % % % % 컴퓨터 % % % % 합계 1, % 2, % 2, % 6, % 3.2 연구인력의국화활동 국가별외국연구인력의활용 1990년 ~2004년동안다출원상위 20개국과중국을비교대상국가로선정하여국가별자국의기술개발을위한외국연구인력의활용률을 < 그림 2-19> 에서살펴보았다. 외국연구인력의활용률이란, 특허의권리를한국가가소유한특허중에서발명자에외국인이포함된특허의비율을뜻한다. 외국의연구인력활용이가활발한국가는 62.8%(4,639건 ) 의활용률을나타낸스위스로조사되었다. 이는스위스가세계적으로유명한 Novartis 등의다국적기업의특허출원활동이활발하기때문인것으로판단된다. 70

88 3. 국공동연구와외국연구인력의활용 큰격차를나타내면서 2위를차지한국가는네덜란드로 36.2%(4,360건 ) 의활용률을보여주었다. 아시아국가중가높은활용률을보인국가는대만으로 19.6%(400건 ) 의활용률을나타냈고, 그뒤를이어중국이 10.9%(44 건 ) 의활용률을나타냈다. 이에반해일본과한국은외국인활용의특허건수는각각 2,625건과 6,408건을나타내면서많은건수를나타냈지만, 활용률에서는각각 1.8% 와 0.8% 로비교대상국가중가저조한값을나타냈다. 스위스네덜란드벨기에스웨덴캐나다핀란드프랑스덴마크영국노르웨이미국대만호주오스트리아독일중국이스라엘이탈리아일본대한민국 62.8% 36.2%(4,360건 ) (4,639건 ) 33.4%(451건 ) 28.8%(1,332건 ) 27.9%(570건 ) 23.1%(448건 ) 21.8%(2,517건 ) 21.4%(297건 ) 21.3%(1,585건 ) 21.0%(133건 ) 20.2%(19,381건 ) 19.6%(400건 ) 18.2%(376건 ) 16.5%(155건 ) 14.2%(4,410건 ) 10.9%(44건 ) 8.8%(88건 ) 8.3%(283건 ) 1.8%(2,625건 ) 출원기간 : 1990년 ~ 2004년 0.8%(6,408건 ) 0% 10% 20% 30% 40% 50% 60% 70% < 그림 2-19> 국가별외국인활용률 < 그림 2-20> 은각국가별연구인력이해외에서활동하는비율을살펴보기위해 1990년 ~2004년동안국가별자국의발명자가포함된특허중자국이아닌타국가의기업에서기술혁신활동을하여출원된특허의비율을나타내었다. 비교대상국가는외국인활용률과동일하게다출원상위 20개국과중국을포함하였다. 중국이해외에서의활동비율이 76.4%(4,059건 ) 를나타내며비교대상국가중에 Ⅰ Ⅱ 가높게나타났다. 다음으로벨기에 46.8%(1,766 건 ), 오스트리아 46.4% (1,234 건 ), 캐나다 46.1%(2,444 건 ) 로나타났다. 71

89 2 국가별특허동향 외국인활용률에서매우저조한것으로나타난일본과한국은해외에서의 활동비율역시각각 3.2%(5,548 건 ) 와 0.2%(1,570 건 ) 로낮은수치를나타내며 연구인력의국활동은활발하지못한것으로조사되었다. 중국벨기에오스트리아캐나다영국이스라엘노르웨이이탈리아대만프랑스호주스웨덴덴마크독일스위스네덜란드핀란드미국일본대한민국 76.4%(4,059건 ) 46.8%(1,766건 ) 46.4%(1,234건 ) 46.1%(2,444건 ) 39.1%(6,387건 ) 36.1%(761건 ) 29.7%(307건 ) 28.8%(1,802건 ) 22.6%(552건 ) 22.5%(3,744건 ) 20.7%(730건 ) 16.5%(933건 ) 16.2%(351건 ) 16.0%(6,954건 ) 15.6%(1,073건 ) 13.6%(1,630건 ) 9.8%(232건 ) 8.5%(9,776건 ) 3.2%(5,548건 ) 출원기간 : 1990년 ~ 2004년 0.2%(1,570건 ) 0% 10% 20% 30% 40% 50% 60% 70% 80% 90% < 그림 2-20> 국가별해외에서의활동비율 기술별외국연구인력의활용 1990 년 ~2004 년동안각기술별로출원된특허건수에관하여외국인활용률에 의한특허건수의비율을 < 그림 2-21> 에나타내었다. 가높은외국인활용률을나타낸기술은유기화학분야로서 19.0%(6,361 건 ) 의 활용률을보였고, 의약 14.4%(3,217 건 ), 바이오 12.6% (1,487 건 ), 고분자 11.1%(2,949 건 ) 의순으로나타났다. 외국인활용률이높은분야가기초과학 분야로특허대외의존도 32) 가높은기술분야와일치하는경향을나타내고있다. 반면특허대외의존도가낮은 IT 분야인전자 / 통신 4.5%(7,020 건 ), 측정 / 광학 32) 특허대외의존도란특정기술분야에서외국인의특허출원건수를내국인의특허출원건수로나눈비로서, 이는특정기술분야가외국에얼마나종속되어있는가를의미하여, 1999 년산업백서 ( 산업자원부 ) p.653 에서는기술의존도로표현하기도함. 72

90 3. 국공동연구와외국연구인력의활용 4.0%(3,003 건 ), 컴퓨터 3.9%(3,350 건 ), 전기 / 반도체 3.5%(6,943 건 ) 가낮은 활용률이나왔고, 자동차관련분야인엔진 / 펌프 2.1%(720 건 ), 운송 / 포 2.1%(1,908 건 ) 도낮게나타났다. 유기화학의약바이오고분자석유 / 정밀화학초미세기술지의료 / 레져분리 / 혼합원자력야금 / 도금무기화학 / 수처전자 / 통신비금속가공측정 / 광학컴퓨터광업전기 / 반도체인쇄금속가공정보매체기계부품식료품섬유무기 / 폭발가정용품엔진 / 펌프운송 / 포농수산건설조명 / 가열 19.0%(6,361건 ) 14.4%(3,217건 ) 12.6%(1,487건 ) 11.1%(2,949건 ) 10.8%(1,988건 ) 8.9%(60건 ) 7.7%(230건 ) 7.2%(1,714건 ) 5.8%(1,185건 ) 5.4%(77건 ) 5.1%(894건 ) 4.6%(1,016건 ) 4.5%(7,020건 ) 4.3%(1,010건 ) 4.0%(3,003건 ) 3.9%(3,350건 ) 3.8%(42건 ) 3.5%(6,943건 ) 3.3%(381건 ) 3.3%(718건 ) 3.3%(2,294건 ) 3.2%(814건 ) 2.9%(548건 ) 2.8%(600건 ) 2.7%(42건 ) 2.3%(509건 ) 2.1%(720건 ) 2.1%(1,908건 ) 1.9%(149건 ) 1.8%(458건 ) 출원기간 : 1990년 ~ 2004년 1.6%(635건 ) 0% 5% 10% 15% 20% 25% < 그림 2-21> 기술별외국인활용률 Ⅰ Ⅱ 73

91 2 국가별특허동향 4 소결 내 외국인별특허동향 1990년 ~2004년동안국내출원된특허가총 1,135,328건으로이중내국인에의한특허출원이 790,192건으로 69.9% 의점유율을차지하며, 외국인에의한특허출원은 345,136건으로 30.4% 의점유율을나타내고있다 년이후내국인의특허는급격한증가세를나타냈고, 특히 1995년 ~ 1997년사이에국내동종업체간의출원과다경쟁으로인한특허출원거품현상이나타난것에반해외국인특허는완만한증가세를보였다. 1990년 ~1997년동안출원된특허등록률평균은외국인 58.8% 및내국인 50.1% 로나타나며, 외국인등록특허의생존율평균은 90.1% 를나타내어 66.1% 를나타낸내국인보다높은생존율을나타내고, 특허수명또한외국인등록특허가길게나타나고있다. 국가별특허동향 1990년 ~2004년동안전체특허출원중 OECD회원국은 99.4% (1,128,968건) 의점유율을나타냈고, 대만, 중국등주요아시아경쟁국은 0.3%(3,432건 ) 의점유율을차지하였다. - 외국인특허출원은일본 13.2%(150,148건 ) 및미국 8.5%(97,043건 ) 로이두국가가주도하고있으며, 그뒤로독일 2.8%(31,679건 ), 네덜란드 1.1%(12,231건 ) 의점유율을나타내었고, 주요아시아경쟁국중대만은 0.2%(2,075건 ) 로미약하지만꾸준한증가세를보이고있다 년이후특허를출원하여 2004년까지 20건이상출원한주요신규출원인은대한민국이 186개를나타냈고, 그뒤로일본 41개, 미국 27개, 독일 19개순으로나타났다. 74

92 4. 소결 OECD 회원국및주요아시아경쟁국중특허등록률이가높은국가는 일본으로 72.3% 를나타냈고, 스웨덴이 61.3% 로그뒤를이었고, 중국은 54.7% 의등록률을보였다 년 ~2002년동안출원된 880,433건의특허중권리범위확인심판및무효심판등의권리분쟁이발생한건수는 1,837건으로 0.21% 를차지하였고, 국가별로살펴보면대한민국이 1,528건으로 83.2% 를차지하며가많은분쟁이발생하였고, 일본 175건, 미국 64건, 독일 13건순으로나타났다. 주요국가별특허동향 일본은전기 / 반도체및측정 / 광학, 정보매체등 IT분야에특허출원이집중되고이들분야의등록률역시평균 (72.3%) 보다높은것으로나타났으며생존율은바이오분야가 84.6% 로가높은생존율을나타냈고, 그뒤로석유 / 정밀화학, 정보매체분야가각각 80.2% 로나타났다. Matsushita의성세에주목할만하다. 미국은전기 / 반도체및정보통신등의 IT분야와유기화학등의기초과학에다출원이이루어지고있고, 이들분야의등록률역시평균 (50.0%) 보다높은것으로나타났고, 생존율에서는인쇄분야가 93.9% 를기록하며가높은수치를나타냈다. 3M은높은연평균증가율로 2000년 ~ 2004년도에다출원 1위인 IBM에이어다출원 2위에오르며성세를이어갔다 Ⅰ 독일은유기화학에 4,882건 (15.4%) 으로가많은특허가출원되었고, 그뒤로전기 / 반도체분야가 3,363건 (10.6%) 순으로나타났다. 특허활동이상대적으로활발하고, 연평균증가율이평균보다높은분야는전자 / 통신, 조명 / 가열, 의료 / 레져등으로나타났고, 평균등록률은 44.5% 로낮게나타났다. Robert Bosch사는꾸준한성으로 2000년 ~2004년에 1,421건 (10.6%) 으로다출원 1위를차지하였고, 등록률에서도 54.9% 로역시 Ⅱ 75

93 2 국가별특허동향 가높은등록률을보였다. 네덜란드는전자 / 통신분야에 3,292건 (26.9%) 로가많은특허출원이있었고, 전기 / 반도체 1,787건 (14.6%), 정보매체 1,317건 (10.8%) 순으로뒤를이었다. 특허활동이상대적으로활발한분야는전기 / 반도체, 금속가공및섬유분야로나타났고, 평균등록률은 50.4% 를나타냈다. 네덜란드는 Philips가 61.8% 의점유율을차지하는등특허출원을주도하고있으며, AKZO가최근꾸준한증가세를나타냈다. 프랑스는유기화학과의약, 전자 / 통신등에다출원이있었고, 전기 / 반도체, 정보매체등 IT 관련분야에서연평균증가율과특허활동면에서우수한것으로나타났다. 바이오, 엔진 / 펌프, 전자 / 통신등의기술분야는평균 (78.5%) 보다높은등록률을나타냈고, 멀티미디어그룹인 Thomson Licensing이최근아주높은성세로다출원 1위를차지하였다. 영국은유기화학, 의약, 전자 / 통신등 BT 및 IT 관련분야에특허출원이집중되어있으며, 이들분야의생존율역시평균 (88.2%) 보다높은것으로나타났다. 합병된 Glaxo Smithklein Beecham 은꾸준한특허출원의증가세를나타냈다. 스위스에서다출원기술분야는의약, 석유 / 정밀화학및운송 / 포등으로나타났으며, 전자 / 통신, 정보매체등의 IT 관련분야는연평균증가율과특허활동도가우수한것으로나타났다. 다출원 1위인 Novartis는합병이후특허점유율이떨어진반면 Novartis에서독립한 Ciba Specialty Chem은큰성세를보이고있다. 스웨덴은전자 / 통신, 유기화학, 전기 / 반도체순으로다출원이있고, 운송 / 포, 컴퓨터, 비금속가공등의분야가연평균증가율도높고, 특허활동이활발한것으로나타났다. 다출원 1위인 LM Ericsson은꾸준히증가된출원건수를나타냈고, 다출원 2위인 ASTRAZENECA는최근에큰증가세를보였다. 다출원 12위를차지한대만은전기 / 반도체, 컴퓨터, 측정 / 광학, 전자 / 통신등 IT 관련분야에특허출원이집중되면서 2000년이후다출원국가 10위로 76

94 4. 소결 상승하였다. 대만내다출원 1위인 UMC는 2001년이후로출원이없고, Opti-Max Technology는 2004년에만 38건의특허를출원하면서다출원 1위에올랐다. 중국은집중적으로특허출원된기술분야는없지만전반적으로증가세를나타내고, 다출원분야는의약분야로나타났다. 다출원상위 5위출원인의점유율이 16.0% 로영향력이작았지만, 최근에는특허출원이활발해진것으로나타났다. 국공동연구와외국연구인력의활용 국가간국공동연구에의한특허출원건수가많은국가는일본 (3,423건), 한국 (2,790건), 미국 (2,713건) 으로나타났고, 각국의특허출원건수중에서국공동연구를통한특허출원비율이높은국가는중국이 26.9% (134건) 를나타내며가높았고, OECD회원국중에서는아일랜드가 9.2%(22건 ) 로가높게나타났다. - 미국, 일본, 독일, 호주는다출원상위 20개국모두와국공동연구를활발히수행하고있으며, 한국은주로일본, 미국및오스트리아와국공동연구를수행하고있다. - 기술별국공동연구는유기화학 (1.8%) 과바이오 (1.6%) 및의약 (1.5%) 분야에서활발하게나타났고, IT분야는국공동연구비율이 0.5% 이하로저조하게나타났다. 외국의연구인력활용을통해특허활동이가활발한나라는스위스 (62.8%) 이며우수연구인력의해외에서의활동이가활발한국가는중국 (76.4%) 으로나타났다. 한국과일본은연구인력활용이매우저조한것으로나타났다 Ⅰ Ⅱ - 외국연구인력의활용이있는높은기술분야는유기화학분야와의약, 바이오및고분자로 BT분야의활동이활발한것으로나타난반면 IT 분야와자동차기술분야등은낮은활용도를나타냈다. 77

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96 한국의특허동향 2005 Chapter 3 기술별특허동향 1. 개요 2. 기술별전체특허동향 3. 차세대성동력산업의특허동향 4. 소결

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98 1. 개요 1 개요 본에서는 1990년 ~2004년동안국내에출원공개된 1,135,328건과 1990년 ~1997년동안출원하여 2004년까지등록공고된 225,343건을대상으로 WIPO기준 32개기술별특허동향을살펴보았다. 또한, 2000년이후외국인이다출원하는기술분야를중심으로 10개기술분야를선정하여세부적으로국가및출원인의동향을살펴보았다. 2 기술별전체특허동향 2.1 기술별특허동향 기술별특허출원동향 1990년 ~2004년동안출원된특허건수를 WIPO기준 32개기술별로구분하여 < 그림 3-1> 에나타내었다. 반도체, 이차전지, 전자부품등이포함된전기 / 반도체는 197,025건으로가많이출원되었고, 유무선통신, TV 등이포함된전자 / 통신은 156,436건으로두번째로많은특허가출원되는등 IT분야의특허출원이가많은것으로나타났다. 나노기술이포함된초미세기술은특허가 681건으로 WIPO기술분야중에가적게조사되었다. 이는초미세기술의경우 1999년정된국특허분류 (IPC) 7판에새롭게분류된기술분야로서 2000년이후주로분류되었고, 또한나노기술은다양한기술분야와접목되어기술개발이이루어지기때문에국특허분류상타기술분야에도많은특허가포함되어있어초미세기술의특허출원건수가적게나타나고있다. 그뒤로는광업 1,142건, 원자력 1,433건순으로적은출원건수를나타냈다 Ⅰ Ⅱ 81

99 3 기술별특허동향 , , , , ,000 전기/반도체전자/통신운송/포컴퓨터측정/광학정보매체조명/가열유기화학엔진/펌프고분자기계부품건설의료/레져비금속가공의약무기화학/수처리가정용품금속가공섬유분리/혼합식료품석유/정밀화학야금/도금바이오인쇄농수산지무기/폭발원자력광업초미세기술197, , 출원기간 : 1990 ~ 2004 < 그림 3-1> WIPO 기준기술별특허출원건수현황 1990 년 ~2004 년동안한국에출원된특허를대상으로기술별연평균증가율의동향을 < 그림 3-2> 에나타내었다 년 ~1994 년에는자동차관련분야인기계부품, 엔진 / 펌프및운송 / 포의연평균증가율과 IT 및전자관련분야인전기 / 반도체, 전자 / 통신, 정보매체, 측정 / 광학및컴퓨터의연평균증가율이고루높게나타났는데, 특히조명, 보일러, 냉고및에어콘등이포함된조명 / 가열분야의연평균증가율이 30.7% 로가높은증가율을나타냈다 년 ~1999 년에는섬유분야를외하고는모든기술분야에서증가된것으로나타났다. BT 관련분야인유기화학과의약분야에서전구간에비해높은증가율을나타냈고, 바이오분야는비슷한흐름을유지하였다 년 ~2004 년에는야금 / 도금부분을외한모든분야에서비슷한증가율을보였다. 자동차관련분야는이전구간들에비해낮은증가율을나타냈고, 컴퓨터분야는 20.1% 를나타내며높아진증가율을보였다. 농수산분야는 20% 이상의높은증가율을보이다가 2000 년 ~2004 년에 4.9% 를나타내며특허출원이크게감소한것을알수있다.

100 2. 기술별전체특허동향 자동차관련분야 I T 및전자관련분야 40% 30% 자동차관련분야 IT 및전자관련분야 20% 10% 0% -10% 40% '90~ '94 30% 20% B T 관련분야 10% 0% -10% 30% '95~ ' % 10% 0% -10% '00~ '04 가정용품 건설 고분자 광업 금속가공 야금 / 도금 농수산 무기 / 폭발 무기화학 / 수처리 유기화학 바이오 의약 석유 / 정밀화학 섬유 식료품 기계부품 엔진 / 펌프 운송 / 포 원자력 비금속가공 의료 / 레져 분리 / 혼합 인쇄 지 조명 / 가열 전기 / 반도체 전자 / 통신 정보매체 측정 / 광학 컴퓨터 < 그림 3-2> 구간별기술분류의특허연평균증가율 기술별특허등록동향 Ⅰ 1990년 ~1997년동안기술별등록률을 < 그림 3-3> 에서살펴보았다. 전체특허등록률의평균은 53.0% 이며, 기술분야중야금 / 도금분야가 69.2% 로가높은등록률을나타냈다. 그뒤로금속가공 61.3%, 광업 61.2% 순으로나타났고, 전자 / 통신 58.1%, 정보매체 57.5%, 컴퓨터 56.9%, 전기 / 반도체 54.4% 등의 IT분야의등록률이평균등록률보다높은것으로나타났다. 반면에운송 / 포분야는 37.7% 를나타내며가낮은등록률을보였다. Ⅱ 83

101 3 기술별특허동향 84 25% 50% 75% 야금/도금금속가공광업섬유무기화학/수처리전자/통신정보매체바이오인쇄무기/폭발컴퓨터농수산측정/광학분리/혼합비금속가공고분자전기/반도체지가정용품조명/가열석유/정밀화학기계부품유기화학건설의료/레져원자력의약엔진/펌프식료품운송/포등록률 69.2% 37.7% 61.3% 전체평균등록률 53.0% 출원기간 : '90~'97 년 < 그림 3-3> WIPO 기준기술별특허등록률현황 2.2 기술별내 외국인특허동향 기술별내 외국인특허출원동향 1990 년 ~2004 년동안내 외국인별기술분야에따른특허출원건수, 점유율, 연평균증가율및특허대외의존도 33) 를 < 표 3-1> 에나타냈다. 내 외국인모두전기 / 반도체및전자 / 통신의특허출원건수가 1,2 위를차지하고, 연평균증가율면에서도내국인은 19% 대로높은증가율을보이고, 외국인은각각 7.6% 및 10.2% 의증가율을나타냈다. 내국인은운송 / 포 72,871 건 (9.2%), 컴퓨터 66,763 건 (8.4%) 건이그뒤를이었고, 외국인은유기화학 26,655 건 (7.7%), 측정 / 광학 26,398 건 (7.6%) 순으로나타났다. 연평균증가율이높은분야는내국인의경우광업 27.9%, 건설 25.8%, 운송 / 33) 특허대외의존도란특정기술분야에서외국인의특허출원건수를내국인의특허출원건수로나눈비로서, 이는특정기술분야가외국에얼마나종속되어있는가를의미하여, 1999 년산업백서 ( 산업자원부 ) p.653 에서는기술의존도로표현하기도함.

102 2. 기술별전체특허동향 포 25.3% 순으로나타났고, 외국인의경우전자 / 통신 10.2%, 컴퓨터 9.0%, 측정 / 광학 7.7% 순으로나타났다. 특허대외의존도가 1.0이상으로나타난것은고분자와의약, 석유 / 정밀화학, 유기화학등의화학관련분야와지및원자력분야로나타났다. 기초과학인유기화학및고분자, 고부가가치산업인약분야의대외의존도가높은것으로나타났다. < 표 3-1> 기술별내 외국인특허출원현황 내국인외국인특허기술분야연평균출원건수점유율의존도증가율출원건수점유율연평균증가율전기 / 반도체 139, % 19.0% 57, % 7.6% 0.41 전자 / 통신 124, % 19.8% 31, % 10.2% 0.26 운송 / 포 72, % 25.3% 17, % 3.5% 0.24 컴퓨터 66, % 20.0% 19, % 9.0% 0.30 측정 / 광학 49, % 22.7% 26, % 7.7% 0.53 정보매체 49, % 17.6% 20, % 5.2% 0.42 조명 / 가열 34, % 22.5% 5, % 2.4% 0.17 엔진 / 펌프 24, % 20.8% 9, % 2.9% 0.37 건설 21, % 25.8% 3, % 3.7% 0.18 가정용품 18, % 23.0% 4, % 4.6% 0.23 기계부품 16, % 21.9% 8, % 3.5% 0.52 식료품 16, % 14.5% 2, % 1.8% 0.16 섬유 15, % 13.6% 5, % 1.7% 0.34 무기화학 / 수처리 15, % 14.7% 6, % 2.2% 0.44 금속가공 14, % 17.5% 7, % 1.4% 0.50 비금속가공 14, % 15.4% 9, % 3.4% 0.65 의료 / 레져 13, % 24.3% 10, % 7.8% 0.80 분리 / 혼합 11, % 23.0% 8, % 3.3% 0.77 고분자 10, % 2.9% 16, % -0.1% 1.48 야금 / 도금 10, % 11.7% 7, % 3.9% 0.68 의약 9, % 17.6% 13, % 6.4% 1.47 석유 / 정밀화학 8, % 13.2% 9, % 3.0% 1.14 인쇄 7, % 8.7% 4, % 3.6% 0.54 유기화학 7, % 11.6% 26, % 1.3% 3.61 바이오 6, % 14.6% 5, % 4.9% 0.85 농수산 6, % 21.3% 1, % 6.8% 0.26 지 1, % 13.6% 1, % 2.5% 1.17 무기 / 폭발 % 10.6% % -1.5% 0.82 광업 % 27.9% % 0.0% 0.40 원자력 % 25.1% % -4.6% 1.28 초미세기술 % % Ⅰ Ⅱ 85

103 3 기술별특허동향 < 표 3-2> 에서 2000년이후내 외국인별로전체출원인의다출원상위 10개기술분야와주요신규출원인의다출원상위 10개기술분야를살펴보았다. 내국인전체출원인과주요신규출원인은모두다출원 1위에서 3위까지의기술분야가전기 / 반도체, 전자 / 통신및컴퓨터분야로동일하게나타났으며, 주요신규출원인은상기 3개기술분야가전체 65.4% 를차지하며특허출원에더욱집중하는현상을나타냈다. 외국인전체출원인과주요신규출원인의경우다출원 1위에서 3위까지전기 / 반도체, 전자 / 통신및측정 / 광학분야가차지한것으로나타났고, 유기화학분야도전체출원인과주요신규출원인모두각각 5위, 4위를차지하였다. < 표 3-2> 2000 년이후전체및주요신규출원인의내 외국인기술별출원수 구분 전체출원인의기술별출원건수주요신규출원인의기술별출원건수기술분야출원수점유율기술분야출원수점유율 전기 / 반도체 66, % 전기 / 반도체 3, % 전자 / 통신 61, % 전자 / 통신 2, % 컴퓨터 46, % 컴퓨터 2, % 운송 / 포 29, % 측정 / 광학 1, % 측정 / 광학 28, % 정보매체 % 내국인 정보매체 19, % 운송 / 포 % 조명 / 가열 16, % 건설 % 건설 13, % 의약 % 가정용품 11, % 바이오 % 엔진 / 펌프 10, % 유기화학 % 소계 304, % 소계 10, % 합계 406, % 합계 12, % 전기 / 반도체 27, % 전기 / 반도체 1, % 전자 / 통신 15, % 전자 / 통신 % 측정 / 광학 12, % 측정 / 광학 % 컴퓨터 10, % 유기화학 % 유기화학 10, % 정보매체 % 외국인 정보매체 9, % 컴퓨터 % 의약 6, % 의료 / 레져 % 운송 / 포 6, % 고분자 % 고분자 6, % 운송 / 포 % 의료 / 레져 5, % 엔진 / 펌프 % 소계 110, % 소계 5, % 합계 151, % 합계 6, % 1. 출원년도 : 2000년 ~2004년 2. 1 IPC기준 3. 다출원기술분야 10개 86

104 2. 기술별전체특허동향 2000년 ~2004년최근동안기술분야별내 외국인의 RPA 34) 와상대적인연평균증가율 35) 을 < 그림 3-4> 와 < 그림 3-5> 에나타내었다 36). 내국인의경우상대적연평균증가율과 RPA가높은분야는건설, 컴퓨터, 가정용품, 섬유, 전자 / 통신, 조명 / 가열등의분야로나타났다. 특허대외의존도가 1.0이상인 6개기술분야는모두 RPA가 0이하로특허활동이부진하며, 이중유기화학은 RPA가약 -80으로서특허활동이가취약한기술분야로나타났다. 의약과석유 / 정밀화학분야는증가세를보이고있다. 외국인의경우상대적연평균증가율과 RPA가 0보다높은분야는측정 / 광학, 인쇄, 전자 / 통신및조명 / 가열등의분야로나타났다. 특허대외의존도가 1.0이상으로내국인보다외국인의특허출원이더많은 6개기술분야는연평균증가율이 0보다낮지만, 모두 RPA가 0 이상으로특화된기술인것으로나타났다. 상대적 연평균증가율 15% 10% 5% 0% -5% -10% 유기화학 고분자 의약 컴퓨터 건설 측정 / 광학 가정용품 의료 / 레져 섬유 전자 / 통신 바이오 조명 / 가열 석유 / 정밀화학정보매체 운송 / 포 전기 / 반도체 식료품 지 무기 / 폭발 기계부품 비금속가공 광업 엔진 / 펌프 원자력 인쇄 농수산 무기화학 / 수처리 금속가공 % 야금 / 도금 -20% RPA 기간 : '00~'04 Ⅰ < 그림 3-4> 내국인의기술별 RPA vs 연평균증가율 34) RPA(Revealed Patent advantage) 로특허활동지수인 AI 값을보정하여그범위를 -100<RPA<100 으로하여 0<RPA<100 은특화된기술분야를의미하고, -100<RPA<0 은특허활동이부진한기술분야임을나타냄. 35) 해당각기술의연평균증가율에서내국인과외국인의연평균증가율의평균을각각뺀값으로 0 보다높아질수록가파르게성을하는분야임을의미함. 36) 특허대외의존도 (Dependant Rate) 가 1 이상으로외국기술에대한의존도가높은것을적색으로표시하였음. Ⅱ 87

105 3 기술별특허동향 15% 12% 9% 컴퓨터 상대적 연평균증가율 6% 3% 0% -3% -6% -9% 전자 / 통신측정 / 광학인쇄식료품농수산전기 / 반도체의료 / 레져섬유건설가정용품정보매체야금 / 도금의약광업바이오금속가공비금속가공석유 / 정밀화학운송 / 포기계부품조명 / 가열엔진 / 펌프유기화학분리 / 혼합고분자무기화학 / 수처리원자력 무기 / 폭발 -12% 지 -15% RPA 기간 : '00~'04 < 그림 3-5> 외국인의기술별 RPA vs 연평균증가율 < 그림 3-6> 은내 외국인의기술별심사청구기간을나타내었다. 내국인과외국인의심사청구기간은평균각각 0.31년및 1.95년으로내국인은출원과동시에심사청구를하지만외국인은약 1~2년후특허가치평가또는시현황을파악한후심사청구하는것으로판단된다. 기술별로살펴보면, 유기화학, 고분자등의기초과학분야는 2.16년, 1.64년이고, 의약 1.41년, 바이오 1.10년으로출원과심사청구까지의시간이평균적으로 1년이상이소요됨에비해전기 / 반도체 0.84년, 전자 / 통신 0.85년, 컴퓨터 0.47년으로기술변화주기가빠른 IT분야등은심사청구기간이빠른것으로나타났다. 가짧은심사청구년도를나타낸기술분야는초미세기술분야로내국인은 0.07년, 외국인은 0.52년으로나타났다. 88

106 1 2 Ⅰ 3 Ⅱ 2. 기술별전체특허동향 유기화학고분자의약석유/정밀화학원자력야금/도금바이오지분리/혼합측정/광학금속가공섬유정보매체기계부품전기/반도체비금속가공의료/레져무기/폭발인쇄전자/통신무기화학/수처리엔진/펌프광업운송/포컴퓨터조명/가열농수산가정용품식료품건설초미세기술심사청구기간 (년 )전체내국인외국인출원기간 : 1990 년 ~ 2004 년 < 그림 3-6> 내 외국인의기술별심사청구기간 기술별내 외국인특허등록동향 1990 년 ~1997 년동안내 외국인의기술별평균등록률을 < 그림 3-7> 에나타내었다. 내국인의전체평균등록률은 50.1% 이며, 기술분야중원자력의등록률이 85.1% 로가높고, 그뒤로바이오 74.3%, 야금 / 도금 73.7%, 광업 73.4%, 유기화학 70.5% 의순서대로나타났다. 가낮은기술분야는운송 / 포으로 33.7% 로나타났다. 외국인의전체평균등록률은 58.8% 이며, 기술분야중정보매체의등록률이 69.6% 로가높고, 그뒤로엔진 / 펌프 68.8%, 인쇄 67.4% 의순서대로나타났으며, 원자력이 38.2% 로가낮은등록률을보이고있다.

107 3 기술별특허동향 90 30% 40% 50% 60% 70% 80% 90% 가정용품건설고분자광업금속가공기계부품농수산무기/폭발무기화학/수처리바이오분리/혼합비금속가공석유/정밀화학섬유식료품야금/도금엔진/펌프운송/포원자력유기화학의료/레져의약인쇄전기/반도체전자/통신정보매체지조명/가열측정/광학컴퓨터등록률내국인외국인출원기간 : '90~'97 < 그림 3-7> 내 외국인의기술별평균등록률 < 그림 3-8> 은 1990 년 ~1997 년동안등록된특허중기술별로내 외국인등록특허의생존율을나타내었다. 내국인의등록특허생존율평균은 66.1% 이며, 원자력분야는 94.7% 로서 WIPO 기준 32 개기술분야중가높은생존율을나타내었다. 전기 / 반도체 77.8%, 정보매체 74.7% 및의약 73.7% 의순으로높은등록률을보였고, 무기 / 폭발이 41.5% 로가낮은생존율을기록했다. 외국인의등록특허생존율평균은 77.9% 로내국인보다 10% 이상높은것으로나타났다. 가높은생존율을기록한기술분야는바이오분야로 88.7% 를나타냈고, 뒤이어의약 86.6%, 의료 / 레져 83.8%, 지 82.2% 의순으로나타났고, 조명 / 가열분야는 72.2% 로서기술분야중가낮은생존율로조사되었다.

108 1 2 Ⅰ 3 Ⅱ 2. 기술별전체특허동향 91 30% 40% 50% 60% 70% 80% 90% 100% 가정용품건설고분자광업금속가공기계부품농수산무기/폭발무기화학/수처리바이오분리/혼합비금속가공석유/정밀화학섬유식료품야금/도금엔진/펌프운송/포원자력유기화학의료/레져의약인쇄전기/반도체전자/통신정보매체지조명/가열측정/광학컴퓨터생존률내국인외국인출원기간 : '90~'97 < 그림 3-8> 내 외국인의기술별평균생존율 < 그림 3-9> 는 1990 년 ~1997 년동안출원되어 2004 년까지등록공고된특허중특허권이상실된특허를대상으로기술별내 외국인의특허수명을나타내었다. 내국인의평균특허수명은 8.2 년이고, 외국인의평균특허수명은 9.9 년으로외국인이내국인보다특허권이평균 1.7 년더지속되는것으로나타났다. 내국인의경우원자력분야은특허수명이 9.8 년으로 WIPO 기준 32 개기술분야중가긴것으로나타났고, 그뒤를이어유기화학 (9.1 년 ), 고분자 (9.0 년 ) 순으로나타났다. 외국인의경우원자력분야가 11.5 년으로가긴특허수명을나타냈고, 바이오 (11.0 년 ), 의약 (10.7 년 ) 순으로그뒤를이었고, 광업분야는 8.9 년으로가짧은특허수명을나타냈다.

109 3 기술별특허동향 정보매체 전자 / 통신 전기 / 반도체 인쇄 측정 / 광학컴퓨터조명 / 가열 10 지 가정용품 건설고분자광업금속가공 기계부품 농수산 무기 / 폭발 무기화학 / 수처리 내국인외국인 의약 의료 / 레져 바이오 분리 / 혼합 유기화학 원자력운송 / 포엔진 / 펌프 비금속가공석유 / 정밀화학섬유식료품야금 / 도금출원기간 : '90~'97년 < 그림 3-9> 내 외국인의기술별특허수명 < 표 3-3> 에서내 외국인의권리분쟁중무효심판과권리범위확인심판이발생하는기술별로살펴보았다. 내국인의무효심판의경우전체 1,264건중에서건설분야와컴퓨터분야에서각각 123건과 122건을나타내며가많이발생한것으로나타났고, 권리범위확인심판의경우는전체 1,170건중에서컴퓨터분야가 111건을나타내며가많은건수를나타냈고, 그다음으로건설분야와비금속가공분야가 89건을나타내며그뒤를이었다. 외국인의경우전기 / 반도체분야에서무효심판과권리범위확인심판이각각 26건, 14건을나타내며가많이발생하는것으로나타났다. 92

110 2. 기술별전체특허동향 기술분야 < 표 3-3> 내 외국인의기술별권리분쟁횟수 무효심판 내국인외국인전체 권리범위확인심판 무효심판 권리범위확인심판 무효심판 권리범위확인심판 가정용품 건설 고분자 광업 금속가공 기계부품 농수산 무기 / 폭발 무기화학 / 수처리 바이오 분리 / 혼합 비금속가공 석유 / 정밀화학 섬유 식료품 야금 / 도금 엔진 / 펌프 운송 / 포 원자력 유기화학 의료 / 레져 의약 인쇄 전기 / 반도체 전자 / 통신 정보매체 지 Ⅰ Ⅱ 조명 / 가열 측정 / 광학 컴퓨터 합계 1,264 1, ,406 1,270 93

111 3 기술별특허동향 2.3 세부기술별특허동향 1990년 ~2004년동안국내에출원된외국인다출원순위와특허대외의존도가 1.0이상인기술분야를고려하여전자 / 반도체, 전자 / 통신, 유기화학, 측정 / 광학, 정보매체, 컴퓨터, 운송 / 포, 고분자, 의약및석유 / 정밀화학분야로선별하여각기술별출원동향과출원인동향등을분석하였다 전기 / 반도체 < 그림 3-10> 은전자 / 반도체 37) 분야의내 외국인출원동향을나타내었다. 내국인의특허출원은 1991년부터외국인을추월한후 1994년에급증하여외국인보다두배이상의격차가났다. 내국인은 2004년에도특허출원이급증하여 76.8% 의점유율을차지하였다. 30,000 25,000 내국인외국인전체 출원건수 20,000 15,000 10,000 5, < 그림 3-10> 전기 / 반도체내 외국인의특허출원동향 37) 전기 / 반도체분야의주요서브클래스 H01J : 전자관, 방전램프 H01L : 반도체치 H01M : 화학적 전기적에너지를직접변환하기위한방법및수단 ex) 이차전지등 H02K : 발전기, 전동기 H05K : 인쇄회로, 전기치의구조적세부 94

112 2. 기술별전체특허동향 < 그림 3-11> 은전기 / 반도체분야에서 1990 년 ~2004 년동안특허를출원한 외국국가중에전체 500 건이상의특허출원을한일본, 미국, 독일, 네덜란드, 프랑스, 대만의특허출원현황을나타낸것이다. 전기 / 반도체분야에서우리나라다음으로많은출원을하고있는일본은특히 1999년 ~2001년동안많은특허출원을하였고, 미국은꾸준한증가세를보이면서외국중다출원 2위를차지하였다. 아시아경쟁대상국인대만도 2000년이후매년 50건이상의특허가출원되면서 2004년에외국중다출원 6위에올랐다. 출원건수 4,000 3,500 3,000 2,500 2,000 1,500 1, 출원인기준 2. 기간 : 1990~2004 일본 미국 독일 네덜란드 프랑스 대만 Ⅰ Ⅱ < 그림 3-11> 전기 / 반도체외국주요국가의특허출원동향 95

113 3 기술별특허동향 < 표 3-4> 는전기 / 반도체분야에서 1990년 ~2004년의전체출원이 500건이상인국가와 500건이하의국가를기타국가로묶어국가별특허출원건수와점유율을나타내었다. 전체 197,025건중우리나라의특허출원건수는 139,293건으로 70.7% 를차지하였다. 점유율로살펴보면 1990년 ~1994년에 60.3%, 1995~1999년에 74.2% 로증가하다가, 2000년 ~2004년에 70.8% 로소폭감소한것으로나타났다. 우리나라와일본에이어다출원 3위를차지한미국은 1990년 ~1994년에 2,827건으로 10.6% 를차지하였다가 1995년 ~1999년에 6.5%, 2000년 ~2004년에 6.4% 를차지하면서구간별로점차감소한것으로나타났다. < 표 3-4> 전기 / 반도체주요국가의특허출원동향 국가 1990~ ~ ~2004 전체 출원건수점유율출원건수점유율출원건수점유율출원건수점유율 대한민국 16, % 56, % 66,883건 70.8% 139, % 일본 6, % 11, % 16, % 34, % 미국 2, % 4, % 6, % 13, % 독일 % 1, % 1, % 3, % 네덜란드 % % 1, % 1, % 프랑스 % % % 1, % 대만 % % % % 기타 % % 1, % 2, % 합계 26, % 75, % 94, % 197, % < 표 3-5> 는 1990년 ~2004년까지출원된전기 / 반도체다출원인을중심으로주요출원인의특허출원동향을나타냈다. 전기 / 반도체분야는하이닉스반도체와삼성전자가주도하는것으로나타났다. 하이닉스반도체는 35,069건으로 17.8% 의점유율을나타냈고, 삼성전자는 32,970건으로 16.7% 의점유율을보였고, 뒤를이어 LG전자 10,021건 (5.1%), 96

114 2. 기술별전체특허동향 삼성 SDI 8,709 건 (4.4%) 을나타냈다. 외국출원인으로는일본의 NEC 가 2,955 건 으로 1.5% 를차지하였다. Toshiba 는 2,596 건 (1.3%), Mitsubishi 2,406 건 (1.2%) 으로그뒤를이었다. < 표 3-5> 전기 / 반도체주요출원인의특허출원동향 주요출원인 국가 1990~ ~ ~2004 전체 출원건수 점유율출원건수 점유율출원건수 점유율출원건수 점유율 하이닉스반도체대한민국 5, % 16, % 12, % 35, % 삼성전자 대한민국 2, % 17, % 12, % 32, % LG전자 대한민국 1, % 3, % 4, % 10, % 삼성SDI 대한민국 % 2, % 5, % 8, % 동부아남반도체 대한민국 % % 5, % 5, % 삼성전기 대한민국 % % 1, % 3, % NEC 일본 % 1, % % 2, % 대우일렉트로닉스대한민국 % 1, % % 2, % Toshiba 일본 1, % % % 2, % Mitsubish 일본 % % 1, % 2, % 주요출원인소계 14, % 46, % 45, % % 전체합계 26, % 75, % 94, % 197, % < 그림 3-12> 는 2000년 ~2004년최근에전기 / 반도체분야다출원상위 10개출원인의상대적인특허활동지수인 RPA와상대적인연평균증가율을비교한 그래프이다 특허출원활동이활발하며연평균증가율도높은출원인은동부아남반도체및삼성SDI로나타났고, 이중에동부아남반도체는연평균증가율과 RPA가가높은것으로조사되었다. 전기 / 반도체분야의다출원 1위에해당한하이닉스반도체는삼성전기, NEC, Toshiba, Mitsubishi와함께특허활동은매우활발하나특허출원증가율은상대적으로저조한것으로나타났다. LG전자와대우일렉트로닉스는연평균증가율은상대적으로높지만특허활동이저조한것으로나타났다. Ⅰ Ⅱ 97

115 3 기술별특허동향 100% 75% 대우일렉트로닉스 상대적 연평균증가율 50% 25% 0% -25% LG 전자 동부아남반도체 삼성 SDI 삼성전기삼성전자 Toshiba Mitsubish 하이닉스반도체 -50% NEC -75% RPA 기간 : '00~'04 < 그림 3-12> 전기 / 반도체의 RPA vs 상대적연평균증가율 < 표 3-6> 은 1990년 ~1997년동안전기 / 반도체의주요출원인의등록률동향을나타내었다. 전기 / 반도체다출원상위 10개출원인의평균등록률은 51.7% 로평균등록률인 54.4% 보다낮은것으로조사되었다. 평균등록률이 55.1% 를나타낸다출원 1위인하이닉스반도체는 1990년대초반에 70% 대로높은등록률을보이다가 1994년 53.6% 로떨어졌다. 삼성전자는평균 39.5% 로다출원상위 10개출원인중에서가낮은등록률을나타냈다. 이는심사청구율과비슷한흐름을보이는데삼성전자는 1990 년대초반에 80~90% 대의심사청구율을보이다가 1995년부터 50% 대로떨어진후 1996년부터는 50% 이하의심사청구율을나타냈다 38). 반면동부아남반도체가전기 / 38) 삼성전자의전기 / 반도체심사청구율 구분 합계 심사청구건수 ,814 1,924 1,795 8,122 출원건수 ,455 4,364 3,873 14,675 심사청구율 95.5% 88.6% 92.7% 71.8% 88.2% 52.5% 44.1% 46.3% 55.3% 98

116 2. 기술별전체특허동향 반도체분야의내국출원인중에서는가높은 84.7% 를나타냈고, 다출원 10 위에포함된외국출원인인 NEC 85.2%, Toshiba 85.6%, Mitsubishi 79.7% 를나타내며모두높은등록률을보였다. < 표 3-6> 전기 / 반도체주요출원인의등록률동향 주요출원인국가 평균 하이닉스반도체대한민국 70.6% 76.9% 69.8% 67.6% 53.6% 54.2% 51.2% 46.1% 55.1% 삼성전자대한민국 51.0% 60.6% 69.3% 59.0% 75.0% 41.1% 34.1% 25.1% 39.5% LG 전자대한민국 48.3% 44.4% 40.9% 38.8% 55.2% 62.3% 67.0% 60.1% 53.5% 삼성 SDI 대한민국 75.4% 82.0% 81.5% 67.4% 51.2% 34.7% 24.0% 45.5% 51.4% 1 동부아남반도체대한민국 100.0% 100.0% 92.9% 92.9% 80.2% 82.0% 83.2% 84.7% 삼성전기대한민국 34.0% 50.5% 40.5% 40.5% 61.8% 62.1% 57.1% 35.2% 48.2% 2 NEC 일본 80.0% 81.8% 81.5% 88.1% 87.4% 84.6% 86.5% 84.3% 85.2% 3 대우일렉트로닉스대한민국 83.3% 47.4% 82.6% 66.2% 57.8% 45.4% 46.8% 19.1% 45.6% Toshiba 일본 81.5% 81.6% 88.3% 92.7% 84.7% 84.1% 91.4% 87.9% 85.6% Ⅰ Mitsubishi 일본 68.8% 79.8% 84.8% 88.9% 80.5% 82.8% 78.3% 76.3% 79.7% Ⅱ 주요출원인의평균등록률 65.3% 67.5% 66.3% 62.4% 61.3% 50.1% 46.1% 41.3% 51.7% 전체평균등록률 61.8% 65.7% 65.7% 62.8% 61.9% 53.1% 50.5% 44.8% 54.4% 99

117 3 기술별특허동향 전자 / 통신전자 / 통신 39) 분야는내국인이외국인에비해특허활동이가활발한기술분야로서 1990년대중반이후내 외국인의출원건수격차가점차심화되어 2004년엔내국인이외국인보다 4배이상많은특허를출원하였다 40). 25,000 20,000 내국인외국인전체 출원건수 15,000 10,000 5, < 그림 3-13> 전자 / 통신내 외국인의특허출원동향 전자 / 통신분야에서 1990년 ~2004년동안특허를출원한외국국가중에전체 500건이상출원한미국, 일본, 네덜란드, 프랑스및독일의특허출원동향을 < 그림 3-14> 에의해살펴보았다. 일본과미국은전자 / 통신분야의특허출원이지속적으로증가하고있으며미국은 2000년직후특허출원이일시적인감소세를보이다가 2003년부터증가세를보이며일본을추월하고다출원 2위를차지하였다. 네덜란드는 2000년직후특허출원이급증하였으나, 2003년에큰폭으로특허출원이감소하였고이후회복하는경향을보였다. 39) 전자 / 통신분야의주요서브클래스 H04B : 전송 ( 이동통신 ) H04L : 디저털정보의전송 ( 데이터통신 ) H04M : 전화통신 ( 유선전화 ) H04N : 화상통신 (TV 등 ) 40) 2004 년내국인특허출원 18,047 건 (81.2%), 외국인특허출원 4,179 건 (18.8%) 100

118 2. 기술별전체특허동향 1,600 1,400 1, 출원인기준 2. 기간 : 1990~2004 미국 일본 출원건수 1, 네덜란드 400 프랑스 독일스웨덴 < 그림 3-14> 전자 / 통신외국주요국가의특허출원동향 1 < 표 3-7> 은전자 / 통신분야에서 1990 년 ~2004 년의전체출원이 500 건이상인 2 국가와 500 건이하의국가를기타국가로묶어구간별특허출원건수와점유율을 나타내었다. 전체 156,436건중에우리나라의특허출원건수는 124,452건으로 79.6% 를차지하였다. 구간별점유율로살펴보면 1995년 ~1999년의점유율이 82.0% 로가높은것으로나타났다. 일본은 1990년 ~1994년도에 2,522건으로 12.1% 의점유율을나타냈는데이후점차점유율이떨어지는것을알수있다. 네덜란드와프랑스는 1995년 ~1999년보다 2000년 ~2004년에특허출원이더증가한것으로나타났다. 3 Ⅰ Ⅱ 101

119 3 기술별특허동향 < 표 3-7> 전자 / 통신주요국가의특허출원동향 국가 1990~ ~ ~2004 전체 출원건수점유율출원건수점유율출원건수점유율출원건수점유율 대한민국 15, % 48, % 61, % 124, % 일본 2, % 4, % 5, % 12, % 미국 1, % 3, % 5, % 10, % 네덜란드 % % 1, % 3, % 프랑스 % % 1, % 1, % 독일 % % % 1, % 스웨덴 % % % 1, % 기타 % % 1, % 2, % 합계 20, % 58, % 76, % 156, % < 표 3-8> 은 1990년 ~2004년까지출원된전자 / 통신분야의다출원상위 10개출원인의특허출원동향을나타냈다. 전자 / 통신분야는삼성전자와 LG전자가특허출원을주도하는것으로나타났다. 외국기업으로는네덜란드의 Philips와일본의 Sony가주요출원인으로나타났다. 삼성전자는전체 30,758건으로 16.6% 의점유율을나타냈고, LG전자는 25,996건으로 7.5% 의점유율을보였다. 그러나최근 2000년 ~2004년두출원인의점유율을살펴보면, 삼성전자 11,596건으로 15.1%, LG전자 15,540건으로 20.2% 의점유율을나타내며 LG전자가삼성전자를추월하였다. 공공기관인한국전자통신연구원은특허출원이큰폭으로증가하여 2000년 ~2004년동안 3,077건을출원하여다출원 3위로순위상승하였다. 2000년 ~2004년구간이 1995년 ~1999년구간에비해특허출원이증가한출원인은 Philips와 SK텔레콤으로나타났고, 특히 SK텔레콤은 2000년 ~2004년에 2,451건을출원하여그구간동안다출원 4위에오르는큰증가세를보였다. 102

120 2. 기술별전체특허동향 < 표 3-8> 전자 / 통신주요출원인의특허출원동향 주요출원인 국가 1990~ ~ ~2004 전체 출원건수 점유율출원건수 점유율출원건수 점유율출원건수 점유율 삼성전자 대한민국 4, % 14, % 11, % 30, % LG전자 대한민국 3, % 6, % 15, % 25, % 대우일렉트로닉스 대한민국 2, % 8, % 1, % 11, % 하이닉스반도체 대한민국 % 4, % 1, % 6, % 한국전자통신연구원 대한민국 1, % 1, % 3, % 6, % KT 대한민국 % 1, % 1, % 3, % Philips 네덜란드 % % 1, % 3, % SK텔레콤 대한민국 % % 2, % 2, % Sony 일본 % 1, % % 2, % 대우통신 대한민국 % 2, % 3 0.0% 2, % 주요출원인소계 14, % 42, % 39, % 96, % 전체합계 20, % 58, % 76, % 156, % 2000년 ~2004년최근의전자 / 통신분야의다출원상위 10개출원인의상대적인특허활동지수인 RPA와상대적인연평균증가율을 < 그림 3-15> 에서비교하였다 특허출원활동과연평균증가율이상대적으로활발하며높은출원인은대우일렉트로닉스, SK텔레콤, 한국전자통신연구원, LG전자, Philips로조사되었다. 이중대우일렉트로닉스의경우전자 / 통신분야의점유율은 2000년 ~2004년에 1.5% 로작지만, 이기간동안특허출원은크게증가하였다. 1995년 ~1999년의출원건수와비교하면큰폭의감소가있었지만 1999년부터다시증가세로돌아서서 2000년 ~2004년의기간사이에큰폭의출원증가를나타내어상대적인연평균증가율이다른출원인에비해높은것으로나타났다. 대우일렉트로닉스는전체출원의약 30% 를전자 / 통신분야에출원하고있는것으로나타나특허출원집중도가매우높은것으로보인다. 전자 / 통신분야의다출원 1위인 Ⅰ Ⅱ 103

121 3 기술별특허동향 삼성전자는최근 2000년 ~2004년동안점유율이이전구간에비해감소하였으며, 상대적연평균증가율에서역시마이너스인것으로나타났다. 다출원 4위인하이닉스반도체는전자 / 통신분야의특허활동과연평균증가율모두저조한것으로나타났다. 75% 50% 대우일렉트로닉스 상대적 25% SK 텔레콤 한국전자통신연구원 연평균증가율 0% -25% 삼성전자 Sony LG 전자 Philips KT -50% 하이닉스반도체 -75% RPA 기간 : '00~'04 < 그림 3-15> 전자 / 통신의 RPA vs 상대적연평균증가율 < 표 3-9> 는 1990 년 ~1997 년에출원된전자 / 통신분야의주요출원인의 특허등록률동향을나타냈다. 대우일렉트로닉스는특허등록률이 39.7% 로전자 / 통신분야다출원상위 10개출원인중가낮은등록률을나타냈다. 대우일렉트로닉스는 1990년 ~1993년까지 60% 이상의등록률을보였으나 1994년이후등록률이큰폭으로감소하여 1997년 26.0% 로저조한등록률을기록하였다. 104

122 2. 기술별전체특허동향 다출원 1위인삼성전자의등록률은 59.5% 로평균등록률보다높은것으로나타났다. 가높은등록률을나타낸출원인은한국전자통신연구원으로 91.1% 의높은등록률을나타냈다. 다출원 10개출원인중에외국출원인으로포함된 Philips는평균 55.3%, Sony는평균 52.5% 를나타냈는데, 특히 Sony의경우연도별로점차하락하여 1997년에 10.5% 를나타내는등평균보다낮은등록률을보였다. < 표 3-9> 전자 / 통신주요출원인의등록률동향 주요출원인국가 평균 삼성전자대한민국 67.7% 61.4% 65.7% 58.9% 70.4% 62.8% 59.0% 52.9% 59.5% LG 전자대한민국 40.1% 35.9% 47.8% 57.3% 57.5% 51.2% 61.9% 58.1% 52.9% 대우일렉트로닉스대한민국 100.0% 66.7% 82.6% 70.9% 53.2% 29.8% 42.5% 26.0% 39.7% 1 하이닉스반도체대한민국 81.6% 69.8% 73.9% 69.9% 67.4% 60.3% 61.5% 56.2% 62.0% 한국전자통신연구원대한민국 97.1% 96.7% 95.0% 93.1% 88.4% 88.5% 79.3% 91.1% 2 KT 대한민국 100.0% 100.0% 77.8% 94.4% 88.5% 80.4% 88.0% 86.4% 87.1% 3 Philips 네덜란드 56.6% 66.1% 71.1% 72.1% 67.2% 72.7% 58.9% 25.5% 55.3% SK 텔레콤대한민국 76.2% 69.6% 86.8% 80.5% 80.9% Ⅰ Sony 일본 83.0% 76.1% 59.7% 64.6% 68.0% 56.3% 47.2% 10.5% 52.5% 대우통신대한민국 90.0% 62.5% 78.3% 89.9% 75.6% 67.4% 67.6% 67.5% 69.7% Ⅱ 주요출원인의평균등록률 67.9% 58.2% 62.3% 66.9% 65.1% 51.4% 59.2% 51.0% 57.3% 전체평균등록률 67.7% 62.2% 64.3% 65.9% 63.9% 53.2% 59.1% 51.2% 58.1% 105

123 3 기술별특허동향 유기화학유기화학분야 41) 는특허대외의존도가가높은분야로외국인의특허활동이내국인에비해매우활발하다. 내국인이 7,390건 (21.7%) 을나타낸반면, 외국인출원은 26,655건으로 78.3% 를차지하였다. 3,000 2,500 내국인외국인전체 출원건수 2,000 1,500 1, < 그림 3-16> 유기화학내 외국인의특허출원동향 유기화학분야에서 1990년 ~2004년동안 1,000건이상출원한대한민국, 미국, 일본, 독일, 스위스, 프랑스및영국의특허출원동향을 < 그림 3-17> 에서살펴보았다. 내국인은 1998년이후특허출원이큰폭으로증가하면서 2001년이후다출원 1위로순위상승한반면, 미국은 1999년을정점으로특허출원이감소세를보이다가 2004년에전년대비약 100건이증가하였다. 41) 유기화학분야의주요서브클래스 C07C : 비환화합물, 탄소화합물 C07D : 이종원자고리화합물로서의약품의신물질등에많이사용 C07F : 주요유기원소이외의원소를함유하는이종원자고리화합물 C07H : 당류, 뉴클레오티드헥산 C07K : 펩티드 106

124 2. 기술별전체특허동향 출원인기준 2. 기간 : 1990~2004 대한민국 600 미국 출원건수 일본독일스위스프랑스영국 < 그림 3-17> 유기화학외국주요국가의특허출원동향 1 < 표 3-10> 은유기화학분야에서 1990 년 ~2004 년의전체출원이 1,000 건 이상의국가와 1,000건이하의국가를기타국가로묶어구간별특허출원건수와점유율을비교하여나타내었다. 2 외국인중유기화학분야를주도한미국, 일본및독일등은구간별차지하는점유율이점차감소세를보인반면, 내국인은점유율이점차증가세를보이면서향후내국인이특허출원을주도할것으로판단된다. 3 국가 < 표 3-10> 유기화학주요국가의특허출원동향 1990~ ~ ~2004 전체출원건수점유율출원건수점유율출원건수점유율출원건수점유율 미국 2, % 2, % 3, % 7, % 대한민국 1, % 2, % 3, % 7, % 일본 1, % 1, % 1, % 5, % 독일 1, % 1, % 1, % 4, % 스위스 % % % 1, % 프랑스 % % % 1, % 영국 % % % 1, % 기타 % 1, % 1, % 3, % 합계 9, % 10, % 13, % 34, % Ⅰ Ⅱ 107

125 3 기술별특허동향 < 표 3-11> 에서 1990년 ~2004년까지출원된유기화학분야의다출원상위 10개출원인의특허출원동향을살펴보면, 다출원상위 10개출원인중 7개를외국기업이차지하였다. 외국중다출원기업중 3개가포함된독일이강세를보이고, 다출원국가인미국은세계적인약업계인 Pfizer가포함되어있다. 내국인은공공기관인한국화학연구원과한국과학기술연구원이포함되어있으며, 기업으로는 LG가유일하게포함되었다. 독일의세계적인종합화학회사중하나인 Hoechst는 1990년 ~1994년 361건으로 3.8% 를차지하며 Novartis에이어두번째로많은출원을하였으나, 1999년프랑스의롱프랑로라사와합병하여 Aventis로탄생하는과정을겪으면서특허출원건수가크게줄어 2000년 ~2004년도에는 3건의출원 42) 에불과하였다. < 표 3-11> 유기화학주요출원인의특허출원동향 주요출원인 국가 1990~ ~ ~2004 전체 출원건수 점유율출원건수 점유율출원건수 점유율출원건수 점유율 BASF 독일 % % % 1, % Bayer 독일 % % % 1, % Novartis 스위스 % % % % Hoffman Laroche 스위스 % % % % Hoechst 독일 % % 3 0.0% % 한국화학연구원 한국 % % % % 한국과학기술연구원 한국 % % % % Pfizer 미국 % % % % LG 한국 % % % % 메르크파텐트 독일 % % % % 주요출원인소계 2, % 2, % 2, % 6, % 전체합계 9, % 10, % 13, % 34, % 42) 2000 년이후 Hoechst 로출원된특허는 1999 년합병이전에외국에서출원된특허를우선권주하여 2000 년이후국내에출원된특허로판단됨 108

126 2. 기술별전체특허동향 < 그림 3-18> 은 2000년 ~2004년최근의유기화학분야의다출원상위 10개출원인의상대적인특허활동지수인 RPA와상대적인연평균증가율을나타냈다. LG를외한주요출원인의특허출원활동도는매우활발한것으로나타났다. 그중에서도연평균증가율도높은출원인은 Hoffman Laroche, 한국화학연구원, 메르크파텐트, Novartis로나타났다. 가많은기업을포함한독일은메르크파텐트만을외하고상대적인연평균증가율이 0이하로서유기화학분야에서향후독일기업의영향력이점차감소할것으로판단된다. 25% 상대적 연평균증가율 0% LG Hoffman Laroche 한국화학연구원메르크파텐트 Novartis Hoecst BASF Pfizer % 한국과학기술연구원 3 Bayer -50% Ⅰ RPA 기간 : '00~'04 < 그림 3-18> 유기화학의 RPA vs 상대적연평균증가율 Ⅱ < 표 3-12> 는 1990 년 ~1997 년에출원된유기화학분야의다출원상위 10 개 출원인의등록률동향을나타내었다. 109

127 3 기술별특허동향 유기화학분야의다출원상위 10개출원인의평균등록률은 48.9% 로유기화학분야전체등록률평균인 50.4% 보다낮은수준으로나타났다. 등록률동향을살펴보면다출원 1위인 BASF를비롯한대다수외국출원인은 30% 대의등록률을나타났다. BASF 36.7%, Bayer 32.6%, Novartis 39.0%, Hoechst 33.3%, 메르크파테트 33.8% 로낮은등록률을보였다. 반면우리나라출원인은높은등록률을나타냈는데 Hoechst에이어다출원 6위인한국화학연구원은 87.4%, 한국과학기술연구원 92.4%, LG 82.8% 의등록률을나타내었다. < 표 3-12> 유기화학주요출원인의등록률동향 주요출원인국가 평균 BASF 독일 29.3% 30.9% 56.7% 39.0% 40.0% 46.7% 33.9% 36.2% 36.9% Bayer 독일 18.3% 36.1% 27.7% 30.2% 40.5% 48.2% 29.1% 28.0% 32.6% Novartis 스위스 39.5% 28.8% 30.0% 44.2% 52.2% 46.1% 29.2% 39.1% 39.0% Hoffman Laroche 스위스 28.6% 57.1% 48.3% 56.3% 71.4% 71.4% 55.6% 70.0% 56.0% Hoechst 독일 33.3% 41.0% 50.0% 31.7% 29.7% 25.0% 1.7% 33.3% 한국화학연구원대한민국 100.0% 90.5% 82.6% 74.3% 82.9% 91.2% 87.5% 94.7% 87.4% 한국과학기술연구원대한민국 86.7% 100.0% 89.7% 95.5% 89.7% 88.4% 100.0% 94.2% 92.4% Pfizer 미국 38.9% 48.3% 73.3% 73.3% 61.7% LG 대한민국 73.3% 100.0% 87.0% 88.2% 100.0% 100.0% 82.4% 73.6% 82.8% 메르크파텐트독일 13.6% 25.9% 14.3% 31.3% 38.1% 57.7% 44.4% 33.8% 주요출원인의평균등록률 41.6% 46.5% 47.7% 51.9% 52.3% 54.2% 45.2% 51.3% 48.9% 전체평균등록률 45.5% 52.2% 49.2% 52.1% 53.8% 55.6% 50.9% 45.0% 50.4% 110

128 2. 기술별전체특허동향 측정 / 광학 < 그림 3-19> 는측정 / 광학분야 43) 의내 외국인특허출원동향을나타낸 그래프이다. 내국인은 1993 년외국인의출원을추월하였고, 이후 1998 년주춤하였으나 지속적인상승세를보이며 2004 년에 8,050 건을출원하였다. 외국인은완만하게 증가세를보이며 2004 년 3,064 건의특허를출원하였다. 12,000 10,000 내국인외국인전체 출원건수 8,000 6,000 4, , < 그림 3-19> 측정 / 광학내 외국인의특허출원동향 ) 측정 / 광학분야의주요서브클래스측정 : 물리 화학적인면을측정 시험검사하는기술및측정기기등 G01M : 기계또는구조물의정적또는동적평형시험, G01N : 재료의화학적또는물리적성질의검출에의한재료의조사또는분석 G01R : 전기량, 자기량의측정광학 : 광학요소, 광의강도등이분류된기술분야 G02B : 광학요소, 광학계또는광학치 G02C : 안경, 선글라스또는보호안경 G02F : 광어를하는치또는배치전자사진 : 사진관련기술이분류된기술분야 G03B : 사진을촬영또는투영하기위하여직시하기위한치또는배치 G03C : 사진용감광재료 G03D : 노광필름사진재료의처리치및그것을위한부속품 G03F : 사진판법에의한요철또는패턴화표면의조, 반도체치를위한재료 G03G : 일렉트로그래피 - 전자사진, 마그네토그래피 G03H : 홀로그래픽처리또는치 Ⅰ Ⅱ 111

129 3 기술별특허동향 < 그림 3-20> 은측정 / 광학분야에서 1990년 ~2004년동안 400건이상특허를출원한외국의특허출원동향을살펴보았다. 1990년에일본과미국의특허출원은각각 463건및 421건으로유사한수준을나타내었으나, 이후일본은꾸준한특허출원증가세를보여 1990년 463건에서 2004년 1,509건으로 3배이상증가하였으나, 미국은 1990년 ~2004년동안비슷한특허출원을해오다 2004년 574건으로 15년동안전체적으로 150여건증가하는데머물렀다. 독일과네덜란드, 영국및프랑스가그뒤를따랐었는데특히네덜란드는 2003년 101건에서 2004년 203건으로 1년사이에 100% 의특허출원증가율을나타내었다. 2,000 1, 출원인기준 2. 기간 : 1990~2004 일본 출원건수 1, 미국 네덜란드 독일 프랑스 영국 < 그림 3-20> 측정 / 광학외국주요국가의특허출원동향 < 표 3-13> 은측정 / 광학분야에서 1990 년 ~2004 년동안전체출원건수가 400 건이상인국가와 400 건이하인국가를기타국가로묶어구간별특허출원 건수와점유율나타내었다. 112

130 2. 기술별전체특허동향 대한민국이각구간별차지하는점유율은 1990년 ~1994년 47.5%, 1995년 ~ 1999년 66.5% 및 2000년 ~2004년 68.6% 로서점유율이점차증가세를보이고있으나, 일본및미국등주요국가들의점유율은점차하락하는것으로나타났다. < 표 3-13> 측정 / 광학주요국가의특허출원동향 국가 1990~ ~ ~2004 전체 출원건수점유율출원건수점유율출원건수점유율출원건수점유율 대한민국 4, % 16, % 28, % 49, % 일본 2, % 4, % 7, % 15, % 미국 1, % 1, % 2, % 6, % 독일 % % % 1, % 네덜란드 % % % % 프랑스 % % % % 대만 % % % % 기타 % % % 1, % 합계 9, % 25, % 41, % 75, % < 표 3-14> 는 1990년 ~2004년동안출원된측정 / 광학분야의다출원상위 10개출원인의특허출원동향을나타내었다. 다출원상위 10개출원인중 Canon을외한 9개출원인은모두우리나라기업이차지하였다. 이중삼성전자와 LG Philips LCD은최근 5년간점유율이각각 16.9% 와 14.5% 로서측정 / 광학분야특허를주도하는것으로나타났다. 반면, 1990년대까지약 5% 의점유율을나타낸하이닉스반도체는 2000년 ~ 2004년구간에서 0.8% 로크게하락하였다. 이는하이닉스에서 2000년 8월디스플레이사업부가분리 ( 현대이미지퀘스트 ) 되면서이와관련된특허출원이크게감소한것으로판단된다 Ⅰ Ⅱ 외국인출원인중유일하게다출원 10위에포함된 Canon은전체 1,040건으로 1.4% 의점유율을나타내지만구간별점유율을살펴보면점차하락하는것으로나타났다. 113

131 3 기술별특허동향 주요출원인 < 표 3-14> 측정 / 광학주요출원인의특허출원동향 국가 1990~ ~ ~2004 전체 출원건수 점유율출원건수 점유율출원건수 점유율출원건수 점유율 삼성전자대한민국 % 4, % 6, % 12, % LG Philips LCD 대한민국 % % 5, % 6, % 하이닉스반도체대한민국 % 1, % % 2, % 현대자동차 대한민국 % 1, % % 2, % LG전자 대한민국 % % % 2, % 대우일렉트로닉스 대한민국 % 1, % % 1, % 삼성SDI 대한민국 % % % 1, % Canon 일본 % % % 1, % POSCO 대한민국 % % % % 삼성테크윈 대한민국 % % % % 주요출원인소계 3, % 11, % 16, % 30, % 전체합계 9, % 25, % 41, % 75, % < 그림 3-21> 은 2000년 ~2004년최근의다출원상위 10개출원인의상대적인특허활동지수인 RPA와상대적인연평균증가율을나타내었다. 특허활동이상대적으로활발하며, 높은연평균증가율을나타내는출원인은 LG Philips LCD와삼성전자로나타났다. 삼성테크윈과외국인출원인중에다출원상위 10위에유일하게포함된 Canon은특허활동이상대적으로활발하나연평균증가율은평균보다높지않은것으로나타났다. 50% 25% LG P hilips LC D 상대적 대우일렉트로닉스 삼성전자 연평균증가율 0% LG 전자 삼성 SDI Canon -25% 현대자동차 POSCO 삼성테크윈 하이닉스반도체 -50% RPA 기간 : '00~'04 < 그림 3-21> 측정 / 광학의 RPA vs 상대적연평균증가율 114

132 2. 기술별전체특허동향 < 표 3-15> 는 1990 년 ~1997 년동안출원된측정 / 광학분야의다출원상위 10 개출원인의등록률을살펴보았다. 측정 / 광학분야의다출원상위 10 개출원인의평균등록률은 56.5% 를나타 내며전체평균등록률과같게나왔다. 다출원 1위인삼성전자는 51.6% 를나타내며평균보다낮은등록률을보였다. 1990년 ~1994년까지 60% 의등록률을나타내다가 1995년부터 40% 대로등록률이하락하였다. 1994년부터출원한 LG Philips LCD는 94년에 4건등록으로 33.3% 의등록률을보였고, 1995년엔특허등록건수가없었고 1996년 ~1997년엔 80% 를넘는높은등록률을나타냈다. 가높은등록률을나타낸출원인은다출원상위 10개출원인에유일하게포함된외국출원인인 Canon으로서 95.5% 의등록률을기록하였다. 반면하이닉스반도체는 1992년까지 70% 대의 등록률을유지하다가점차하락하여 1997년에는 39.5% 의등록률을보이면서다출원상위 10개출원인중에전체적으로가낮은등록률 (50.3%) 을나타냈다. < 표 3-15> 측정 / 광학주요출원인의등록률동향 1 2 주요출원인국가 평균 삼성전자대한민국 63.6% 55.8% 67.1% 64.5% 65.7% 45.9% 48.0% 49.4% 51.6% LG Philips LCD 대한민국 33.3% 82.4% 91.4% 86.7% 3 하이닉스반도체대한민국 77.4% 70.8% 76.6% 59.4% 51.6% 44.9% 44.3% 39.5% 50.3% 현대자동차대한민국 100.0% 66.7% 75.0% 72.7% 75.0% 54.1% 59.7% 51.1% 57.5% LG 전자대한민국 42.9% 40.5% 43.5% 44.1% 69.0% 72.8% 59.1% 52.8% Ⅰ 대우일렉트로닉스대한민국 66.7% 100.0% 100.0% 65.8% 73.6% 51.2% 60.7% 43.2% 54.0% 삼성 SDI 대한민국 73.3% 84.8% 86.7% 64.4% 58.2% 29.1% 20.2% 39.1% 51.8% Canon 일본 100.0% 100.0% 94.4% 88.9% 92.5% 95.7% 93.6% 98.9% 95.5% Ⅱ POSCO 대한민국 100.0% 100.0% 77.8% 93.5% 94.4% 76.8% 47.9% 41.8% 67.7% 삼성테크윈 대한민국 63.2% 80.0% 81.4% 77.4% 78.9% 71.4% 63.8% 46.1% 64.4% 주요출원인의평균등록률 64.6% 63.6% 66.6% 61.6% 63.2% 53.1% 55.8% 51.7% 56.5% 전체평균등록률 55.8% 60.9% 62.3% 62.5% 61.7% 54.1% 54.7% 52.7% 56.5% 115

133 3 기술별특허동향 정보매체 < 그림 3-22> 는정보매체분야 44) 의내 외국인출원동향을나타내었다. 내국인의특허출원은 1995년 ~1997년동안급증세를보였으며, 이후 2000년까지감소하다가다시급증세를보이고있다. 8,000 6,000 내국인외국인전체 출원건수 4,000 2, < 그림 3-22> 정보매체의내 외국인특허출원동향 < 그림 3-23> 은정보매체분야에서외국중 1990년 ~2004년동안 100건이상의특허출원을한국가별특허출원동향을나타내었다. 외국중가많은특허를출원한일본은 2001년까지꾸준한상승세를나타내다가 2002년부터상승세가주춤한것으로나타났다. 미국은특허출원이 1997년까지꾸준히증가하다가 1998년이후감소하였고, 프랑스는 2000년이후꾸준한증가세를나타냈다. 네덜란드는 2003년출원이일시적으로급감하였으나다시 2004년급증하여미국을추월하고외국인중다출원 2위국가로부상하였다. 44) 정보매체분야의주요서브클래스 G11B : 기록매체와변환기사이의상대적인운동을기본으로하는정보저 G11C : 정적기억 ( 반도체회로및배치설계등과관련됨 ) G09G : 정적수단을사용하여가변정보를표시하는표시치의오를위한치또는회로 116

134 2. 기술별전체특허동향 출원건수 1,500 1, 출원인기준 2. 기간 : 1990~2004 일본 네덜란드 미국 프랑스 독일 대만 영국 < 그림 3-23> 정보매체외국주요국가의특허출원동향 1 < 표 3-16> 은정보매체분야에서 1990년 ~2004년에출원된국가중전체 100건이상의특허출원을한국가와 100건이하의국가를기타국가로분류하여구간별특허출원건수와점유율을나타내었다. 정보매체분야는우리나라와일본이 90% 이상의점유율로특허활동을주도하고있는것으로나타났다. 그러나우리나라는 2000년 ~2004년동안이전구간에비해특허출원건수와점유율이감소한반면, 일본은특허출원과점유율이증가하였다. 2 3 Ⅰ Ⅱ 117

135 3 기술별특허동향 < 표 3-16> 정보매체주요국가의특허출원동향 국가 1990~ ~ ~2004 전체 출원건수점유율출원건수점유율출원건수점유율출원건수점유율 대한민국 6, % 22, % 19, % 49, % 일본 3, % 4, % 6, % 14, % 미국 % 1, % 1, % 3, % 네덜란드 % % % 1, % 독일 % % % % 프랑스 % % % % 영국 % % % % 대만 9 0.1% % % % 기타 % % % % 합계 11, % 29, % 28, % 70, % < 표 3-17> 은정보매체의다출원상위 10개출원인의특허출원동향을나타내었다. 다출원상위 10개출원인이정보매체분야전체출원의 67.9% 를차지하였다. 이중외국인기업이 5개를차지함에따라, 정보매체분야가컴퓨터분야와함께 IT분야중가외국기업의특허출원이활발한분야로나타나고있다. 다출원 1위인삼성전자는 2000년 ~2004년동안 17.8% 의점유율을나타내면서 1995~1999년 25.4% 에비해크게감소한반면 LG전자는특허출원점유율이 9.8% 에서 13.1% 로크게증가하였다. 대우일렉트로닉스는 1995년 ~1999년에 20.2%(5,968건 ) 으로삼성전자에이어두번째로많은출원을보였는데, 1999년대우사태를겪으면서 2000년 ~2004년에 3.0%(870건 ) 로특허출원이큰폭으로감소하였다. 이후여러구조조정을거치면서 2003년 270건, 2004년 555건을출원하면서정보매체분야다출원 5위에올랐다. 외국기업중일본기업이 4개를차지하며강세를보이고있고, 2000년이후인최근에는 Philips와 Matsushita의점유율이각각 2.7% 를나타내면서증가한점유율을나타냈다. 118

136 2. 기술별전체특허동향 < 표 3-17> 정보매체주요출원인의특허출원동향 주요출원인 국가 1990~ ~ ~2004 전체 출원건수 점유율출원건수 점유율출원건수 점유율출원건수 점유율 삼성전자 대한민국 2, % 7, % 5, % 14, % LG전자 대한민국 1, % 2, % 3, % 8, % 대우일렉트로닉스 대한민국 % 5, % % 7, % 하이닉스반도체 대한민국 % 3, % 2, % 6, % Sony 일본 % 1, % 1, % 3, % 삼성SDI 대한민국 % % 1, % 1, % Matsushita 일본 % % % 1, % Toshiba 일본 % % % 1, % Philips 네덜란드 % % % 1, % NEC 일본 % % % 1, % 주요출원인소계 7, % 22, % 17, % 47, % 전체합계 11, % 29, % 28, % 70, % 1 < 그림 3-24> 는 2000년 ~2004년최근의정보매체분야의다출원상위 10개출원인의상대적인특허활동지수인 RPA와상대적인연평균증가율을비교하여나타내었다. 이들다출원상위 10개기업은 RPA가 0이상으로모두특허활동이상대적으로매우활발한것으로나타났다. 대우일렉트로닉스, POSCO, Canon, 삼성전자, LG Philips LCD가특허활동도활발하고, 연평균증가율도플러스성세인것으로나타났다. 대우일렉트로닉스는 1990년대초반과중반에큰성을하다가 1998년부터출원이감소하여 1999년에는 10건으로뚝떨어졌으나 2000년부터 6건을시작으로다시증가세로돌아서서 2004년도에는 555건의출원건수를나타내며이기간동안의상대적인연평균증가율은높은것으로나타났다 45). 2 3 Ⅰ Ⅱ 45) 대우일렉트로닉스의연도별출원건수구분 합계출원건수 ,970 1,851 1, ,

137 3 기술별특허동향 75% 대우일렉트로닉스 50% 상대적 25% POSCO 연평균증가율 0% -25% 삼성전자 Canon 삼성 LG Philips LCD 하이닉스반도체 LG전자현대자동차 -50% 삼성테크윈 -75% RPA 기간 : '00~'04 < 그림 3-24> 정보매체의 RPA vs 상대적연평균증가율 < 표 3-18> 은 1990 년 ~1997 년동안출원된정보매체분야의특허등록률동향을 나타내었다. 정보매체다출원상위 10개출원인의평균등록률은 56.2% 로전체평균등록률인 57.5% 보다낮은것으로나타났다. 다출원 1위인삼성전자의등록률은 64.8% 를나타내며평균보다높은등록률을보였다. LG전자에이어다출원 3위를차지한대우일렉트로닉스는 1995년부터 30% 대의등록률을나타내며평균 34.3% 로다출원상위 10개출원인에서가낮은등록률을기록하였다. 반면다출원상위 10개출원인중에일본의출원인이비교적높은등록률을보였으며, 이중 NEC가 92.7% 를나타내며가높은등록률을보인것을비롯해 Matsushita 84.3%, Toshiba 85.8% 그리고 Sony도 59.3% 의등록률을보이고있다. 120

138 2. 기술별전체특허동향 < 표 3-18> 정보매체주요출원인의특허등록률동향 주요출원인국가 평균 삼성전자대한민국 68.2% 66.5% 75.8% 77.5% 74.7% 69.4% 64.3% 51.6% 64.8% LG 전자대한민국 51.5% 41.9% 47.2% 47.1% 67.5% 61.3% 55.4% 53.5% 53.2% 대우일렉트로닉스대한민국 100.0% 82.6% 77.6% 72.1% 58.0% 34.6% 30.7% 18.1% 34.3% 하이닉스반도체대한민국 83.7% 79.5% 85.1% 75.2% 75.4% 70.5% 65.6% 57.2% 66.6% Sony 일본 66.7% 71.6% 72.2% 69.6% 74.0% 70.3% 49.6% 8.0% 59.3% 삼성 SDI 대한민국 100.0% 100.0% 96.7% 33.3% 85.7% 81.8% 27.3% 45.5% 72.0% Matsushita 일본 94.7% 87.9% 68.6% 72.5% 87.3% 87.5% 86.6% 80.9% 84.3% Toshiba 일본 81.8% 79.5% 88.2% 88.7% 88.3% 91.0% 88.2% 85.7% 85.8% Philips 네덜란드 40.0% 56.4% 67.4% 58.6% 52.2% 56.7% 51.9% 20.6% 47.3% NEC 일본 100.0% 97.1% 93.5% 96.8% 90.4% 94.3% 89.4% 93.5% 92.7% 1 주요출원인의평균등록률 67.0% 63.5% 69.0% 67.1% 70.9% 55.8% 53.0% 42.9% 56.2% 전체평균등록률 66.4% 64.4% 68.2% 65.3% 66.6% 56.9% 54.8% 46.3% 57.5% 컴퓨터컴퓨터분야 46) 에서내국인의특허출원은 1990년대초반부터완만한증가세를보이다가 2000년에급증하였는데, 이는 1999년이후국내에불기시작한닷컴열풍으로비즈니스모델관련특허출원이급증한것으로판단된다. 이후점차거품이사라지면서특허출원이감소하였지만 2003년부터다시증가세를보이고있다. 3 Ⅰ Ⅱ 46) 컴퓨터분야의주요서브클래스 G05B : 어계또는조정계일반 G06K : 데이터의인식, 표시및기록매체 G07F : 동전투입식작동치및유사치 G06F : 전기에의한디지털데이터처리 G06T : 일반적인화상데이터처리또는발생 G08G : 교통어시스템 121

139 3 기술별특허동향 출원건수 16,000 12,000 8,000 내국인외국인전체 4, < 그림 3-25> 컴퓨터내 외국인의특허출원동향 < 그림 3-26> 은컴퓨터분야에서 1990년 ~2004년동안 300건이상출원한해외국가별특허출원동향을살펴보았다. 우리나라에이어다출원 2위에해당하는일본은 2001년이후주춤하면서 2004년에 780건으로 1,161건을출원한미국에추월당하였다. 미국은꾸준히증가하다가 2002년부터크게특허출원이증가한것으로나타났다. 컴퓨터분야의다출원 4위국에해당하는네덜란드는 2003년 76건에서 2004년 250건으로큰폭으로증가하였다. 출원건수 1,500 1, 출원인기준 2. 기간 : 1990~ 미국 일본 네덜란드 프랑스 독일 < 그림 3-26> 컴퓨터외국주요국가의특허출원동향 122

140 2. 기술별전체특허동향 < 표 3-19> 는컴퓨터분야에서전체특허출원이 300 건이상을나타낸국가와 300 건미만으로분류된기타국가의구간별출원건수와점유율을나타내었다. 우리나라, 일본및미국의출원건수가전체컴퓨터분야출원의 95.6% 를차지하였다. 우리나라의경우점유율이구간별로점차증가하여 2000년 ~2004년에 46,229건으로 81.7% 의점유율을나타내었다. 반면일본과미국의구간별점유율은점차감소하여 2000년 ~2004년도에각각 7.3%, 6.9% 를나타내었다. < 표 3-19> 컴퓨터주요국가의특허출원동향 국가 1990~ ~ ~2004 전체 출원건수점유율출원건수점유율출원건수점유율출원건수점유율 대한민국 5, % 15, % 46, % 66, % 일본 2, % 2, % 4, % 8, % 미국 1, % 2, % 3, % 7, % 네덜란드 % % % 1, % 독일 % % % % 프랑스 % % % % 기타 % % 1, % 1, % 합계 8, % 21, % 56, % 86, % 1 2 < 표 3-20> 은컴퓨터분야의다출원상위 10개출원인의구간별특허출원동향을나타내었다. 다출원상위 10개출원인의특허출원은컴퓨터분야전체출원의 30.5% 로타기술분야에비해점유율이낮은것으로나타났다. 다출원 1위인삼성전자를외하고는 6% 미만의점유율을나타내며고른점유율을차지하고있는것으로나타났다. 삼성전자는 1995년 ~1999년에 4,769건으로 22.6% 의점유율을나타냈지만, 2000년 ~2004년에 3,801건, 6.7% 의점유율을보이면서점유율이큰폭으로감소하였다. LG전자와대우일렉트로닉스, 하이닉스반도체등을비롯한다출원상위 10개기업모두 1995년 ~1999년에비해 2000년 ~2004년에점유율이감소한것으로나타났는데, 이는다출원상위 10개기업의전체점유율이 3 Ⅰ Ⅱ 123

141 3 기술별특허동향 1995 년 ~1999 년에 52.8%(11,162 건 ) 에비해 2000 년 ~2004 년점유율이 19.0% (10,780) 로감소한주원인으로판단된다. < 표 3-20> 컴퓨터주요출원인의특허출원동향 주요출원인 국가 1990~ ~ ~2004 전체 출원건수 점유율출원건수 점유율출원건수 점유율출원건수 점유율 삼성전자 대한민국 1, % 4, % 3, % 9, % LG전자 대한민국 1, % 1, % 2, % 5, % 대우일렉트로닉스 대한민국 % % 1, % 2, % 하이닉스반도체 대한민국 % 1, % % 2, % Sony 일본 % % % 1, % 삼성SDI 대한민국 % % % 1, % Matsushita 일본 % % % 1, % Toshiba 일본 % % % % Philips 네덜란드 % % % % NEC 일본 % % % % 주요출원인소계 4, % 11, % 10, % 26, % 전체합계 8, % 21, % 56, % 86, % 2000년 ~2004년최근의컴퓨터분야의다출원상위 10개출원인의상대적인특허활동지수인 RPA와상대적인연평균증가율을 < 그림 3-27> 에나타내었다. 2000년이후상대적인특허활동과연평균증가율이활발하며높은출원인은 SK텔레콤으로나타났다. 다출원 1위인삼성전자는 KT와함께상대적인연평균증가율은높지만기업의특허집중도를나타내는특허활동에있어서는상대적으로부진한것으로나타났다. 반면한국전자통신연구원, Philips, 대우일렉트로닉스, Sony 및 LG전자는특허활동은활발하나연평균증가율은상대적으로낮은것으로나타났다. 124

142 2. 기술별전체특허동향 50% 25% KT 상대적 연평균증가율 0% -25% LG 전자 삼성전자 대우통신 Sony SK텔레콤대우일렉트로닉스 Philips 한국전자통신연구원 -50% 하이닉스반도체 -75% RPA 기간 : '00~'04 < 그림 3-27> 컴퓨터의 RPA vs 상대적연평균증가율 2 < 표 3-21> 은 1990 년 ~1997 년에출원된컴퓨터분야의다출원상위 10 개 출원인의특허등록률동향을나타낸표이다. 3 컴퓨터분야의다출원상위 10개출원인의평균등록률을살펴보면 56.3% 로 56.9% 를나타낸전체평균보다조금낮은것을알수있다. 다출원 1위를차지한삼성전자는 54.2% 를나타내며전체평균보다낮은등록률을나타냈다. 다출원 3위를차지한한국전자통신연구원은 82.2% 의높은등록률을나타냈다. 대우일렉트로닉스는 38.4% 로다출원상위 10개출원인중에가낮은등록률을기록했고, 반면다출원 5위를차지한 IBM은 85.7% 를나타내며가높은등록률을 Ⅰ Ⅱ 기록하였다. Sony 와 Hitachi 도 57.6% 와 66.9% 를각각나타내며평균보다높은 등록률을보이고있다. 125

143 3 기술별특허동향 < 표 3-21> 컴퓨터주요출원인의특허등록률동향 주요출원인국가 평균 삼성전자대한민국 70.3% 47.5% 61.5% 62.3% 76.0% 60.3% 49.7% 46.2% 54.2% LG 전자대한민국 35.2% 37.8% 39.3% 46.3% 53.0% 56.5% 49.8% 40.2% 44.9% 한국전자통신연구원대한민국 92.5% 94.3% 87.2% 96.4% 86.4% 82.7% 82.7% 65.5% 82.2% 하이닉스반도체대한민국 78.8% 65.0% 62.1% 51.4% 67.8% 54.5% 54.8% 42.4% 54.9% IBM 미국 98.0% 97.4% 88.1% 86.0% 85.1% 73.0% 88.4% 85.4% 85.7% 대우일렉트로닉스대한민국 80.0% 63.6% 47.6% 66.0% 45.0% 36.3% 36.8% 17.3% 38.4% KT 대한민국 66.7% 66.7% 100.0% 87.5% 95.7% 88.2% 71.9% 82.9% 84.5% Philips 네덜란드 61.1% 88.9% 84.6% 61.5% 73.1% 27.3% 45.9% 32.4% 56.5% Sony 일본 79.3% 78.9% 60.9% 66.7% 65.7% 67.9% 40.5% 12.8% 57.6% Hitachi 일본 65.6% 67.8% 57.6% 66.0% 67.8% 72.0% 85.3% 52.6% 66.9% 주요출원인의평균등록률 67.5% 57.2% 58.7% 62.3% 66.0% 58.0% 53.7% 47.6% 56.3% 전체평균등록률 67.8% 59.0% 63.2% 60.0% 64.2% 57.9% 54.9% 47.3% 56.9% 운송 / 포운송 / 포분야 47) 의내 외국인특허출원동향을 < 그림 3-28> 에나타내었다. 운송 / 포분야에서내국인의특허출원은 1995년 ~1997년동안급격한특허증가세를보이다가 1998년출원이급격히감소하였으며이후다시증가세를나타내었다. 이는 1995년 ~1997년동안출원인사이에특허권에대한과당경쟁으로특허출원이급증하였으나, 1997년외환위기및자동차산업분야의구조조정등으로인해출원건수가급감한것으로나타났다. 47) 운송 / 포분야의주요서브클래스 B60 B61 : 자동차 B61 : 철도 B63 : 선박 B64 : 항공기 B65 : 운반 / 포 126

144 2. 기술별전체특허동향 출원건수 16,000 12,000 8,000 내국인외국인전체 4, < 그림 3-28> 운송 / 포내 외국인의특허출원동향 < 그림 3-29> 는운송 / 포분야에서 400건이상특허출원한국가중우리나라를외한일본, 미국, 독일, 프랑스, 스위스및영국의특허출원동향을살펴보았다. 1 다출원 2위국인일본은 1997년까지증가하다가 1998년하락하였으며이후다시증가세를나타내어내국인의특허출원과유사한경향을보이고있다. 독일은 1997년까지특허출원이급증하였으나이후점차감소세를나타내었다 출원인기준 2. 기간 : 1990~2004 미국 일본 일본 3 출원건수 Ⅰ 미국 독일 프랑스스위스영국 Ⅱ < 그림 3-29> 운송 / 포외국주요국가의특허출원동향 127

145 3 기술별특허동향 < 표 3-22> 는운송 / 포분야에서 1990년 ~2004년에 400건이상인국가와, 400건미만의기타국가로분류하여구간별출원건수와점유율을나타내었다. 내국인은 1990년대중반이후 80% 이상의점유율을차지하며운송 / 포분야의특허출원을주도하고있으나, 2000년 ~2004년동안전구간에대비해특허출원건수가약 8,000여건감소하였다. 반면, 일본, 독일및프랑스등은구간별특허출원건수가꾸준히증가하는것으로조사되었다. < 표 3-22> 운송 / 포주요국가의특허출원현황 국가 1990~ ~ ~2004 전체출원건수점유율출원건수점유율출원건수점유율출원건수점유율 대한민국 4, % 38, % 29, % 72, % 일본 1, % 2, % 2, % 6, % 미국 1, % 1, % 1, % 3, % 독일 % 1, % 1, % 2, % 프랑스 % % % % 스위스 % % % % 영국 % % % % 기타 % % % 1, % 합계 9, % 44, % 36, % 90, % < 표 3-23> 은운송 / 포분야의다출원상위 10개출원인의특허출원동향을살펴보았다. 다출원상위 10개출원인중에외국출원인은유일하게독일의 Robert Bosch로나타났다. 다출원 1위인현대자동차는 1990년 ~1994년 9.7%(919건 ) 를나타내다가 1995년 ~1999년에 21.9%(9,711건 ) 로큰폭의상승세를보였다. 현대자동차에이어다출원 2위인기아자동차는기업의구조조정을겪은 1998년 29건의출원을보이며큰폭으로감소하였으나현대자동차에인수합병되면서다시출원이증가하였다. GM대우의경우 1997년외환위기이후출원건수가급격히감소하였고 128

146 2. 기술별전체특허동향 외국기업 GM에인수된이후에도특허가매우미미한수준으로출원되어 2000년 ~2004년에 0.1%(47건 ) 로아주적은출원점유율을나타냈다. 다출원상위 10 위에유일하게포함된독일의 Robert Bosch 는꾸준한출원 점유율을나타내고있지만, 전체점유율에서 1.0% 에도미치지못한것으로 조사되었다. 주요출원인 < 표 3-23> 운송 / 포주요출원인의특허출원동향 국가 1990~ ~ ~2004 전체 출원건수 점유율출원건수 점유율출원건수 점유율출원건수 점유율 현대자동차대한민국 % 9, % 9, % 20, % 기아자동차대한민국 % 10, % 3, % 14, % GM대우 대한민국 % 7, % % 8, % 현대모비스 대한민국 % % 2, % 2, % 만도 대한민국 1 0.0% % 1, % 1, % POSCO 대한민국 7 0.1% % % % 만도기계 대한민국 % % 0 0.0% % 대우일렉트로닉스 대한민국 % % % % Robert Bosch 독일 % % % % 한라공조 대한민국 8 0.1% % % % 주요출원인소계 2, % 30, % 17, % 50, % 전체합계 9, % 44, % 36, % 90, % Ⅰ < 그림 3-30> 은최근 2000 년 ~2004 년운송 / 포분야의다출원상위 10 개 출원인별상대적인특허활동지수인 RPA 와상대적인연평균증가율을비교하였다. 한라공조, 만도, 기아자동차및현대자동차는특허활동이상대적으로활발하며 Ⅱ 높은연평균증가율을보이고있으나, 다출원 3 위를차지한 GM 대우와현대모비스, POSCO 및 Robert Bosch 는상대적으로저조한연평균증가율을보이고있다. 129

147 3 기술별특허동향 50% 25% 한라공조 상대적 만도 연평균증가율 0% 대우일렉트로닉스 기아자동차현대자동차 GM대우현대모비스 -25% POSCO Robert -50% RPA 기간 : '00~'04 < 그림 3-30> 운송 / 포의 RPA vs 상대적연평균증가율 < 표 3-24> 는 1990 년 ~1997 년에출원된운송 / 포의다출원상위 10 개 출원인의특허등록률동향을나타낸표이다. 운송 / 포의전체평균등록률은 37.7% 로다출원상위 10개출원인의평균등록률인 32.8% 보다약 5% 높은것으로나타났다. 다출원 1위인현대자동차는 47.5% 로평균보다높은등록률을나타냈다. 이에반해다출원 2위인기아자동차는 1990년 ~1994년에는 30~40% 대의등록률을유지하더니 1995년부터 10% 대로떨어진등록률을보이면서평균 14.1% 로다출원상위 10개출원인중에서가낮은등록률을나타냈다. 한편 POSCO와한라공조는 80% 대로높은등록률을나타냈다. 130

148 2. 기술별전체특허동향 < 표 3-24> 운송 / 포주요출원인의등록률동향 주요출원인 국가 평균 현대자동차 대한민국 64.1% 73.7% 58.3% 49.9% 51.6% 40.7% 48.9% 50.6% 47.5% 기아자동차 대한민국 72.7% 45.0% 44.7% 42.9% 31.2% 12.9% 11.1% 18.0% 14.1% GM대우 대한민국 100.0% 27.3% 47.6% 57.4% 58.1% 41.6% 56.2% 11.3% 38.1% 현대모비스 대한민국 83.3% 50.0% 54.5% 50.0% 80.0% 50.0% 58.3% 만도 대한민국 100.0% 62.5% 66.7% 66.7% POSCO 대한민국 100.0% 100.0% 100.0% 100.0% 93.3% 78.6% 68.0% 80.3% 만도기계 대한민국 33.3% 50.0% 73.7% 66.1% 60.6% 58.3% 53.4% 54.5% 56.9% 대우일렉트로닉스대한민국 100.0% 33.3% 43.8% 29.3% 21.8% 21.9% 9.8% 21.6% Robert Bosch 독일 25.9% 36.8% 66.7% 71.4% 73.3% 69.2% 52.3% 45.7% 51.0% 한라공조 대한민국 100.0% 85.7% 85.7% 72.7% 80.0% 80.6% 주요출원인의평균등록률 50.6% 56.8% 57.0% 51.0% 45.7% 31.4% 33.2% 27.6% 32.8% 전체평균등록률 50.7% 48.8% 50.2% 52.0% 50.5% 34.3% 35.6% 32.5% 37.7% 고분자 고분자 48) 분야는유기화학에이어특허대외의존도가두번째로높은기술분야이다. 1990년대내국인의출원이 304건으로외국인의 1,198건에비해 3배정도로적게나타났는데점차그격차를줄여나가서 2003년도에는내국인출원 1,130건, 외국인출원 1,234건으로 100여건차이로좁혀졌다. 1 2 출원건수 2,500 2,000 1,500 내국인외국인전체 3 1, Ⅰ < 그림 3-31> 고분자내 외국인의특허출원동향 Ⅱ 48) 고분자분야의주요서브클래스 C08F : 탄소간의불포화결합이반응하여생성되는고분자화합물 C08G : 탄소간의불포화결합이외의반응에의해생성되는고분자화합물 C08J : 고분자조성물을일반적인방법으로혼합하거나조하는방법 C08K : 무기물또는비유기물질을배합성분으로사용한고분자 C08L : 고분자화합물의조성물 131

149 3 기술별특허동향 < 그림 3-32> 는고분자분야에서 1990 년 ~2004 년동안 500 건이상의특허 출원을한국가중우리나라를외한국가별특허출원동향을나타내었다. 우리나라에이어다출원 2위를차지한미국은 1990년 ~2000년까지일본보다특허출원이앞섰으나 2000년이후감소세를보이며 2001년미국이 363건을출원하여 414건을출원한일본에추월당하였다. 독일은꾸준한증가세를나타내며우리나라를외하여미국, 일본에이어다출원 3위를차지하고, 네덜란드, 프랑스가그뒤를이었다 출원인기준 2. 기간 : 1990~2004 일본 출원건수 미국 독일 네덜란드프랑스 < 그림 3-32> 고분자외국주요국가의특허출원동향 < 표 3-27> 는고분자분야에서 1990 년 ~2004 년에 500 건이상의특허출원을한 국가와 500 건이하의기타국가로분류하여출원건수와점유율을나타내었다. 우리나라의점유율은전체 10,850 건으로 40.3% 의점유율을나타내었다 년 ~1994 년에 33.6%(2,327 건 ) 의점유율을나타내다가 1995 년 ~1999 년에 40.4%(3,549 건 ) 그리고 2000 년 ~2004 년에는 44.5%(4,974 건 ) 로점차점유율이 132

150 2. 기술별전체특허동향 증가하였다. 반면미국은 1990년 ~1994년에 26.2%(1,813건 ) 의점유율을나타내다가 1995년 ~1999년에 20.6%(1,805건 ), 2000년 ~2004년에는 17.2% (1,926건) 를나타내며점차출원점유율이감소함을알수있다. 일본은 1995년 ~ 1999년도의 18.2%(1,600건 ) 에서 2000년 ~2004년에 19.6%(2,194건 ) 로증가한것으로나타났다. < 표 3-25> 고분자주요국가의특허출원동향 국가 1990~ ~ ~2004 전체 출원건수점유율출원건수점유율출원건수점유율출원건수점유율 대한민국 2, % 3, % 4, % 10, % 미국 1, % 1, % 1, % 5, % 일본 1, % 1, % 2, % 5, % 독일 % % 1, % 2, % 스위스 % % % % 프랑스 % % % % 기타 % % % 1, % 합계 6, % 8, % 11, % 26, % 1 2 < 표 3-26> 은고분자분야의다출원상위 10개출원인의출원건수와점유율로특허출원동향을나타내었다. 상위 10개출원인중내국인출원인이 5개, 외국인출원인이 5개를차지하였고, 이들상위 10개출원인이전체특허에서차지하는비중이 22.1% 로타기술분야에비해낮은것으로나타났다. 3 Ⅰ 다출원 1위인일모직은점유율이꾸준히상승하여 2000년 ~2004년 3.9% 를기록하며전체점유율이 3.4%(923건 ) 를차지한것에반해다출원 2위인코오롱은 1990년 ~1994년에 4.4%(304건 ) 로해당구간다출원 1위를차지하였으나점차하락하여 2000년 ~2004년에는 1.5%(164건 ) 로서동구간다출원 7위로급락하였다. 미국의 Dow Chemical은점유율에서점차하락한반면독일의 BASF는전체특허 625건으로 2.3% 를나타내며다출원 3위에올랐다. 꾸준한증가세를 Ⅱ 133

151 3 기술별특허동향 보인금호산업도전체점유율 2.3%(621 건 ) 을나타났다. 이들다출원상위 10 개 출원인은비교적고른점유율분포를나타내고있다. < 표 3-26> 고분자주요출원인의특허출원동향 주요출원인 국가 1990~ ~ ~2004 전체 출원건수 점유율출원건수 점유율출원건수 점유율출원건수 점유율 일모직대한민국 % % % % 코오롱대한민국 % % % % Dow Chemical 미국 % % % % BASF 독일 % % % % 금호산업대한민국 % % % % Bayer 독일 % % % % LG 화학대한민국 % % % % 효성대한민국 % % % % 미쓰이세끼유가가꾸고오교오 일본 % % % % Dupont 미국 % % % % 주요출원인소계 1, % 1, % 2, % 6, % 전체합계 6, % 8, % 11, % 26, % < 그림 3-33> 은최근 5년 (2000년 ~2004년 ) 동안고분자분야의다출원상위 10개출원인의상대적인특허활동지수인 RPA와상대적인연평균증가율을비교하였다. 이들다출원상위 10개출원인모두기업의특허활동이좋은것으로나타났는데연평균증가율까지높은출원인은효성과금호산업으로나타났다. 134

152 2. 기술별전체특허동향 25% 상대적 연평균증가율 0% -25% 효성 코오롱 Dow Chemical Dupont 금호산업 LG화학일모직 BASF Bayer 미쓰이세끼유가가꾸고오교오 -50% 1-75% RPA 기간 : '00~'04 < 그림 3-33> 고분자의 RPA vs 상대적연평균증가율 2 < 표 3-27> 은 1990 년 ~1997 년에출원된고분자분야의다출원상위 10 개 출원인의특허등록률을나타내었다. 다출원상위 10 개출원인의평균등록률은 52.6% 를나타내며전체평균등록률인 3 Ⅰ 54.9% 에비해더낮은등록률을보였다. 고분자분야의다출원 1 위인일모직은 평균 81.8% 를나타냈다 년이후 1991 년과 1994 년을외하고모두 80% 의높은등록률을나타냈다. BASF 는평균 30.0% 로다출원상위 10 개 Ⅱ 출원인중에가낮은등록률을나타낸반면일본의미쓰이세끼유가가꾸고오 교오는 85.3% 를나타내며가높은등록률을나타내었다. 135

153 3 기술별특허동향 < 표 3-27> 고분자주요출원인의등록률동향 주요출원인국가 평균 일모직대한민국 89.5% 67.5% 90.3% 81.0% 54.3% 85.7% 89.7% 87.7% 81.8% 코오롱 대한민국 66.1% 56.3% 60.0% 53.1% 51.2% 45.9% 56.0% 30.4% 52.0% Dow Chemical 미국 28.0% 27.6% 27.5% 34.6% 57.7% 55.3% 48.0% 39.4% 36.1% BASF 독일 16.1% 42.3% 37.5% 38.5% 20.0% 39.3% 17.6% 36.5% 30.0% 금호산업 대한민국 50.0% 33.3% 54.5% 37.5% 58.5% 41.7% 44.4% 56.4% 50.0% Bayer 독일 25.0% 37.5% 33.3% 51.9% 59.3% 63.0% 41.4% 14.3% 43.0% LG화학 대한민국 100.0% 78.9% 64.3% 72.7% 51.6% 75.0% 64.7% 효성 대한민국 42.4% 56.0% 29.3% 24.5% 22.7% 18.8% 48.4% 31.7% 32.2% 미쓰이세끼유가가꾸고오교오 일본 86.2% 92.3% 100.0% 100.0% 84.6% 96.7% 76.5% 66.7% 85.3% Dupont 미국 50.0% 40.0% 50.0% 58.8% 65.0% 52.9% 70.8% 70.4% 58.2% 주요출원인의평균등록률 46.0% 50.9% 50.0% 53.5% 54.2% 56.5% 56.5% 52.0% 52.6% 전체평균등록률 53.7% 55.6% 54.8% 56.1% 59.5% 57.5% 55.3% 48.7% 54.9% 의약 < 그림 3-34> 는의약분야 49) 의내 외국인특허출원동향을나타내었다. 의약분야는유기화학, 고분자에이어특허대외의존도가세번째로높은기술분야이다. 그러나 2000년대에들어서면서외국인의출원건수와의격차를점차줄면서 2003년엔내국인이 1,395건으로 1,293건을출원한외국인보다더많은특허를출원하였다. 3,000 2,500 내국인외국인전체 출원건수 2,000 1,500 1, < 그림 3-34> 의약내 외국인의특허출원동향 49) 의약분야의주요서브클래스 A61K 7/00~7/50 : 화품 A61K 9/00~123/00 의약품 136

154 2. 기술별전체특허동향 < 그림 3-35> 는의약분야에서 1990년 ~2004년동안 500건이상특허를출원한국가중에우리나라를외한미국, 일본, 독일, 스위스, 프랑스및영국의특허출원동향을나타내었다. 미국은 2001년까지꾸준한증가세를보이다가일시적으로감소후 2004년에다시증가한것으로나타났으며일본은꾸준한증가세를나타내고있다. 독일은특허출원이지속적으로증가하다가 2001년이후로큰증가없는정체된모습을보였고, 프랑스는 1999년을정점으로감소세를나타냈다 출원인기준 2. 기간 : 1990~2004 미국 출원건수 < 그림 3-35> 의약외국주요국가의특허출원동향 일본 독일스위스프랑스영국 < 표 3-28> 은의약분야에서 1990년 ~2004년동안전체특허출원건수가 500건이상인국가와 500건이하인국가를기타국가로묶어구간별특허출원건수와점유율을나타내었다. 전체 22,666건중우리나라의특허출원건수가 9,171건으로 40.5% 를차지하였다. 구간별점유율을살펴보면 1990년 ~1994년 27.4%(1,064건 ) 에서 1995년 ~1999년 35.0%(2,241건 ) 및 2000년 ~2004년 47.4%(5,866건 ) 로매구간약 10% 의점유율이상승하고있다. 그러나미국, 일본및독일은구간별점유율이점차감소하였다. Ⅰ Ⅱ 137

155 3 기술별특허동향 < 표 3-28> 의약주요국가의특허출원동향 국가 1990~ ~ ~2004 전체 출원건수점유율출원건수점유율출원건수점유율출원건수점유율 대한민국 1, % 2, % 5, % 9, % 미국 1, % 1, % 2, % 5, % 일본 % % 1, % 2, % 독일 % % % 1, % 스위스 % % % 1, % 프랑스 % % % % 영국 % % % % 기타 % % 1, % 2, % 합계 3, % 6, % 12, % 22, % 1990년 ~2004년까지출원된의약분야의다출원상위 10개출원인출원건수와점유율을 < 표 3-29> 에서나타내었다. 다출원상위 10개출원인을살펴보면외국출원인이 6개를차지하고있으며, 이들상위 10개출원인의점유율이 15.3% 로써타기술분야에비해매우낮은수준을나타내고있다. 또한의약분야에는의약뿐만아니라화품또는치약등의일상생활용품의기술이포함되어있어주요출원인중태평양, Roreal, P&G 등이주요출원인으로나타나고있다. 태평양은특허출원건수가 1990년 ~1994년 147건 (3.8%), 1995년 ~1999년 192건 (3.0%), 2000년 ~2004년에 256건 (2.1%) 로서구간별로점차증가하나점유율은감소추세를보이고있다. 다출원 5위에오른 LG생활건강은 2000년에의약분야에첫출원이있은후에꾸준히증가하여 2000년 ~2004년동안에 328건 (2.6%) 으로다출원 1위에올랐다. Eli Lilly와 Unilever는구간별감소세를나타낸것에반해코리아나는꾸준한증가세를보였다. 138

156 2. 기술별전체특허동향 < 표 3-29> 의약주요출원인의특허출원동향 주요출원인 국가 1990~ ~ ~2004 전체 출원건수 점유율출원건수 점유율출원건수 점유율출원건수 점유율 태평양대한민국 % % % % Roreal 프랑스 % % % % LG 대한민국 % % % % P&G 미국 % % % % LG 생활건강대한민국 0 0.0% 0 0.0% % % Eli Lilly 미국 % % % % Pfizer 미국 % % % % Novartis 스위스 % % % % 1 Unilever 네덜란드 % % % % 코리아나대한민국 1 0.0% % % % 2 주요출원인소계 % 1, % 1, % 3, % 전체합계 3, % 6, % 12, % 22, % 3 < 그림 3-36> 은 2000 년 ~2004 년동안의약분야의다출원상위 10 개출원인의 상대적인특허활동지수인 RPA 와상대적인연평균증가율을비교하였다. Ⅰ 다출원상위 10개출원인모두 RPA지수가 99와 100사이에있을정도로상대적인특허활동이매우활발한것으로나타났다. P&G, Pfizer 및태평양은상대적인연평균증가율이높은것으로나타났다. Unilever, LG생활건강, 코리아나, Eli Lilly 및 Roreal은특허활동은활발하지만 2000년 ~2004년에연평균증가율이낮은것으로나타났다. Ⅱ 139

157 3 기술별특허동향 50% P&G 상대적 25% 연평균증가율 0% Pfizer Unilever 태평양 LG 생활건강 코리아 -25% Eli Lilly ROREAL -50% RPA 기간 : '00~'04 < 그림 3-36> 의약의 RPA vs 상대적연평균증가율 < 표 3-30> 은 1990 년 ~1997 년에출원된의약분야의다출원상위 10 개출원인의 특허등록률동향을나타내었다 50). 다출원상위 10개출원인의평균등록률은 46.6% 를나타내며 47.1% 의전체평균등록률보다더낮은등록률을보였다. 다출원 1위인태평양의평균등록률은 64.3% 로평균보다높은등록률을나타냈고, 태평양에이어다출원 2위에해당하는 Roreal은 79.6% 를나타냈다. 미국의 Eli Lilly는평균 12.6% 를나타내며다출원상위 10개출원인의등록률중에가낮은등록률을보였고, 코리아나는 86.7% 를나타내며가높은등록률을나타냈다. 50) LG 생활건강은 2000 년에첫특허출원이있었기때문에 1990 년 ~1997 년에출원된특허의등록률동향에서는외됨 140

158 2. 기술별전체특허동향 < 표 3-30> 의약주요출원인의등록률동향 주요출원인 국가 평균 태평양 대한민국 62.5% 78.1% 92.3% 81.5% 60.8% 62.7% 54.8% 51.2% 64.3% Roreal 프랑스 75.0% 57.1% 100.0% 25.0% 87.5% 88.9% 66.7% 85.1% 79.6% LG 대한민국 83.3% 69.6% 50.0% 55.6% 100.0% 33.3% 31.9% 24.4% 42.1% P&G 미국 40.0% 50.0% 10.0% 8.0% 35.3% 27.5% Eli Lilly 미국 16.7% 20.0% 30.0% 30.0% 9.8% 16.7% 7.1% 12.6% Pfizer 미국 81.8% 100.0% 66.7% 100.0% 50.0% 35.7% 45.5% 23.8% 50.0% Novartis 스위스 45.5% 14.3% 50.0% 54.5% 39.2% Unilever 네덜란드 57.1% 44.4% 47.4% 19.0% 42.9% 40.0% 37.5% 39.2% 코리아나 대한민국 100.0% 100.0% 90.9% 86.7% 주요출원인의평균등록률 56.5% 59.6% 53.8% 49.1% 38.6% 53.4% 38.2% 40.6% 46.6% 전체평균등록률 47.1% 49.1% 50.8% 50.7% 46.4% 49.6% 48.8% 39.3% 47.1% 석유 / 정밀화학 < 그림 3-37> 은 1990년 ~2004년에출원된석유 / 정밀화학분야 51) 의내 외국인출원동향을나타내었다. 1 2 석유 / 정밀화학분야는특허대외의존도가 1이상으로외국인의특허활동이강한분야이다. 그러나 2000년이후에는내국인출원이외국인을추월하였고 2004년엔 내국인출원 1,218 건, 외국인출원 853 건으로서내국인이외국인보다 400 여건 많은특허를출원하였다. 51) 석유 / 정밀화학분야의주요서브클래스석유 C10G : 탄화수소유의분해증류 ; 액체탄화수소혼합물의조 C10L : 달리분류되지않은연료 C10M : 윤활조성물정밀화학 C09B : 유기염료또는염료조에밀접한관련이있는화합물 ; 매염 ; 레이크 C09C : 안료성또는충전성질을개량하기위한섬유성충전이외의무기물질의처리 ; 카본블랙의조 C09D : 피복조성물 ; 페인트거 ; 잉크 ; 목재스테인 ; 호상또는고형의착색료또는날염료 C09J : 접착 C09K : 특정한물질의일반적인사용 C11D : 세정조성물 3 Ⅰ Ⅱ 141

159 3 기술별특허동향 2,500 2,000 내국인외국인전체 출원건수 1,500 1, < 그림 3-37> 석유 / 정밀화학내 외국인의특허출원동향 < 그림 3-38> 은 1990년 ~2004년동안석유 / 정밀화학분야에서 300건이상특허를출원한국가중에우리나라를외한국가별특허출원동향을나타내었다. 우리나라에이어다출원 2위를차지한미국은 2000년까지일본보다많은특허를출원하였으나 2001년이후일본보다저조한특허출원을하는것으로나타났다. 미국, 일본에이어외국인다출원 3위를차지한독일은 2001년 135건을출원하다가 2002년에 85건으로크게하락한후증가와감소를반복하여나타냈다. 출원건수 출원인기준 2. 기간 : 1990~2004 일본 미국 독일스위스네덜란드 < 그림 3-38> 석유 / 정밀화학외국주요국가의특허출원동향 142

160 2. 기술별전체특허동향 < 표 3-31> 은 1990 년 ~2004 년동안 300 건이상특허출원한국가와 300 건 미만으로출원된국가를기타국가로분류하여출원건수와점유율을나타내었다. 우리나라는구간별로점차증가하여 1990년 ~1994년 34.8%(1,330건 ) 에서 1995년 ~1999년에 41.0%(2,298건 ) 로증가하고, 2000년 ~2004년에는 55.3% (5,069건) 로전체점유율의절반이상이내국인출원으로차지하게되었다. 다출원 2위를차지한미국의점유율은 1990년 ~1994년 24.2%(924건 ) 에서 1995년 ~1999년 20.8%(1,164건 ), 2000년 ~2004년은 14.1%(1,290건 ) 로점차감소하는것으로나타났다. 기타주요국인독일, 스위스및네덜란드역시미국과같이구간별로계속감소세를나타내었다. < 표 3-31> 석유 / 정밀화학주요국가의특허출원동향 1990~ ~ ~2004 전체 국가 출원건수 점유율 출원건수 점유율 출원건수 점유율 출원건수 점유율 대한민국 1, % 2, % 5, % 8, % 미국 % 1, % 1, % 3, % 일본 % % 1, % 3, % 1 2 독일 % % % 1, % 스위스 % % % % 네덜란드 % % % % 3 기타 % % % 1, % 합계 3, % 5, % 9, % 18, % Ⅰ < 표 3-32> 는 1990 년 ~2004 년동안출원된석유 / 정밀화학분야의다출원 상위 10 개출원인의출원건수와점유율을나타내었다. Ⅱ 다출원상위 10 개출원인의점유율이전체에서 16.7% 로낮은비율을나타 냈다. 다출원 1 위에해당하는 POSCO 는구간별점유율이점차증가되면서전체 605 건으로 3.3% 를차지하였다. 이에반해 3M, 삼성 SDI, 금강고려화학, 메르크 143

161 3 기술별특허동향 파텐트, P&G 및 LG 등다출원 2위부터 7위에해당하는출원인의특허출원이구간별로계속적인감소세를나타냈다. 스위스의 Ciba Specialty chemical은 1990년 ~1994년에 2건출원으로 0.1% 의점유율을나타내다가 1995년 ~1999년 81건 (1.4%), 2000년 ~2004년 125건 (1.4%) 으로서특허출원건수는증가하였으나, 점유율은 1.4% 로유지되어있다. 주요출원인 < 표 3-32> 석유 / 정밀화학주요출원인의특허출원동향 국가 1990~ ~ ~2004 전체 출원건수 점유율출원건수 점유율출원건수 점유율출원건수 점유율 POSCO 대한민국 % % % % 3M 미국 % % % % 삼성SDI 대한민국 % % % % 금강고려화학 대한민국 % % % % 메르크파텐트독일 % % % % P&G 미국 % % % % LG 대한민국 % % % % Ciba Specialty chemical 스위스 2 0.1% % % % LG 화학대한민국 % % % % BASF 독일 % % % % 주요출원인소계 % 1, % 1, % 3, % 전체합계 3, % 5, % 9, % 18, % 2000 년 ~2004 년동안석유 / 정밀화학분야의다출원상위 10 개출원인의상대적인 특허활동지수인 RPA 와상대적인연평균증가율을 < 그림 3-39> 52) 에나타내었다. 다출원상위 10개출원인모두특허활동이활발하여 RPA지수값이 0에서 100사이로나타났다. 이들중에 3M은특허활동이활발할뿐만아니라연평균 증가율도플러스성세로나타났다. 반면다출원 1 위인 POSCO 와 BASF, 메르크 파텐트, P&G, 삼성 SDI 는특허활동이상대적으로활발하나연평균증가율은 상대적으로저조한것으로나타났다. 52) 특허가매년출원되지않을경우연평균증가율은 0% 로나오기때문에, 특허가매년출원되지않은 3M, 금강고려화학, LG 및 LG 화학은분석대상에서외하였음. 144

162 2. 기술별전체특허동향 75% 50% 상대적 25% 연평균증가율 0% -25% 삼성SDI 삼성SDI Ciba Specialty Chemical LG화학 3M BASF LG 메르크파텐트 POSCO -50% P&G 1-75% RPA 기간 : '00~'04 < 그림 3-39> 석유 / 정밀화학의 RPA vs 상대적연평균증가율 < 표 3-33> 은 1990년 ~1997년에출원된석유 / 정밀화학분야의다출원상위 10개출원인의특허등록동향을나타낸표이다. 다출원상위 10개출원인의평균등록률은 49.4% 를나타내며 51.2% 를나타낸전체특허등록률보다더낮은것으로나타났다. 다출원 1위인 POSCO는각각평균 72.9% 를나타내며높은등록률을보였다. LG화학은 83.5% 를나타내며다출원상위 10개출원인중에가높은등록률을나타냈다. 반면 3M, P&G, Ciba Specialty Chemical 및 BASF 등외국출원인은평균보다낮은등록률을나타냈다. 2 3 Ⅰ Ⅱ 145

163 3 기술별특허동향 < 표 3-33> 석유 / 정밀화학주요출원인의등록률동향 주요출원인국가 평균 POSCO 대한민국 100.0% 100.0% 100.0% 100.0% 93.8% 84.2% 52.9% 54.8% 72.9% 3M 미국 50.0% 30.8% 55.6% 30.0% 38.9% 18.5% 30.6% 15.6% 31.4% 삼성 SDI 대한민국 76.1% 74.1% 95.0% 64.7% 68.8% 63.6% 20.0% 33.3% 69.4% 금강고려화학대한민국 68.4% 64.3% 88.2% 62.1% 73.3% 65.5% 12.9% 0.0% 52.1% 메르크파텐트독일 35.7% 45.5% 50.0% 63.6% 47.1% 30.0% 40.0% 71.4% 46.2% P&G 미국 4.5% 33.3% 15.2% 5.6% 15.0% 25.0% 53.3% 17.2% LG 대한민국 93.3% 90.0% 70.8% 85.7% 100.0% 100.0% 31.8% 39.5% 64.9% Ciba Specialty chemical 스위스 100.0% 100.0% 13.8% 15.0% LG 화학대한민국 85.0% 88.6% 65.4% 94.4% 100.0% 83.5% BASF 독일 14.3% 0.0% 16.7% 12.5% 10.0% 50.0% 34.8% 22.7% 23.4% 주요출원인의평균등록률 56.3% 60.2% 72.5% 49.8% 60.2% 50.3% 35.6% 31.2% 49.4% 전체평균등록률 51.3% 56.7% 58.6% 50.1% 57.0% 53.4% 48.3% 40.0% 51.2% 146

164 3. 차세대성동력산업의특허동향 3 차세대성동력산업의특허동향 3.1 개요 본절에서는차세대성동력산업으로지정된 10대산업중16회국가과학기술위원회후속사업과관련하여산업기술로드맵특허동향조사를실시했던디스플레이, 지능형로봇, 미래형자동차, 차세대전지및차세대반도체분야의한국특허동향을살펴보았다. 상기산업에대한특허는키워드를이용하여추출하였기때문에분석기간을 1991년 ~2002년 53) 동안한국에출원하여 2004년 12월 31일까지공개된특허를 대상으로하였다. 동기간동안키워드를이용하여추출된특허는 39,736건이며, 상기특허는1출원인기준으로 5대차세대성동력산업의기술별전체특허동향과함께개별차세대성동력산업을세부기술별로나누어기술집중도및연평균증가율등의분석을통해특허동향을살펴보았다 기술별전체특허동향 기술별연도별특허동향 차세대성동력산업관련기술들의연도별특허동향을살펴보면, 모든기술분야에서특허출원이상승세를보이고있다. 특히디스플레이와차세대반도체관련특허는 1994년까지매년 500건미만의특허가출원되었으나, 그이후가파른상승곡선을그리며증가하고있는것으로나타났다. 그외지능형로봇, 차세대전지및미래형자동차는지속적인증가세를보이고있다. 이중미래형자동차는 1994년 ~1997년출원거품이발생하였는데이는자동차업계간의 3 Ⅰ Ⅱ 53) 특허는특허법 64 조 1 항에근거하여출원일부터 18 개월경과한때또는그이전에라도출원인의신청이있을때에는특허출원관련정보를특허공보에게재하여대중에게공개하도록되어있음. 따라서출원인이신청전에는 18 개월이전에공개되지않기때문에키워드를이용한특허를추출할수없으므로분석대상에서외하였음 147

165 3 기술별특허동향 출원경쟁에기인한것으로판단된다. 5대차세대성동력산업을출원점유율면에서살펴보면차세대반도체가 41% 로가높고디스플레이, 미래형자동차, 지능형로봇, 차세대전지순으로나타나있다. 4,000 출원건수 3,500 3,000 2,500 2,000 1,500 차세대반도체지능형 16340건 41% 로봇 3973건 10% 디스플레이 12603건 32% 미래형자동차, 4856, 12% 차세대전지, 1964 건 5% 1, 디스플레이 지능형로봇 차세대반도체 차세대전지 미래형자동차 1. 기간 :'91~2002년 2. 1 출원인기준 < 그림 3-40> 차세대성동력산업의연도별출원동향 기술별출원인별특허동향차세대성동력산업의다출원인별출원건수와점유율을 < 표 3-34> 에서살펴보면, 전체특허에서기업별특허출원순위 4위내기업들인 LG전자, 현대자동차, 삼성전자및하이닉스반도체가각기술분야에서다출원 1위에올라와있는것으로나타났다. 지능형로봇과차세대전지의경우는각각삼성전자와삼성 SDI가특허출원을주도하며기타출원인과격차가매우큰것으로나타났다. 차세대전지의경우점유율은작지만외국기업으로는드물게 Sony와 Matsushita가다출원 2위와 3위에포함되었다. 차세대반도체분야에서는 148

166 3. 차세대성동력산업의특허동향 하이닉스반도체가삼성전자보다 742 건많은 3,293 건으로다출원 1 위를차지 하였다. < 표 3-34> 차세대성동력산업의다출원인 ( 상위 10 위 ) 별출원점유율 디스플레이미래형자동차지능형로봇차세대전지차세대반도체 순위 출원인 출원건수 ( 점유율 ) 출원인 출원건수 ( 점유율 ) 출원인 출원건수 ( 점유율 ) 출원인 출원건수 ( 점유율 ) 출원인 출원건수 ( 점유율 ) 1 LG 전자 1,483 (11.8) 현대자동차 973 (20.0) 삼성전자 952 (24.0) 삼성 SDI 646 (32.9) 하이닉스반도체 3,293 (20.2) 2 LG Philips LCD 1,416 (11.2) 개인 504 (10.4) 개인 306 (7.7) Sony 98 (5.0) 삼성전자 2,551 (15.6) 3 삼성전자 4 삼성 SDI 1,278 (10.1) 기아자동차 406 (8.4) 931 (7.4) GM대우 254 (5.2) 현대자동차 대우일렉트로닉스 159 (4.0) Matsushita 56 (2.9) 107 (2.7) SKC 50 (2.5) LG 전자 개인 955 (5.8) 659 (4.0) 1 5 오리온전기 617 (4.9) 삼성전자 205 (4.2) LG 전자 104 (2.6) 개인 한국전자 / 49 통신 (2.5) 연구원 427 (2.6) 2 6 하이닉스반도체 7 개인 596 (4.7) 457 (3.6) 하이닉스반도체 대우일렉트로닉스 198 (4.1) 142 (2.9) 하이닉스반도체 삼성광주전자 91 (2.3) 81 (2.0) LG 한국과학기술연구원 46 (2.3) 42 (2.1) NEC 동부아남반도체 384 (2.4) 289 (1.8) 3 8 NEC 293 (2.3) LG 전자 114 (2.3) Sony 76 (1.9) 한국전자통신연구원 41 (2.1) Sony 261 (1.6) Ⅰ 9 Hitachi 10 고등기술연구원연구조합 224 (1.8) 만도기계 90 (1.9) 220 (1.7) 만도 두산인프라코어 80 Applide (1.6) Materials 68 (1.7) 68 (1.7) 한국과학기술원 Sanyo 40 (2.0) Toshiba 238 (1.5) 37 (1.9) IBM 230 (1.4) Ⅱ 전체 디스플레이전체 12,603 (100) 미래형자동차전체 4,856 (100) 지능형로봇전체 3,973 (100) 차세대전지전체 1,964 (100) 차세대반도체전체 16,340 (100) 149

167 3 기술별특허동향 기술별국가별특허동향 1) 기술별국가별다출원순위전체특허에서의국가별순위와동일하게대부분의차세대성동력산업에서기술별다출원국가의순위가한국, 일본, 미국및독일순으로나타났다. 다만차세대반도체분야만네덜란드가독일보다 1건차이로앞서는것으로나타났다. 대부분의기술에서미국과일본이상당한출원점유율차이를보이는가운데특히디스플레이분야의경우출원점유율면에서 8배정도의가큰차이를나타냈고차세대반도체의경우 1.3배로가작은차이를보이고있다. < 표 3-35> 차세대성동력산업의다출원국가 ( 상위 10 위 ) 별출원점유율 디스플레이미래형자동차지능형로봇차세대전지차세대반도체 순위 출원인출원건수출원인출원건수 ( 점유율 ) 출원인 출원건수 ( 점유율 ) 출원인 출원건수 ( 점유율 ) 출원인 출원건수 ( 점유율 ) 1 대한민국 8,501 (67.45) 대한민국 3,956 (81.47) 대한민국 3,019 (75.99) 대한민국 1,296 (65.99) 대한민국 10,810 (66.16) 2 일본 3,277 (26.00) 일본 446 (9.18) 일본 561 (14.12) 일본 451 (22.96) 일본 2,645 (16.19) 3 미국 407 (3.23) 미국 211 (4.35) 미국 237 (5.97) 미국 133 (6.77) 미국 1,930 (11.81) 4 독일 130 (1.03) 독일 154 (3.17) 독일 37 (0.93) 독일 46 (2.34) 네덜란드 261 (1.60) 5 네덜란드 104 (0.83) 네덜란드 21 (0.43) 프랑스 25 (0.63) 영국 7 (0.36) 독일 260 (1.59) 6 영국 43 (0.34) 프랑스 17 (0.35) 이탈리아 18 (0.45) 프랑스 6 (0.31) 프랑스 96 (0.59) 7 스위스 35 (0.28) 영국 8 (0.16) 스웨덴 15 (0.38) 네덜란드 5 (0.25) 스웨덴 68 (0.42) 8 프랑스 32 (0.25) 스웨덴 6 (0.12) 네덜란드 12 (0.30) 캐나다 5 (0.25) 영국 62 (0.38) 9 대만 23 (0.18) 스위스 6 (0.12) 영국 10 (0.25) 스위스 4 (0.20) 대만 46 (0.28) 10 호주 10 (0.08) 이탈리아 6 (0.12) 스위스 9 (0.23) 홍콩 4 (0.20) 핀란드 38 (0.23) 전체 디스플레이전체 12,603 (100) 미래형자동차전체 4,856 (100) 지능형로봇전체 3,973 (100) 차세대전지전체 1,964 (100) 차세대반도체전체 16,340 (100) 150

168 3. 차세대성동력산업의특허동향 2) 기술별국내외점유율비교미래형자동차는내국인의출원점유율이 81.47% 로서다른차세대성동력산업에비해내국인출원점유율이매우높은것으로나타났고, 반면차세대전지는 65.99% 로가낮게나타났다. 디스플레이 한국 8,501 건 외국 4,102 건 미래형자동차 한국 3,956 건 외국 900 건 지능형로봇 한국 3,019 건 외국 954 건 차세대전지 차세대반도체 한국 1,296 건 한국 10,810 건 외국 668 건 외국 5,530 건 1 전체 한국 588,655 건 외국 265,919 건 0% 20% 40% 60% 80% 100% 특허출원점유율 < 그림 3-41> 차세대성동력산업의내외국출원점유율 1. 기간 :'91~2002 년 2. 1 출원인기준 2 3 차세대성동력산업의연구주체별특허출원건수를 < 그림 3-42> 에서살펴보았다. 대체적으로출원건수는기업, 개인, 공공기관, 기타비영리및대학의순으로출원건수가나타났으나, 이중디스플레이는기타비영리기관이공공기관보다많고, 차세대전지와차세대반도체는대학이기타비영리기관의출원건수보다많은것으로조사되었다. Ⅰ Ⅱ 151

169 3 기술별특허동향 개인 기타비영리 대학 공공기관 기업 7,561 3,367 2,504 1,059 9,401 디스플레이 미래형자동차 지능형로봇 차세대전지 차세대반도체 1. 기간 :'91~2002 년 2. 1 출원인기준 < 그림 3-42> 차세대성동력산업의연구주체별특허출원건수 4) 기술별국가별 RPA와상대적연평균증가율최근 5년 (1998년 ~2002년 ) 간의특허출원건수를이용해내 외국별로차세대성동력산업의 RPA 지수와상대적연평균증가율을 < 그림 3-43> 에나타내었다. 외국에의한차세대전지분야의특허출원이 Sony와 Matsushita의활발한출원활동에힘입어 RPA 지수와상대적연평균증가율모두높은것으로나타났으나미래형자동차와지능형로봇은매우낮은 RPA 지수와상대적연평균증가율을보이고있다. 152

170 3. 차세대성동력산업의특허동향 R P A 미래형자동차 지능형로봇 디스플레이 차세대전지 차세대반도체 디스플레이 차세대반도체 차세대전지 지능형로봇 미래형자동차 : 국내출원상대적연평균증가율 (%) : 외국출원 1. 기간 :1998~2002 년 2. 1 출원인기준 < 그림 3-43> 차세대성동력산업의내 외국별연평균증가율 vs RPA 1 2 출원국가가일본인특허의상대적연평균증가율과 RPA 지수를 < 그림 3-44> 에나타내었다. 일본의경우는디스플레이와차세대전지가상대적연평균증가율도높고 RPA 지수가높아지능형로봇과미래형자동차에비해특허활동도활발하고규모도성하고있는것으로나타났다. 3 Ⅰ 미국은차세대반도체가 RPA 지수가높아다른분야보다집중되어있는것으로나타났고, 차세대전지와미래형자동차는 RPA 지수는낮지만상대적연평균증가율은높아최근들어지속적으로성하고있는것으로나타났다. 차세대전지의경우연평균증가율이가높게나왔지만특징적인다출원인은없는것으로조사되었다. Ⅱ 153

171 3 기술별특허동향 디스플레이 20 차세대전지 R P A 0-20 차세대반도체 -40 지능형로봇 미래형자동차 상대적연평균증가율 (%) 1. 기간 :1998~2002년 2. 1 출원인기준 < 그림 3-44> 일본출원특허의연평균증가율 vs RPA 지수 차세대반도체 20 R P A 지능형로봇 미래형자동차 차세대전지 -60 디스플레이 상대적연평균증가율 (%) 1. 기간 :1998~2002년 2. 1 출원인기준 < 그림 3-45> 미국출원특허의연평균증가율 vs RPA 지수 154

172 3. 차세대성동력산업의특허동향 독일은미래형자동차와차세대전지의 RPA지수가높아해당분야에집중하는것으로나타났다. 지능형로봇과디스플레이는 RPA지수와상대적연평균증가율모두낮은것으로나와있어독일이이기술분야에서특허활동은부진한것으로나타났다. 80 미래형자동차 차세대전지 R P A 차세대반도체 1-60 디스플레이 지능형로봇 상대적연평균증가율 (%) 1. 기간 :1998~2002 년 2. 1 출원인기준 < 그림 3-46> 독일출원특허의연평균증가율 vs RPA 지수 세부기술별특허동향 개요 본절에서는각차세대성동력산업별로세부기술분야에따라출원점유율, 연도별출원건수변화, RPA 지수및상대적연평균증가율등을살펴보았다. Ⅰ Ⅱ 분석상의오류를방지하기위해서 RPA 지수와상대적연평균증가율은분석 구간내출원건수가존재하지않으면표시하지않았다. 155

173 3 기술별특허동향 디스플레이산업의특허동향디스플레이분야의세부기술별로출원동향을살펴본결과, LCD의특허가가큰폭으로증가하고있으며, OLED는 1999년부터출원이증가세를보이며 2002년에들어서 PDP의출원건수를추월하였다 OLED 1442 건 14% 1200 LCD 6781 건 65% 출원건수 PDP 2149 건 21% LCD PDP OLED 1. 기간 :'91~2002 년 2. 1 출원인기준 < 그림 3-47> 디스플레이산업의세부기술별출원동향 출원건수가비교적적은차세대디스플레이내의기타기술분야의출원동향은 < 그림 3-48> 에나타내었다. FED는 1995년에출원건수가급증한이후출원건수가소폭감소현상을보이고있으며, ASD, AOD 및 E-paper는지속적으로완만한증가세를나타내고있다. 156

174 3. 차세대성동력산업의특허동향 D 655 건 25% FED 1595 건 61% 출원건수 AOD 95 건 4% ASD 219 건 8% E-paper 42 건 2% D ASD AOD FED E-paper 1. 기간 :'91~2002년 2. 1 출원인기준 < 그림 3-48> 디스플레이산업의세부기술별출원동향 디스플레이산업에서세부기술별로 1998년이후 5년간의특허출원건수를이용한 RPA 지수와상대적연평균증가율을 < 그림 3-49> 에나타내었다. 디스플레이의세부기술중내국출원에의한 PDP, ASD, 3D분야가최근에특허활동의집중도와상대적연평균증가율이매우활발하며높은것으로조사되었다. 외국인특허는 OLED가특허활동의집중도와상대적연평균증가율이매우활발하며높은것으로나타났다 R P A FED 3D FED LCD PDP ASD 3D LCD OLED OLED Ⅰ Ⅱ -40 ASD PDP : 국내출원상대적연평균증가율 (%) : 외국출원 1. 기간 :1998~2002 년 2. 1 출원인기준 < 그림 3-49> 세부기술별상대적연평균증가율 vs RPA 지수 157

175 3 기술별특허동향 미래형자동차산업의특허동향미래형자동차산업중지능형자동차가 88% 로압도적으로큰출원점유율을보이고있으며 1997년외환위기의영향으로인해 1998년특허출원이크게감소하였으나지속적으로높은증가세를나타내고있다. 하이브리드자동차와연료전지분야는 2000년이후부터출원건수가상승세를보이고있다. 미래형자동차중연료전지분야는국내 외를막론하고가높은상대적연평균증가율을보이고있는반면지능형자동차는최근 5년간상대적으로가낮은연평균증가율을보이고있다. 각기술별연평균증가율은내 외국모두유사한경향을나타내고있으나, 상대적인특허활동지수를나타내는 RPA 지수는내 외국별로큰차이를보이고있다. 외국인은주로하이브리드자동차와연료전지에특허출원활동이상대적으로활발하며, 내국인은주로지능형자동차의특허출원활동이활발한것으로나타나고있다 지능형 4309 건 88% 출원건수 연료전지, 303 건 6% 하이브리드 273 건 6% 하이브리드 연료전지 지능형 1. 기간 :'91~2002년 2. 1 출원인기준 < 그림 3-50> 미래형자동차산업의세부기술별출원동향 158

176 3. 차세대성동력산업의특허동향 60 연료전지 40 하이브리드 20 R P A 0 지능형 -20 지능형 하이브리드 -40 연료전지 : 국내출원상대적연평균증가율 (%) : 외국출원 1. 기간 :1998~2002 년 2. 1 출원인기준 < 그림 3-51> 세부기술별상대적연평균증가율 vs RPA 지수 지능형로봇산업의특허동향 지능형로봇산업에있어서조업용로봇분야가 65% 로절반이상의점유율을 차지하고있고네트워크로봇이 6% 로가낮은점유율을차지하고있다. 연도별 특허출원건수의변화를살펴보면조업용로봇은전반적으로지속적인성세를 나타내고있고개인서비스용로봇은 1999 년이후급증세를보이고있다 Ⅰ 지능형로봇산업에있어서네트워크로봇을외하고내 외국의상대적연평균 증가율이유사한수준을나타내고있다. 네트워크로봇에서내국인은특허출원이 활발하며높은연평균증가율을보이고있으나, 외국출원의경우는상대적으로 Ⅱ 가저조한특허출원활동을보이고있다. 159

177 3 기술별특허동향 조업용 3562 건 65% 출원건수 전문서비스 953 건 17% 개인서비스 674 건 12% 네트워크, 356 건 6% 개인서비스용 전문서비스용 조업용 네트워크 1. 기간 :'91~2002년 2. 1 출원인기준 < 그림 3-52> 지능형로봇산업의세부기술별출원동향 전문서비스용 네트워크 R P A 0-20 조업용 조업용 전문서비스용 개인서비스용 -40 개인서비스용 -60 네트워크 : 국내출원상대적연평균증가율 (%) : 외국출원 1. 기간 :1998~2002 년 2. 1 출원인기준 < 그림 3-53> 세부기술별상대적연평균증가율 vs RPA 지수 160

178 3. 차세대성동력산업의특허동향 차세대전지산업의특허동향차세대전지산업의경우전체출원점유율측면에서전자 정보기기용전지가 79% 로가큰비중을차지한반면로봇용전지는 5건으로매우낮게나왔다. 연도별출원건수의변화를살펴보면전자 정보기기용전지가휴대용기기의발달과함께 1996부터급속한성을보인것으로나타났다. 수송기계용전지는 1998년이후증가세를보이고있으나 2002년전년대비약 50여건의특허출원이감소하였다. 전력저과특수용이차전지의경우외국출원은가높은 RPA 지수를나타낸데 반해국내출원은가낮은 RPA 지수를보이고있다. 외국출원에의한 수송기계용이차전지의특허출원이 Matsushita 의영향으로상대적연평균증가율이 매우높게나왔다 전자정보기기용 1809 건 79% 2 출원건수 로봇용 5 건 전력저과특수용 86 건 3.7% 수송기계용 372 건 16% 3 Ⅰ 전자정보기기용수송기계용전력저과특수용로봇용 1. 기간 :'91~2002 년 2. 1 출원인기준 Ⅱ < 그림 3-54> 차세대전지산업의세부기술별출원동향 161

179 3 기술별특허동향 전력저과특수용 수송기계용 20 R P A 0 전자정보기기용 -20 전자정보기기용 -40 전력저과특수용 수송기계용 : 국내출원상대적연평균증가율 (%) : 외국출원 < 그림 3-55> 세부기술별상대적연평균증가율 vs RPA 지수 1. 기간 :1998~2002 년 2. 1 출원인기준 차세대반도체산업의특허동향차세대반도체산업에있어서는반도체공정과 SoC 분야가거의유사한규모의특허출원점유율을보이고있다. 특히 SoC 분야의특허는 1999년이후출원이급증하여반도체공정의특허를추월하였다. 반면, 반도체공정은 1994년이후특허출원이일정한수준으로꾸준히증가세를보이고있다. 반도체공정과 SoC 의 RPA 지수가큰차이를보이지않아내외국별로비슷한 기술별집중도를보이고있다. 상대적연평균증가율에있어서국내출원의 반도체공정이 SoC 에비해매우낮은것으로나타났다. 162

180 3. 차세대성동력산업의특허동향 출원건수 반도체공정 8820 건 50% SoC 8739 건 50% 반도체공정 < 그림 3-56> 차세대반도체산업의세부기술별출원동향 SoC 1. 기간 :'91~2002 년 2. 1 출원인기준 R P A 0 반도체공정 반도체공정 SoC SoC 별 -20 첨 Ⅰ : 국내출원상대적연평균증가율 (%) : 외국출원 1. 기간 :1998~2002 년 2. 1 출원인기준 Ⅱ < 그림 3-57> 세부기술별상대적연평균증가율 vs RPA 지수 163

181 3 기술별특허동향 4 소결 전체기술별특허동향 1990년 ~2004년동안출원된특허중에전기 / 반도체분야 197,025건 (17.4%), 전자 / 통신 156,436건 (13.8%), 운송 / 포 90,084건 (7.9%) 의순으로출원되었고, 초미세기술분야는 681건 (0.1%) 으로가적은출원을나타냈다. 1990년 ~1997년동안기술별등록률을살펴보면가높은등록률을나타낸분야는야금 / 도금으로 69.0% 의등록률을보였고, 그뒤로금속가공 61.3%, 광업 61.2% 를나타냈고, 전자 / 통신, 정보매체, 컴퓨터, 및전기 / 반도체등 IT분야의등록률이평균등록률 (53.0%) 보다높은것으로조사됐다. 내 외국인별특허동향내 외국인모두전기 / 반도체및전자 / 통신의출원건수가 1,2위를차지하였다. 내국인은운송 / 포, 컴퓨터가그뒤를이었고, 외국인은유기화학, 측정 / 광학이그뒤를이었다. - 특허대외의존도가 1이상으로나타난분야는유기화학이가높고, 그뒤로고분자, 의약, 원자력, 지, 석유 / 정밀화학분야로나타났다 년이후출원된특허의전체출원인과주요신규출원인을중심으로살펴본결과, 내 외국인의경우전기 / 반도체, 전자 / 통신및컴퓨터와전기 / 반도체, 전자 / 통신및측정 / 광학에서각각 1위 ~3위를차지한것으로나타났다 년 ~2004년동안특허활동이상대적으로활발하고높은연평균증가율을나타내는내국인의기술분야는건설, 컴퓨터, 가정용품, 섬유, 전자 / 통신, 조명 / 가열분야로나타났고, 외국인은측정 / 광학, 인쇄, 전자 / 164

182 4. 소결 통신, 조명 / 가열분야로나타났다. - 내국인과외국인의심사청구기간은각각평균 0.31년, 1.95년으로약 1년이상차이가나고, 기술별로살펴보면유기화학 2.16년, 고분자 1.64년, 의약 1.41년, 바이오 1.10년으로기초과학분야및 BT분야는늦는데비해전기 / 반도체 0.84년, 전자 / 통신 0.85년, 컴퓨터 0.47년으로 IT분야의심사청구는빠른것으로나타났다. 1990년 ~1997년동안출원된특허등록률중에내국인의경우원자력 85.1% 를나타내며가높은등록률을보였고, 바이오 74.3%, 야금 / 도금 73.7% 등을나타냈고가낮은등록률을보인분야는운송 / 포으로 33.7% 를나타냈다. 외국인의경우정보매체분야가 69.6% 로가높고, 엔진 / 펌프 68.8%, 인쇄 67.4% 를나타내며그뒤를이었고원자력분야가 38.2% 로가낮은등록률을보였다. - 내국인의생존율이가높은분야는원자력분야로 94.7% 를나타내고, 전기 / 반도체 77.8%, 정보매체 74.7% 를나타냈고, 외국인은바이오분야가 88.7% 를나타내며가높은생존율을보였다. - 내국인의경우무효심판은전체 1,264건중에서건설분야와컴퓨터분야에서각각 123건과 122건을나타내며가많이발생한것으로나타났고, 권리범위확인심판은전체 1,170건중에서컴퓨터분야가 111건을나타내며가많은건수를나타냈고, 외국인의경우는전기 / 반도체분야에서무효심판과권리범위확인심판이각각 26건, 14건을나타내며가많이발생하는것으로나타났다. 세부기술별특허동향전기 / 반도체분야의내국인출원의점유율이 76.8%(19,079건 ) 에이르고, 우리나라다음으로많은출원을한국가는일본 34,607건 (17.6%) 이고그뒤로미국 13,781건 (7.0%), 독일 3,363건 (1.7%) 그리고높은연평균증가율을나타낸네덜란드는 1,787건 (0.9%), 대만은 533건 (0.3%) 을나타냈다 Ⅰ Ⅱ 165

183 3 기술별특허동향 - 전기 / 반도체분야는하이닉스반도체 (35,069건, 17.8%) 와삼성전자 (32,970건, 16.7%) 가주도하는것으로나타났고, 외국출원인으로는 NEC(2,955건, 1.5%), Toshiba(2,596건, 1.3%), Mitsubishi(2,406건, 1.2%) 이다출원상위 10위에올랐고이들출원인의등록률이평균보다도우수한것으로나타났다. 특허활동이활발하고, 연평균증가율도높은출원인은동부아남반도체, 삼성SDI로나타났다. 전자 / 통신분야는내국인출원이 18,047건 (81.2%), 외국인 4,179건 (18.8%) 로내국인비율이매우높은것으로나타났고, 우리나라에이어일본 12,380건 (7.9%), 미국 10,778건 (6.9%), 네덜란드 3,292건 (2.1%) 순으로출원이있었고, 우리나라와일본, 미국은구간별로플러스성을계속한것으로나타났다. - 전자 / 통신분야의다출원상위 10개출원인을살펴보면삼성전자 35,069건 (22.4%), LG전자 32,970건 (21.1%) 으로주도하고, Philips와 Sony가외국출원인으로포함됐다. 대우일렉트로닉스, SK텔레콤, 한국전자통신연구원, LG전자, Philips가연평균증가율도높고특허활동도활발한것으로나타났다. 유기화학분야는특허대외의존도가가높은분야로외국인출원이 26,655건 (78.3%) 을차자하였다. 미국이 7,918건 (23.3%) 로가많은출원이있었고다음으로우리나라가 7,390건 (21.7%) 을차지하며다출원 2위에올랐다. 하지만 2001년이후우리나라가다출원 1위에오른후꾸준한상승세를이어나갔고연평균증가율면에서도모든구간에서플러스성을한것으로나타났다. - 다출원상위 10개출원인의점유율이 18.9% 로낮고이중가많은출원은 BASF가 1,217건 (3.6%) 을하였고, 이어서 Bayer 1,089건 (3.2%), Novartis 770건 (2.3%) 을나타냈다. 우리나라는한국화학연구원과한국과학기술연구원, LG가올랐고이들의등록률이모두 80% 이상으로평균 (50.4%) 보다매우높은등록률을나타냈다. 166

184 4. 소결 측정 / 광학분야는내국인이 49,503건으로 65.2% 를나타냈고, 우리나라에이어일본 15,188건 (20.0%), 미국 6,262건 (8.3%) 의출원건수를보였고우리나라와일본이구간별로모두플러스성을한것으로나타났다. - 다출원상위 10개출원인중에삼성전자 12,238건 (16.1%), LG Philips LCD 6,646건 (8.8%) 을나타냈고, 외국출원인으로는 Canon이 872건 (1.1%) 을나타내며다출원 8위에올랐다. 특허활동도활발하고, 연평균증가율도높게나타난출원인은 LG Philips LCD와삼성전자로나타났고, Canon의등록률이 95.5% 를나타내며가높게나타났다. 정보매체분야는내국인출원이 건으로 70.2% 를나타냈고, 우리 나라에이어꾸준한증가세를보인일본은 14,346 건 (20.5%) 을나타냈고, 최근연평균증가율이마이너스를기록한미국은 3,501 건으로 5.0% 를 기록하였다. - 다출원상위 10개출원인에내국인출원인은삼성전자, LG전자, 대우일렉트로닉스가, 외국인출원인으로는 Sony, Matsushita, Toshiba, Philips 및 NEC가포함되었고, 이들다출원상위 10개출원인은모두특허활동이활발한것으로나타났지만, 이들평균등록률이 56.2% 를기록하여전체평균 (57.5%) 보다낮은것으로나타났다. 컴퓨터분야는 2000년비즈니스모델관련특허의급증으로 2000년폭증한특허출원이점차감소하다가 2003년부터다시증가세로돌아서서내국인출원이 건 (77.1%) 을기록하였다. 그뒤로최근 2004년에주춤한일본이 8,676건 (10.0%) 을기록했고, 미국 7,394건 (8.5%), 네덜란드 1,044건 (1.2%) 이그뒤를이었고, 독일을외한한국, 일본, 미국, 네덜란드, 프랑스의연평균증가율이플러스성세를보였다. - 다출원상위 10개를살펴보면삼성전자 9,810건 (11.3%), LG전자 5,125건 (5.9%) 을나타내며다출원 1,2위를차지하였고, Sony, Matsushita, Toshiba, Philips, NEC가외국출원인으로올랐고, SK텔레콤이연평균증가율도높고, 특허활동이우수한것으로나타났다 Ⅰ Ⅱ 167

185 3 기술별특허동향 운송 / 포분야에서내국인출원이 1995년 ~1997년에큰증가세를보이다가외환위기이후급감하였지만꾸준히상승세를유지하여 건으로 80.1% 의점유율을나타냈다. 우리나라에이어일본은 6,893건 (7.7%), 미국은 3,892건 (4.3%) 의특허출원을나타냈다 - 다출원상위 10개를살펴보면현대자동차 20,030건 (22.2%), 기아자동차 14,796건 (16.4%), GM대우 8,348건 (9.3%) 을나타냈고, Robert Bosch가외국출원인으로유일하게순위에올랐다. 현대자동차, 기아자동차, 만도, 한라공조는특허활동도활발하고, 연평균증가율도높은것으로나타났지만, 기아자동차는평균등록률이 14.1% 로매우낮은등록률을보였다. 고분자분야는특허대외의존도가높은기술이지만차츰그격차를줄여가고있어내국인출원이 건 (40.3%) 로나타났다. 구간별로감소세에있지만다출원 2위를차지한미국이 5,544건 (20.6%), 일본은 5,238건 (19.5%) 로그뒤를이었다. - 다출원상위 10개출원인의점유율이모두 4% 이하를나타내며일모직 923건 (3.4%), 코오롱 692건 (2.6%), BASF 625건 (2.3%) 을나타냈고, 금호산업과효성이연평균증가율과특허활동이우수한것으로나타났다. 의약분야는특허대외의존도가높은분야이지만 2003년도부터외국인보다더많은출원을하여전체특허출원건수가내국인 9,171건 (40.5%) 을나타내며 13,495건을나타낸외국인특허출원과의격차를크게줄였다. 우리나라에이어미국은 5,093건 (22.5%) 을나타냈고, 최근꾸준한증가세를보인일본이 2,522건 (11.1%) 을나타내며다출원 3위에올랐고이들세국가모두모든구간에서플러스성을한것으로나타났다. - 다출원상위 10개출원인의점유율이 15.3% 로낮은편이고, 태평양 595건 (2.6%), Roreal 590건 (2.6%), LG 395건 (1.7%) 을나타내며다출원 1~3위에올랐고, 상위 10위출원인모두특허활동이좋은것으로나타났다. 168

186 4. 소결 석유 / 정밀화학분야는특허대외의존도가 1이상이지만 2000년이후부터내국인출원이더많아지면서내국인출원 8,697건 (46.8%) 을나타냈고, 우리나라에이어미국 3,378건 (18.2%), 일본 3,037건 (16.3%) 을나타냈다. 일본과스위스는구간별로상승된연평균증가율을보였다. - 다출원상위 10위출원인을살펴보면 POSCO 605건 (3.3%), 삼성SDI 381건 (2.0%), 3M 320건 (1.7%) 을나타내는등다출원상위출원인의점유율이비교적낮은것으로나타나상위 10개출원인의점유율이 15.9% 에해당하였다. 차세대성동력산업의특허동향 1991년 ~2002년동안한국에서출원된특허중차세대성동력산업으로지정된 10대산업에서선택된 5개산업분야의특허 39,736건을대상으로분석을수행하였다. 5대차세대성동력산업의출원점유율은차세대반도체가 41% 로가높고그다음으로디스플레이, 미래형자동차, 지능형로봇, 차세대전지순으로나타났다. 1 2 차세대성동력산업의기술별다출원 1위는디스플레이의 LG전자, 미래형자동차의현대자동차, 지능형로봇의삼성전자, 차세대전지의삼성 SDI, 차세대반도체의하이닉스반도체로나타났다. 3 차세대성동력산업의다출원국가순위는한국, 일본, 미국, 독일순이며, 각순위간격차가매우큰것으로나타났다. Ⅰ 기술별내 외국출원점유율을살펴보면, 미래형자동차와지능형로봇이전체특허에비해내국인출원점유율이높은것으로나타났다. Ⅱ 기술별세부기술별특허동향 차세대성동력산업기술분야마다세부기술별로출원동향을살펴보면, 169

187 3 기술별특허동향 - 디스플레이산업은 LCD 분야가출원점유율이가높고, 성폭도큰것으로나타났다. - 미래형자동차산업에있어서출원점유율은지능형자동차가가높고, 상대적연평균증가율은내 외국모두연료전지, 하이브리드형자동차, 지능형자동차순으로높게나타났다. - 지능형로봇산업에있어서출원점유율은조업용로봇이가높고, 상대적연평균증가율은국내출원의경우네트워크로봇과개인서비스용로봇이매우높은것으로나타났다. - 차세대전지의경우출원점유율이가높은전자정보기기용전지의출원건수증가가 1996년이후큰폭으로급격히증가하고있는것으로나타났다. - 차세대반도체산업의경우반도체공정과 SoC가거의유사한출원점유율을보이고있으며, 두개의기술모두연도별출원건수가매우가파르게증가하는것으로나타났다. 170

188 한국의특허동향 2005 Ⅰ. 특허정보의개요

189

190 2. 공개 ( 등록 ) 특허공보의특징 1 특허정보의발생 국내특허정보는통상적으로다음과같은절차를통해발생 - 출원 : 특허청에발명의내용을일정한양식을통해출 - 출원공개 : 특허출원의내용을일정기간경과후공개특허공보에게재하여일반인에게공개 - 특허등록 : 특허로서적합한지부적합한지를판단하는심사관의심사, 등록료납부와설정등록에의해특허권이발생 발명 출원 출원공개특허등록 특허출원일로부터 1 년 6 개월이경과한후 기술의변화를반영하는데이터심사 기술력을반영하는데이터 < 그림 1> 특허정보의발생흐름도 공개 ( 등록 ) 특허공보의특징 3 공개 ( 등록 ) 특허공보는국적으로정보형태가통일되어있는 INID코드 54) 를사용함으로서형식이표준화되어있고정보가공이비교적용이하며, 국간특허출원관계까지파악할수있는점이있다. INID 코드형식에따라공개공보상단부에는서지사항부라고하는기술분류정보, 번호관련정보, 발명자및출원인 ( 특허권자 ) 관련정보가기재되어있으며, 각각의정보의구체적인설명은다음과같다. Ⅰ Ⅱ 54) INID (Internationally agreed Numbers for Identification of Data) Code : 국적으로합의된데이터표기방법으로정보표기형태가통일됨. 특허등록공보도동일, WIPO(1998) "HANDBOOK INDUSTRIAL PROPERTY INFORMATION AND DOCUMENTATION" 173

191 Ⅰ 특허정보의개요 < 그림 2> 공개특허공보예시 2.1 기술분류정보 기술분류정보는국특허분류 55) 를기준으로작성된것으로서, 출원된특허의내용을기술별로분류하여특허정보분석이가능하게된다. 선진각국은국가별로갖고있는고유한기술분류형태 56) 와국특허분류를혼용하여사용하는경우도있다. 55) 국특허분류 (IPC, International Patent Classification) : 특허문헌에대해국적으로통용되는기술분류체계로, 1954 년국특허분류유럽조약에의해성립하였고세계지적재산권기구 (WIPO) 의대표등이참가하여 1968 년 9 월정식으로발효됨 174

192 2. 공개 ( 등록 ) 특허공보의특징 < 표 1> 에서나타난기술분류 A43B 5/02 는축구화에대한분류예로서다음과같이점층적으로세분화되어분류가이루어지고있다. 축구화는의복과같은생필품에속하고, 구두, 운동화등의신발류에속하며, 테니스화등과같은스포츠용품의축구화로분류된다. < 표 1> 기술분류의예 구분섹션클래스서브클래스메인그룹서브그룹비고 표기형태 A~H 2 자리숫자 1 자리영문대문자 1~3 자리숫자 2 자리이상의숫자 그룹전체 구성개수 ,932 59,759 예 : 축구화 A ( 생필품 ) 43 ( 신발류 ) B ( 신발류의특징 ) 5 / 02 ( 스포츠용품 )/( 축구화 ) 66, 번호관련정보 번호관련정보는특허출원이법적절차를이행하면서발생되는문서번호와일자로서공개 ( 등록 ) 번호, 출원번호, 국출원번호, 우선권주번호, 공개 ( 등록 ) 일자, 출원일자, 국출원일자및우선권일자등에관한정보를포함하고있으며, 특허의역사에관한정보 57) 라고표현할수있다. 2 3 우선권주번호는우선권도에의해발생하는문서번호로서먼저특허출원 ( 선출원 ) 을한후나중에특허출원 ( 후출원 ) 시우선권주을하면후출원에대한발명시점을 선출원일자로보아주는원칙에의해발생한다. 56) USPC(US patent classification) : 미국자체적으로만든특허문헌에대한기술분류체계로서 1831 년부터사용되어왔으며, 450 여개의클래스와 15 만여개의서브클래스로기술분류가세분화되어있음. FI(File Index) 와 F-term(File forming Term) : 일본은 1978 년부터국특허분류를채택하여사용해오다가특정분야의특허문헌이집중되는현상을해결하기위해더욱세분화된분류체계로서 FI 와 F-term 을사용함. 57) 정성창 (2002), 정보분석기법 발표에서특허문헌의정보요소에대하여발명의기술적특성에관한정보, 특허출원의역사에관한정보, 발명의개발에관한정보로나누어설명 Ⅰ Ⅱ 175

193 Ⅰ 특허정보의개요 2.3 발명자및출원인정보 발명자정보는발명자의성명및주소를통해주요기술분야에대한연구활동및기술의이동상황에대한분석이가능하다. 출원인 ( 특허권자 ) 정보는주체에따라기업, 공공기관, 대학, 민간비영리기관및개인으로구분하여연구주체에대한분석과주요기업의특허활동이파악가능하다. 그런데, 출원인 ( 특허권자 ) 에대한표기는문서작성시기및상황에따라동일한출원인이다양한방법으로표현되고있다. 따라서특허통계분석을하기위해명칭을표준화하는작업이필요하며, < 표 2> 에표준화과정을나타내었다. < 표 2> 표준화작업의예시 단계구분 설명 대표적 예시 최초출원인명예비표준화표준화 원문에기재된표기의다양성 삼성전자주식회사삼성전자주식회사삼성전자주식회사삼성전자 소니가부시끼가이샤소니가부시끼가이샤소니가부시기가이샤소니가부시끼가이샤소니가부시키가이샤쏘니가부시기가이샤소니가부시키가이샤소니가부시기가이샤소니주식회사소니주식회사 로베르트보쉬게엠베하로베르트보쉬게엠베하로베르트보쉬게엠베하 (Robert Bosch GMBH) 로베르트보쉬게엠바하로베르트보쉬게임베하로베르트보슈게엠베하 시바가이기에이지시바가이기아게시바 - 가이기아게시바 - 가이기에이지시바가이기아크티엔게젤샤프트시바가이기악티엔게젤샤프트시바가이기에이쥐 공백및회사표시어를거한후코드부여 삼성전자 (B005930) 소니 (G012018) 쏘니 (G012018) 로베르트보쉬 (G001555) 로베르트보슈 (G001555) 시바가이기 (G019972) 표준화된용어로대표명화 삼성전자 소니 ( 가 ) 로베르트보쉬 (GMBH) 시바가이기 (AG) 176

194 2. 공개 ( 등록 ) 특허공보의특징 2.4 지역별명칭통일화및세분화 지역별특허출원경향을파악하기위해 2001년 6월 1일현재까지의 지방행정구역연혁 58) 및 2005년지방자치단체의행정구역및인구현황 을고려하여광역자치단체 16개와기초자치단체 234개로구분하여출원인및발명자의주소지를 < 그림 3> 과같이정비하였다. 서울특별시 : 코드 A 강남구 : 코드 A01 부산광역시 : 코드 B 강동구 : 코드 A02 대구광역시 : 코드 C 강북구 : 코드 A03 주소지별코드부여 인천광역시 : 코드 D 광주광역시 : 코드 E 중간생략중간생략남주군 : 코드 R04 종로구 : 코드 A23 중구 : 코드 A24 중랑구 : 코드 A25 주시 : 코드 R 전라남도 : 코드 O 경상북도 : 코드 P 경상남도 : 코드 Q 서귀포시 : 코드 R02 북주군 : 코드 R03 Ⅰ 주도 : 코드 R < 그림 3> 주소지별코드부여방법 Ⅱ 58) 지방행정구역연혁 : 발간등록번호 , 1948 년 8 월 15 일정부수립당시부터 2001 년 6 월 1 일현재까지의행정구역변천과정수록 177

195 Ⅰ 특허정보의개요 2.5 연구개발주체별분류및코드부여 한국의특허통계를국가연구개발정책과연계하여활용하기위해과학기술부의연구개발주체구분방법을준용하여출원인을크게내국인과외국인을구분하였고이중내국인은기업, 공공기관, 대학, 비영리기관및개인으로분류하였다. 외국인은법인과개인의구별이어려워외국인으로통합하여관리하였다. 내국인출원인을연구개발주체별로분류한기준을살펴보면, 기업은거래소상기업, 코스닥등록기업및3시등록기업, 기타기업으로세분류하고각각의기준은 2005년 1월 31일까지상및등록된기업으로하였다. 공공기관은정부, 정부출연연구기관, 국공립시험연구기관으로세분류하고, 각각기준은정부의경우 18부 4처 17청 ( 현재 ) 59), 정부출연연구기관은 정부출연연구기관등의설립육성에관한법률 에시된기관, 국공립시험연구기관은기타정부산하연구기관및자치단체산하연구기관으로하였다. 기타비영리기관은민법 32조 ( 비영리재단법인설립 ) 의규정또는기타특별법에의해설립된기관 ( 연구조합, 협회, 학회등 ) 으로하였고, 개인은개인출원인으로하였다. 연구개발주체 기업 공공기관 대학 기타 거래소 상기업 코스닥 등록기업 3 시등록기업 기타 기업 정부 정부출연연구기관 국공립시험연구기관 국공립대학교 사립대학교 기타 비영리기관 개인 < 그림 8> 연구개발주체별분류 59) 2004 년 6 월 1 일소방방재청신설로 2004 년 12 월현재 18 부 4 처 17 청임 178

196 3. 특허통계관련연구동향 3 특허통계관련연구동향 특허통계를경와연관시켜활용하는시도는 Schmookler로부터시작되었다 60). Schmookler의연구는당시 (1966년) 에매우방대한특허통계를수작업으로다루기에한계가있으나, 오늘날에는컴퓨터기술의발전에힘입어전세계여러경학자그룹 61) 에서특허통계의경적해석에대한연구가활발하게진행되고있다. 3.1 R&D 와특허의상관관계연구 Hall 등 62) 은 R&D 와특허의상관성에대한연구를통해특허출원증가의원인 중하나로써 R&D 비용의증가가일부차지하고있음을지적하였고, Griliches 63) 도특허통계가비록불완전한단점을지니고있으나 R&D 결과에대한측정치로서유효한것으로기술하고있다. 국내에서는윤문섭 64), 김기국 65) 및권용수 박병무 66) 등은특허지표의이론적배경과선진국의활용현황을파악하고, 지식기반경와과학기술체계내에서과학기술의투입대비산출분석에서특허지표를이용하여연구하였으며, 박동현외 2인 67) 은국내특허출원및등록통계를이용하여경기침체에따른산업재산권출원전망에대한연구를수행하였다 ) Jacob Schmookler, Invention and Economic Growth (1966 년 ), 1800 년부터 1957 년사이에등록된특허건수와고용상품등경자료를이용하여특허와경의상관관계분석을시도하였고, 이로써특허된발명의 50% 가상업적혁신에기여하고있음. 61) NBER group(hall, Griliches, Jaff, Hausman, Schankerman, Pakes 등 ), Yale group(nelson, Levin, Windter, Klevorick, Cohen, Reiss 등 ), SPRU group(freeman, Pavitt, Soete 등 ) 이대표적 62) Hall, Brownyn, Zvi Griliches and Jerry Hausman, "Patents and R&D : Is there a Lag?" International Economic Review, vol. 27, pp (1986 년 ) 63) Griliches, Z., "Patents Statistics as Economic Indicators : A Survey", Journal of Economic Literature. Vol. 18, No. 4, p1669(1990 년 ) 64) 윤문섭, 과학기술체계분석을위한특허지표의활용방법, 과학기술정책동향 (1996 년 ) 65) 김기국외, 국가과학기술통계지표도의구상, 과학기술정책관리연구소 (1998 년 ) 66) 권용수 박병무, 지식기반중심의과학기술력지수개발에관한연구, 과학기술정책연구원 (2000 년 ) 67) 박동현 이원태 하홍준, 경기침체에따른산업재산권출원전망에대한연구, 지적재산권연구소 (1998 년 ) Ⅰ Ⅱ 179

197 Ⅰ 특허정보의개요 3.2 국가경쟁력연구 최근들어특허통계를국가경쟁력지표로활용하는예가증가하고있으며, 그대표적인 예로써미국상무성, 일본문부과학성, NSF( 미국과학재단 ) 등이있다. 미국상무성은국가또는국가간특허에대한연구및정책활동등에대한보고서로서미국에등록된특허를 5개분야로나누어미국의기술경쟁력을타국과비교한경쟁보고서를발행하였으며, 국가간기술력을분석하면서한국과대만을혁신국가로지목하고있다 68). 일본문부과학성은연구개발비투자를위해과학기술전반에대한전문가의견, 미국특허및논문분석을이용하여국가경쟁력을비교한결과, 미래기술분야 ( 지놈과학, 신경과학, 뇌과학, 바이오인포매틱스등 ) 에서일본이열세인것으로파악되었다 69). NSF( 미국과학재단 ) 는특허정보통계분석을활용한과학기술지표의내용을포함하고있는보고서를격년으로발행하고있다 70). 개별국가의특허를분석하여국가경쟁력을분석한사례는다음과같다. Trajtenberg(1999년 ) 71) : 미국내이스라엘특허를이용하여이스라엘의기술혁신을확인 호주의 ARC( 호주연방연구심의회 ) 와 CSIRO( 호주연방과학산업연구협회 ) 가주관되어호주의국가경쟁력을분석 72) 68) 미국상무성, The New Inventors : Global Patenting Trends in Five Sectors (1998 년 ) 5 개분야 : 보건 (Health), 첨단소재 (Advanced materials), 자동차 (Automobiles), 정보기술 (IT), 특송 (EPTL : Express Package Transportation and Logics) 69) 일본 미국 유럽연구개발 2001 (2000 년 ), 2 차과학기술기본계획 (2001~2005 년 ) 에서연구개발비총 24 조엔투자를위한과학기술분석에서활용함 70) 미국과학재단에서작성하는 Science & Engineering Indicator 는미국의과학기술정책수립을위한지표로활용됨. 71) Trajtenberg, M., Innovation in Israel : A Comparative analysis using patent data" 72) Narin, F., Albert, M., Kroll, P. and Hicks, D., "Inventing Our Future : The Link Between Australian Patenting and Basic Science", CHI Research, Inc.(2000 년 ) 180

198 3. 특허통계관련연구동향 국내연구자료에는왕윤종 (1993년) 73), 이상철 (1997년) 74), 김인수 (1997년) 75), Lee and Lim(2001) 76) 은미국특허등록통계또는국내특허출원및등록통계와다른경변수를이용하여국화, 기술경쟁력, 화학산업의발전등을설명한바있으며, 정성창등 (2001년) 77) 은특허통계를이용하여한국과대만의연구개발활동을분석하였다. 특정산업이나특허시스템을고찰한연구들은특허통계를활용하고있으나, 그들 연구대부분은특허통계에대한실증적또는이론적연구라고하기보다는그연구의 본질적인문를설명하기위한보조적인도구로서특허통계를사용하였다. < 표 3> 10 회국가과학기술위원회 기술혁신역량강화를위한특허정보활용 확산방안 보고내용 추진방안 연구개발정책수립등에특허정보활용체계구축 연구개발사업추진시특허정보조사활용권고 국가연구개발사업에대한특허심사결과환류체계구축특허정보인프라확대및이용활성화지원 세부내용 특허정보조사분석보고서발간및국과위에연 1 회정례보고및중앙행정기관에공 국과위및중앙행정기관은특허정보조사 분석결과를정책에활용 연구개발사업기획단계에서특허정보조사실시 연구과및세부과선정시선행특허조사활성화 각부처의연구관리규정에특허정보활용에관한내용반영 국가연구개발과의결과물로출원된특허에대하여심사결과를관련중앙행정기관으로환류할수있도록도화 심사정보의효율적환류를위해관련된시스템간연계추진 특허기술정보무료서비스확대 연구수행자의특허정보조사능력향상을위한교육지원 특허정보조사전문기관육성 Ⅰ 73) 왕윤종, 지적재산권국화의방향과과, 대외경정책연구원 (1993 년 ) 74) 이상철, 화학섬유산업의기술혁신과기술능력의발전, 한국산업의기술능력과경쟁력 이근외편저, 경문사 (1997 년 ) 75) 임윤철 이호선 ( 역자 ), 모방에서혁신으로 (Imitation to Innovation), 역자시그마인사이트 (1999 년 ), 원저 : Kim Linsu, "Imitation to Innovation", Harvard Business School Press(1997 년 ) 76) Lee Keun and Lim Chaesung, "Technological Regimes, Catch-Up and Leapfrogging : Findings from the Korean Industries", Research Policy, Vol. 30, No. 3, pp (2001 년 ) 77) 정성창 이근, 특허통계를이용한한국과대만의연구개발활동분석, 지식정보혁명과한국의신사업 이슈투데이 (2001 년 ) Ⅱ 181

199 Ⅰ 특허정보의개요 < 표 4> 연구개발주체의분류기준 연구개발주체 분류기준 거래소상기업 1956 년 3 월 3 일개후상된모든거래소상기업 코스닥등록기업 1996 년 7 월 1 일개설후등록된모든코스닥기업 기업 3 시등록기업 2000 년 3 월 27 일개설후등록된모든 3 시기업 기타기업 상및등록기업이외의기업 정부 2005 년 1 월기준 18 部 4 處 17 廳기준 공공 기관 정부출연연구기관 국 공립시험연구기관 정부출연연구기관등의설립육성에관한법률 에시된기관 정부와정부출연연구기관을외한정부산하연구기관및자치단체산하연구기관 대학 국공립대학교 4 년대학은 2002 년 4 월, 전문대학은 2001 년 7 월교육인적자원부자료기준 사립대학교 분류기준은국공립대학교와동일 기타 비영리기관 민법 32 조 ( 비영리재단법인설립 ) 의규정또는기타특별법에의해설립된기관 ( 연구조합, 협회, 학회등 ) 개인 182

200 3. 특허통계관련연구동향 < 표 5> 연도별통계분석데이터현황 구분 번호관련 권리자관련 기술관련 우선권관련 데이터필드 공개 등록 출원번호 출원년도 공개번호 공개년도 등록번호 등록년도 국가코드 출원인 복수출원인 출원인코드 출원인주소지 소유권자 복수소유권자 소유권자코드 소유권자주소지 IPC 주분류 IPC 부분류 우선권주번호 우선권주국가 우선권주년도 청구항관련공개청구항수 등록청구항수 기술이전관련 발명자 기타 권리이전번호 권리이전양수인 권리이전설정일 실시권번호 실시권양수인 실시권설정일 발명자 발명자국적 발명자주소지 심사청구일자 등록소멸일자 국출원여부 권리분쟁 Ⅰ Ⅱ 주 ) 1. 공개및등록특허데이터는공보를기준으로작성되었음 는관련없음, 는분석불가능, " " 는분석가능으로구분. 183

201 Ⅰ 특허정보의개요 < 표 6> WIPO 기준 32 개기술분류표 (7 판기준 ) 대분류 (Section) 구분 중분류 (Subsection) 소분류 (Class) 기술설명 1 농수산 A01(A01N외 ) 농업, 임업의농기구, 원예, 축산등 생활 2 식료품 A21~A24 빵, 유품, 사료, 담배조등 필수품 3 가정용품 A41~A47 의복, 신발, 가정용구등 (A) 4 의료 / 레져 A61~A63(A61K외 ) 진단, 간호용품, 수술비, 완구류, 스포츠용품등 5 의약 A61K(Subclass) 의약용, 치과용, 화용 6 분리 / 혼합 B01~B09 오염물분리, 화학 물리실험치, 노즐등 7 금속가공 B21~B23 금속압연, 선재가공, 단조, 주형, 밀링등 8 비금속가공 B24~B32(B31외 ) 연마, 부속공구, 플라스틱 목재 석재성형등 운수 (B) 9 인쇄 B41~B44 프린터, 인쇄, 책, 필기용기구등 10 운송 / 포 B60~B64 B65~B68 자동차, 철도, 자전차, 선박, 항공, 물품포, 엘리베이터등 11 초미세기술 B81~B82 마이크로 나노기술등 12 무기화학 / 수처리 C01~C05 비금속, 알카리금속화합물, 페수처리, 비료등 13 유기화학 C07 A01N(Subclass) 유기화학치, 비환화합물, 농약등 화학 14 고분자 C08 다당류, 고무처리, 고분자화합물등 (C) 15 석유 / 정밀화학 C09~C11 페인트, 접착, 가스, 석유처리, 주류조등 16 바이오 C12~C14 효소학, 미생물학, 발효학, 당의조, 피혁등 17 야금 / 도금 C21~C23 C25 C30 철조, 금속조, 도금등 섬유 18 섬유 D01~D07 섬유처리, 인조사, 직물, 봉, 세탁기, 건조기, 염색등 (D) 19 지 D21, B31 종이조, 펄프상자, 포대류등 건축토목 (E) 20 건설 E01~E06 도로, 교량, 상하수설비, 건축구조등 21 광업 E21 지중굴착, 채광, 채석등 22 엔진 / 펌프 F01~F04 터빈, 내연소기관, 펌프등 기계 (F) 물리 (G) 전기 (H) 23 기계부품 F15 F16 F17 브레이크, 클러치, 밸브, 관, 윤활등 24 조명 / 가열 F21~F28 조명치, 보일러, 냉고, 에어콘등 25 무기 / 폭발 F41 F42 C06 총기류, 화약, 폭발물등 26 측정 / 광학 G01~G03 측정치, 안경, 사진, 필름등 27 컴퓨터 G04~G08 시계, 어계, 계산기, 컴퓨터, 자판기, 교통어치등 28 정보매체 G09~G12 표식, 광고, 악기, 동적 정적저매체등 29 원자력 G21 원자로, 방사선등 30 전기 / 반도체 H01 H02 H05 케이블, 전자부품, 반도체치, 발전기, PCB 기판등 31 전자 / 통신 H03 H04 증폭기, 유무선통신, 텔레비전등 32 기타 184

202 한국의특허동향 2005 Ⅱ