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3 목차 차례 제 1 장서론 / 1 제 1 절배경및목적 3 제 2 절분석범위및분석틀 3 제2장주요분석내용 / 9 제1절국가별특허동향 11 제1.1절내외국인별특허동향 11 제1.2절주요국가별특허동향 18 제1.3절연구주체별특허동향 23 제 2 절지역별특허동향 36 제 3 절기술분야별특허동향 41 제 4 절산업분류별특허동향 45 제 5 절특허권리분쟁 49 별첨 / 한국의특허동향 i

4 목차 표목차 < 표 1> 산술평균과기하평균의예 7 < 표 2> 산업분류에따른주요국가의특허동향 47 < 표 3> 특허권리분쟁의연구주체별현황 50 < 표 4> 기술및산업분야의권리분쟁현황 51 그림목차 < 그림 1> 연도별특허출원건수및출원인수동향 11 < 그림 2> 내 외국법인및개인의특허출원동향 12 < 그림 3> 내 외국인의연도별출원점유율 13 < 그림 4> 기술분류별내 외국인의선택과집중 14 < 그림 5> 내 외국인의심사청구기간에따른비율 15 < 그림 6> 연도별심사청구비율및연도별심사청구대비등록율 16 < 그림 7> 내 외국법인및개인의심사청구대비등록율 17 < 그림 8> 주요국가의점유율및연평균증가율 18 < 그림 9> 주요국가의심사청구비율및심사청구대비등록율 19 < 그림 10> 주요국가의 1특허당청구항수및발명자수 20 < 그림 11> 주요국가의 Top10 출원인의점유율 21 < 그림 12> 한국과일본의 Top10 출원인 21 < 그림 13> 미국과독일의 Top10 출원인 22 < 그림 14> 네덜란드와프랑스의 Top10 출원인 22 < 그림 15> 연구주체별특허동향 23 < 그림 16> 기업의특허동향 24 < 그림 17> 대기업다출원 Top20의특허동향 25 < 그림 18> 중소기업다출원 Top20의특허동향 26 < 그림 19> 중앙정부기관의특허동향 27 < 그림 20> 지지방자치단체의특허동향 28 ii The Patent Trend in Korea 2009

5 목차 < 그림 21> 준정부기관의특허동향 29 < 그림 22> 공기업의특허동향 30 < 그림 23> 기타공공기관의특허동향 31 < 그림 24> 대학의특허동향 32 < 그림 25> 기타법인의특허동향 33 < 그림 26> 연구주체별발명자의성별비율 34 < 그림 27> 연구주체별발명자의연령대비율 35 < 그림 28> 광역자치지역의특허동향 36 < 그림 29> 광역자치지역의특허생산성 37 < 그림 30> 광역자치지역의중점연구기술분야 38 < 그림 31> 광역자치지역의중점산업분야 39 < 그림 32> 광역자치지역의연구주체별점유율 40 < 그림 33> WIPO 35개기술분류의특허동향 41 < 그림 34> WIPO 35개기술분류의연평균증가율 42 < 그림 35> 주요국가의선택과집중 43 < 그림 36> 5대기술분야의연구주체및 Top5 출원인의점유율 44 < 그림 37> 산업분류의점유율 Top30 리스트 45 < 그림 38> 산업분류별연평균증가율상위및하위분야 46 < 그림 39> 연구주체별다출원상위산업분류의점유율 48 < 그림 40> 특허권리분쟁의유형별동향 한국의특허동향 iii

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7 제 1 장서론 제 1 절배경및목적 제 2 절분석범위및분석틀 2009 한국의특허동향 1

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9 제 1 절배경및목적 제 1 절배경및목적 미국, 일본등선진국들은정책수립자, 기업의사결정권자, 연구원및학자들의연구와정책개발을위해산업동향을신속하고구체적으로파악할수있는산업통계시스템을구축하고있다. 산업통계중특허통계는연구개발활동과의밀접한관련성, 다양한기술분야에걸친신기술정보의제공은물론접근용이성등을이유로기술혁신의성과를측정하는중요한과학기술지표로인식 1) 되고있으며, 선진국은특허통계를산업정책결정에있어주요한정보자료로활용하고있다. 이에특허청은한국특허통계 DB 등의특허정보활용 확산을위한인프라를구축하고, 이를활용하여국가과학기술정책및기업의경영전략수립시전문가검토 (Peer Review) 에의존하던기존의방식을보완할수있도록최신의특허기술정보가포함된특허통계분석결과를제공함으로써보다객관적이고합리적인의사결정을지원하고자본사업을실시하게되었다. 제 2 절분석범위및분석틀 1. 데이터범위및분류기준본특허통계는 2000년 1월 1일부터 2008년 12월 31일까지출원번호가부여된국내특허 1,244,635 건을대상으로분석하였다. 기술분류는 WIPO에서정한 35개기술분류 2) 를기준으로분석을수행하였고, 산업분류는 61개산업분류 3) 를기준으로하였다. 한국의특허동향 2009 에서는특허를연구주체별로크게, 내국법인, 내국개인, 외국법인, 외국개인으로나뉘었으며, 내국법인은기업, 공공기관, 기타법인으로다시구분되며, 연구주체의세부분류구분기준은별첨의표2 에제시되었다. 1) Compendium of Patent Statistics 2004, OECD. 2) < 별첨 1> 참조. 3) < 별첨 2,3> 참조 한국의특허동향 3

10 제 1 장서론 2. 보고서의주요내용본보고서는기술개발의동향을파악하기위하여 2000년 ~2008 년까지출원된특허를대상으로하여분석을실시하였다. 본보고서의주요분석내용은다음과같다. 제1절은국가별특허동향으로서, 외국인이국내기술시장의선점을위해국내시장에진입하는동향등을살펴보았다. 또한연구주체별주요출원인의동향을살펴보았다. 제2절에서는지역의특허동향으로서, 발명자정보를활용하여주요연구개발의거점을추적하고, 특허생산성을비롯하여선택과집중을하고있는지역전략기술및산업에대한동향을살펴보았다. 제3절에서는기술분야의특허동향으로서, WIPO에서정한 35개의기술분류및 5대기술분야로특허동향을살펴보았다. 제4절에서는산업분류에따른특허동향으로서, 특허문헌에없는산업분야에대한정보를 IPC 산업분류확률표를이용하여특허기술에따른산업분야의동향을살펴보았다. 제5절에서는 2000년 ~2008 년동안출원된특허중 2008년까지심판청구된특허를대상으로, 연구주체및주요국가의권리분쟁현황을살펴보았다. 3. 분석항목본사업에서는특허를통해기술개발의흐름을출원건수, 증가율및점유율을통해살펴보았고, 국가나기업의기술개발전략및선택과집중하는기술을발굴하기위해특허활동지수 (Activity Index, AI) 또는현시특허우위지수 (RPA, Revealed Patent Advantage) 를활용하였다. 본사업에사용된각종분석지표들은다음과같다. 1 특허출원건수 : 특허출원건수는한국에출원된특허건수를나타내며, 특허통계에서가장기본적인통계지수이다. 특허건수는연구개발활동에대한성과를측정하거나시계 4 The Patent Trend in Korea 2009

11 제 2 절분석범위및분석틀 열적 ( 연도별 ) 으로기술혁신에대한동향분석에사용하고있다. 4) 출원인이 2 이상일때출원건수를산출하는방법에는제1출원인기준, 복수가산법및분율가산법등세가지가있다. 첫째, 제1출원인기준은일반적으로발명에가장많은기여를한출원인이첫번째라는가정하에제1출원인정보를기준으로분석을수행한다. 둘째로복수가산법에서는, 각출원인에대하여특허 1건을가산한다. 이방법을사용하는경우출원인별특허건수의합계는전체특허건수를초과한다. 분율가산법은각출원인에게출원인수의비율을가산한다. 즉출원인이둘이라면각출원인에게 0.5건으로가산한다. 5) 2 청구항수 : 특허가평균적으로몇개의청구항을포함하는지또는청구항수가얼마인가로산출한다. 청구항은특허권으로보호받을수있는발명구성요소로서청구항의수는혁신의규모 (size of an innovation) 를의미한다. 조지워싱턴대학의 Tong과 Frame 교수는국가단위의기술혁신성과를평가시청구항수가특허건수보다더유용하다는결과를발표하였다. 6) 3 출원인수 : 해당기술분야에서기술혁신활동을수행하는주체가얼마나많은가를나타낸다. 이는특허출원건수와함께해당기술의시장현황을파악할수있는지표로사용된다. 7) 4 평균발명자수 : 특허가평균적으로몇명의발명자로이루어져있는가를산출한다. 이는특허기술을완성하는데기여한발명자의수를의미하며, 일반적으로발명자가많은특허일수록해당기술에대한투자가높은것으로해석된다. 특히, 기업에서는발명자가많은특허일수록해당분야의연구에많은연구원이투입된것으로파악된다. 따라서기업은해당연구분야에집중적으로투자하는것으로해석가능하다. 8)9) 4) Y. Okubo (1997), Bibliometric Indicators and Analysis of Research Systems: Methods and Examples, STI Working Papers 1997/1,OECD 5) OECD(1994), Using Patent Data as Science and Technology Indicators - Patent Manual 1994, OECD/GD(94) p 14 ; H. Dernis and M. Khan(2004), Triadic Patent Families Methodology, STI Working Paper, 2004/2, OECD. ; OECD(2004), Compendium of Patent Statistics ) X. Tong and J.D. Frame (1994), Measuring national technological performance with patent claims data, research policy, vol. 23, pp ) 일본특허청 (2000), 기술분야별특허맵활용가이드북 p 8. 8) M. Reitzig (2002), Improving Patent Valuation Methods for Management Validating New. Indicators by Understanding Patenting Strategies, LEFIC WP Sampleindicators. 9) E. Sapsalis, B. P. Potterie, R. Navon (2006), Academic versus industry patenting: An in-depth analysis of what determines patent value, research policy, vol. 35, pp 한국의특허동향 5

12 제 1 장서론 5 특허우위지수 (Revealed Patent Advantage, RPA) : RPA는 AI(Activity Index) 를정규화 (normalized) 한것이다. AI는특정국가나기업등이해당기술분야에서차지하는점유율을전체에서해당기술분야가차지하는점유율로나눈값으로산출한다. 이지수를통해특정산업 ( 기술 ) 분야에서경쟁국가또는기업에비해상대적으로얼마나집중하고있는가를파악할수있다. 이지수값은 -100에서 100까지의범위를가지며, 지수의크기가 0보다큰경우는해당분야에상대적으로집중하고있고, 0보다작은경우는해당분야에상대적인집중이낮다고판단한다. 10) AI와 RPA의구하는방법은다음과같다. 특허활동지수 특정기술분야의특정출원인특허수특정출원인특허수특정기술분야의전체특허수 전체특허수 6 연평균증가율 : 기간을구간으로구분하여증가율을구할때사용된다. 기하평균은인구증가율이나경제증가율을구할경우적용되는것 11) 으로서구하는식은다음과같다. G(%)= [{(1+g 1 )(1+g 2 ) (1+g n )} 1/n - 1] 100 구간 : n, 각구간의증가율 : g, 연평균증가율 : G < 표 1> 은산술평균과기하평균의차이점을나타내었다. 산술평균의경우 381.1% 로크게증가하였으나, 기하평균은 -32.9% 로나타나고있다. 건수는실제로감소하였으나산술평균은오히려증가한것으로나타났다. 이로써, 산술평균은기하평균에비해극단적인변화시큰오차가발생하므로본연구에서구간별연평균증가율은기하평균을사용하였다. 10) H. Grupp (1994), The measurement of technical performance of innovations by technometrics and its impact on established technology indicators, vol 23, pp ) ( 기준 ) 6 The Patent Trend in Korea 2009

13 제 2 절분석범위및분석틀 < 표 1> 산술평균과기하평균의예 구분 1996년 1997년 1998년 1999년 특허출원건수 8,885건 3,865건 195건 2,720건 증가율 -56.5% -95.0% 1,294.9% 연평균증가율 산술평균 ( )/3 = 381.1% 기하평균 {(( )(1-0.95)(1+12.9)) (1/3) - 1} 100 = -32.9% 7 상대적증가율 : 증가율을상대적인수치로살펴보기위한지표로서, 평균보다높게증가하는지낮게증가하는지를살펴본다. 12) 0보다크면연평균증가율이상대적으로높은것으로나타낸다. 구하는방법은다음과같다. : 상대적증가율 : 특정출원인의증가율 : 전체증가율 12) F. Narin, M. Albert, P. Kroll, and D. Hicks (2000), Inventing our future -The link between Australian patenting and basic science, CHI Research, Inc., p 한국의특허동향 7

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15 제 2 장주요분석내용 제 1 절국가별특허동향 제1.1절내외국인특허동향제1.2절주요국가특허동향제1.3절연구주체별특허동향 제2절지역별특허동향제3절기술분야별특허동향제4절산업분류별특허동향제5절특허권리분쟁 2009 한국의특허동향 9

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17 제 1 절국가별특허동향 제 1 절국가별특허동향 제1.1절내외국인의특허동향 연도별출원동향 2000년 ~2008년까지출원번호가부여된특허 1,244,635 건의연도별출원동향을살펴보았다. 2003년부터 2005년까지는출원건수가매년 10% 이상증가하였다. 그러나증가세를지속하던출원건수가 2008년에 -1.3% 로첫감소하였다. 분석구간인 2000년 ~2008년까지특허출원의연평균증가율은 6.6% 로나타났다. 국내출원하는내국법인과외국법인의출원인수를살펴보면, 2004년부터두드러진증가세를유지하고있다. 국내출원이라는홈그라운드어드밴티지와, 기술경쟁시대의특허권확보전략이다양한내국법인의출원활동을유도하여내국법인과외국법인의출원인수의격차가최근에더욱확대되고있는것으로나타났다. 1. 제 1 출원인국적 ( 출원인국적없는특허는제외 ) 및연구주체기준 < 그림 1> 연도별특허출원건수및출원인수동향 2009 한국의특허동향 11

18 제 2 장주요분석내용 내외국법인및내외국개인의출원동향을살펴보면, 내국법인이연평균 8.1% 의증가율로특허출원을주도하고있는것으로나타났다. 내국법인은 2003년부터출원량을급격히늘이기시작했으며, 2006년을기점으로감소하는것으로나타났다. 내국개인은연평균 4.8% 의증가율로 2008년까지지속적으로증가하고있다. 2008년에는내국개인을제외하고, 내국법인이 -3.2%, 외국법인이 -1.5%, 외국개인이 -0.8% 의증가율을나타내며, 전체적으로출원건수가 1.3% 감소한것으로나타났다. 1특허당청구항수를살펴보면, 외국법인과외국개인이각각평균 17.5항과 15.9항으로, 내국법인과내국개인각각평균 7.7항과 4.8항인것에비해 2배이상의청구항수를기재하여출원하고있다. 그러나, 내국법인과내국개인의 1특허당청구항수는지속적으로증가하여 2008년에는각각 9.4항과 5.6항을 1특허당청구하고있는것으로나타났다. < 그림 2> 내외국법인및개인의특허출원동향 12 The Patent Trend in Korea 2009

19 제 1 절국가별특허동향 내외국인간의출원점유율을살펴보면, 2000년 ~2008년까지내국인 : 외국인의출원점유율은 75%:25% 의약 3:1 정도의비율을나타내고있다. 2000년 ~2008년내내출원점유율은내국법인 > 외국법인 > 내국개인 > 외국개인순으로나타났다. 내국법인은분석구간전체평균 57.2% 의점유율을나타내고있으며, 2004년과 2005년에는 60% 이상의점유율을차지하기도하였다. 외국법인은분석구간전체평균 25.2% 의점유율을차지하고있으며, 내국개인은분석구간전체평균 16.9% 의점유율을차지하고있다. 내국법인의출원이많았던 2003~2006 년에외국법인과내국개인의점유율이상대적으로감소하는모습을나타내고있다. 외국개인의점유율은분석구간전체평균 0.7% 에불과하다. 1. 제 1 출원인국적 ( 출원인국적없는특허는제외 ) 및연구주체기준 < 그림 3> 내외국인의연도별출원점유율 2009 한국의특허동향 13

20 제 2 장주요분석내용 내외국인의선택과집중기술분야본분석은 WIPO 기준 35개기술분류중분석기간동안총 5,000 건이상의특허가출원된기술분류를대상으로내외국법인및내국개인의선택과집중, 기술분류를파악하였다. 분석지표로는상대적연평균증가율과특허우위지수 (RPA) 를이용하였다. 내국법인은전기분야인오디오 / 영상, 전기기계 / 에너지, 컴퓨터기술과, 기구분야인광학, 측정기술에선택과집중을하고있는것으로나타났다. 내국법인은화학분야인의료기술, 의약, 화학공학바이오기술, 환경기술, 유기화학기술의집중도는낮으나, 상대적인연평균증가율이높아, 향후집중도가높아질기술분야로분석된다. 외국법인은전기분야인디지털통신과, 화학분야인유기화학, 의약, 기초재료화학, 의료기술, 재료금속학과, 기계분야인기타특수기계기술에선택과집중을하고있는것으로나타났다. 내국개인은기계분야인열처리 / 장치, 공작기계, 기계요소, 기계조작, 기타특수기계와, 기타분야인토목공학, 기타소비제품, 가구 / 게임기술분류에선택과집중을하고있는것으로나타났다. < 그림 4> 내외국인의선택과집중기술분야 14 The Patent Trend in Korea 2009

21 제 1 절국가별특허동향 심사청구기간및등록동향본분석에서특허권획득을위한내 외국인의심사청구기간에따른비율과그에따른등록률을살펴보았다. 내국인의특허는 89% 가출원과동시에심사청구가이루어지고, 특히내국개인의 97.4% 가출원과동시에심사청구를하는것으로나타났다. 외국인의경우에는 48.9% 가 1년이내에심사청구를하며, 3~4년사이에 27.8%, 4년이후에 14.2% 가심사청구하고있는것으로나타났으며, 외국인은출원후사업화시기, 전략적특허의이용등을고려하여심사청구기간을내국인에비해효율적으로폭넓게사용하고있는것으로분석된다. 단, PCT 루트를통한국내출원으로외국인의심사청구기간이늦어지는착시현상이포함될수있다. 13) 1. 제 1 출원인의국적기준 ( 출원인국적이없는특허는제외 ). 2. 심사청구기간에따른비율은 2000~2006 년동안출원된특허대비 08 년까지심사청구완료된특허수의비율로나타냄 < 그림 5> 내외국인의심사청구기간에따른비율 13) 외국에서한국으로특허출원하는방식은크게두가지로 PCT 조약에의한국제출원과파리조약에의한우선권주장출원으로구분된다. PCT 조약에의한국제출원은국제출원일이한국에서의실질출원일로인정되어, 국제출원일과한국에번역문을제출하여국내단계로진입하는국내단계진입일간에차이가발생한다. 그러므로한국에실질출원일로인정되는국제출원일기준으로심사청구기간을산출하면, 국제출원일에서국내단계로진입하는진입일까지포함되어심사청구기간이늦어지는현상이발생한다 한국의특허동향 15

22 제 2 장주요분석내용 내외국인의연도별심사청구비율및연도별심사청구대비등록률을살펴보면, 내국인은연도별심사청구비율이외국인보다높았음에도불구하고연도별심사청구대비등록률은 2003년까지 60% 미만으로외국인에비해낮았으나, 2004년부터내국인의심사청구대비등록률이오르면서외국인보다높은등록률을나타내고있다. 내국인과외국인모두 2003년을기점으로연도별심사청구비율이하락하기시작했으며, 내국인은연도별심사청구대비등록률이 2003년을기점으로증가하는추세를나타내고있으나, 외국인은 2000년이후감소하다가 2006년에다시증가하는추세를나타내고있다. 1. 심사청구대비등록율은 2000~2006 년동안심사청구된특허대비 2008 년까지등록된특허의비율을나타냄 < 그림 6> 연도별심사청구비율및연도별심사청구대비등록율 16 The Patent Trend in Korea 2009

23 제 1 절국가별특허동향 내 외국법인및개인의심사청구대비등록률을살며보면, 심사청구대비등록률 ( 대상구간 :2000~2006 년 ) 은내국법인이 69.2% 로가장높으며, 외국법인은 64.6%, 외국개인은 53.5% 이며, 내국개인은 42.4% 의가장낮은등록률을보이고있다. 연도별심사청구대비등록률에서, 외국법인은 2000년 78.7% 에서 2005년 47.9% 까지계속감소한후 2006년에 67.1% 로다시증가한것으로나타났다. 외국개인은 2000년 58.2% 에서 2005년 41.1% 까지감소하다 2006년 47.9% 로다시증가하는것으로나타났다. 내국개인은 2000년 33.5% 에서 2006년 53.6% 로꾸준히증가하는경향을나타내고있다. 내국법인은 2000년 ~2003 년까지심사청구대비등록률이감소추세를나타낸후, 2004년부터증가하여 70% 를넘는심사청구대비등록률을나타내고있다. 1. 제 1 출원인의연구주체기준 2. 심사청구대비등록율은 2000~2006 년동안출원되어 2008 년까지심사청구완료된특허수의비율과등록된특허수의비율을의미함 < 그림 7> 내외국법인및개인의심사청구대비등록율 2009 한국의특허동향 17

24 제 2 장주요분석내용 제1.2절주요국가의특허동향 주요국가의특허출원점유율및연평균증가율국내출원하는주요국가에대한특허동향을살펴보았다. 주요국가로는일본, 미국, 독일, 네덜란드, 프랑스, 스위스, 영국, 스웨덴, 대만순으로점유율을차지하고있다. 한국을제외한외국국가들사이의점유율은일본이 42.9%, 미국이 26.7% 로, 이양국이국내에출원한 120여개국외국출원건의 69.6% 를차지하고있다. 또한, 위의주요 9개국이외국출원건의 92.7%, 나머지 110 여국가가 7.3% 의출원점유율을나타내고있다. 주요국가의연평균증가율을살펴보면, 점유율이높았던일본과미국은각각 4.6% 로동일한반면, 2008년의증가율은일본이 -4%, 미국은 2.4% 의증가율을나타내고있다 년에주요국가대부분의증가율이감소하거나낮은반면, 출원점유율이 0.5% 에불과한중국은 2008년증가율이 52.1%, 연평균증가율도 33.4% 로최근가장활발한출원활동을나타내고있다. 1. 제 1 출원인국적기준, 2. 점유율은한국을제외한각국가가차지하는비율을나타냄 < 그림 8> 주요국가의점유율및연평균증가율 18 The Patent Trend in Korea 2009

25 제 1 절국가별특허동향 주요국가의심사청구비율및등록률주요국가의심사청구비율은대만이 82.9% 로가장적극적으로심사청구를실시하고있으며, 네덜란드가 51.7% 의심사청구를실시하고있다. 일본은 79.9% 의심사청구비율과함께심사청구대비등록율도 73.6% 로, 특허권의획득을위해적극적이고효율적인특허관리가이루어지고있는것으로판단된다. 네덜란드와마찬가지로영국은심사청구비율도낮고, 심사청구대비등록률도 46.6% 로낮게나타나고있다. 대만은 82.9% 의높은심사청구비율에비하여, 등록률은 58.6% 로상대적으로낮게나타나고있다. 1. 제 1 출원인국적기준 2. 심사청구비율과심사청구대비등록율은 2000~2006 년동안출원된특허대비 2008 년까지심사청구완료된특허수의비율과등록된특허수의비율을의미함 < 그림 9> 주요국가의심사청구비율및심사청구대비등록율 2009 한국의특허동향 19

26 제 2 장주요분석내용 주요국가의 1특허당청구항수및발명자수를살펴보았다. 주요국가의 1특허당청구항수는미국이 25.2개로가장많은청구항수를특허문헌에작성하고있으며, 다음으로영국이 22.8개의청구항수를작성하고있다. 주요국가중점유율 1위인일본은 1특허당 12.5개의청구항을작성하고있는것으로나타났다. 특허권리를전략적으로확보하기위해주요국가의 1특허당청구항수는평균 10개넘게작성된반면, 한국의 1특허당청구항수는평균 7개에불과한것으로나타났다. 1특허당발명자수를살펴보면, 독일이 3.3명으로가장많은발명자수를포함하고있으며, 미국과스위스는 3.1명이발명에참여하고있는것으로나타났다. 아시아지역의일본은 2.8명, 대만은 2.3명으로나타났다. 한국은 1특허 1발명자위주의내국개인출원점유율이 25.2% 로높아 1특허당발명자수는 2명으로, 주요국가의 1특허당발명자수보다낮게나타난것으로판단된다. 1. 제 1 출원인국적기준 < 그림 10> 주요국가의 1 특허당청구항수및발명자수 20 The Patent Trend in Korea 2009

27 제 1 절국가별특허동향 주요국가의 Top10 출원인주요국가의다출원 Top10 출원인의점유율을살펴보았다. 국가별로 Top10 출원인이 50% 의점유율을초과하는국가는네덜란드와스웨덴으로각각 85.8% 와 64.9% 였다. 영국이 20.4% 로 Top10 출원인의점유율이낮게나타난반면, 네덜란드를비롯하여유럽지역국가의 Top 10출원인의점유율이다른지역의국가들에비하여높게나타나, 이들국가에서는소수기업이특허활동을주도하고있는것으로판단된다. 한국은 34.2%, 일본은 29.5%, 미국은 23.8% 로나타나, 한국이일본, 미국보다 Top10 출원인에의한특허활동이두드러지는것으로판단된다. 1. 제 1 출원인국적기준 < 그림 11> 주요국가별 Top10 출원인의점유율 한국과일본의 Top10출원인을살펴보았다. 한국은삼성전자가 99,381건 (10.8%), 엘지전자가 70,385건 (7.6%) 으로활발한출원을하고있으며, 일본은소니가 8,009건 (5.8%), 파나소닉이 6,782 건 (4.9%) 을우리나라에출원을활발히하고있는것으로나타났다. < 그림 12> 한국과일본의 Top10 출원인 2009 한국의특허동향 21

28 제 2 장주요분석내용 미국의 Top10 출원인은퀄컴, 미네소타마이닝앤드매뉴팩춰링컴퍼니, 마이크로소프트등이각각 3,325건 (3.9%), 2,776 건 (3.2%), 2,625건 (3.1%) 의특허를출원하고있다. 미국내등록건수 1위인 IBM( 인터내셔널비지네스머신즈 ) 은우리나라에 2,513건 (2.9%) 의특허를출원하고있다. 독일은바스프에스이와로베르트보쉬가각각 2,282 건 (8.4%), 2,110건 (7.8%) 의특허를출원하고있다 < 그림 13> 미국과독일의 Top10 출원인 네덜란드는코닌클리케필립스일렉트로닉스엔브이가 8,244건으로네덜란드출원인중에서가장높은 57.9% 의점유율을가지며우리나라에서활발한특허출원을하고있다. 다음으로엔엑스피비브이가 1,132건 (8.2%) 의특허를출원하고있다. 프랑스는톰슨라이센싱이 2,402건 (21.7%), 로레알이 521건 (4.7%) 의특허를출원하고있다. < 그림 14> 네덜란드와프랑스의 Top10 출원인 22 The Patent Trend in Korea 2009

29 제 1 절국가별특허동향 제1.3절연구주체의특허동향 연구주체별특허동향내국인을연구주체별로기업 ( 대기업, 중소기업 ), 공공기관 ( 중앙행정기관, 지방자치단체, 준정부기관, 공기업, 기타공공기관, 기타중앙공공기관, 기타지방공공기관, 학교법인, 대학 ), 기타법인, 내국개인으로구분하고, 연구주체별특허동향을살펴보았다. 내국인의특허활동은, 기업이 69.1% 을점유율을보이며특허출원을주도하고있으며, 공공기관 (7.5%) 보다는내국개인이 22.9% 의점유율로출원활동이활발한것으로나타났다. 기업은 2005년을정점으로 2008년까지계속감소하는경향을나타내고있는반면, 내국개인과공공기관은지속적인증가세를나타내고있다. 기업의특허활동이양적성장에서질적성장의관리전략을강화하는것으로판단된다. 2008년에기업이 -5.8% 의마이너스증가율을나타낸반면내국개인과공공기관, 기타법인은모두플러스의증가율을나타내고있다. < 그림 15> 연구주체의특허동향 2009 한국의특허동향 23

30 제 2 장주요분석내용 기업의특허동향연구주체별구분에서기업의특허동향을살펴보았다. 기업은 2000년 ~2008 년까지 636,992 건을출원하였으며, 이중대기업이 456,570 건으로 71.7% 를차지하고있으며, 중소기업은 180,422건으로 28.3% 를차지하고있다. 대기업과중소기업은 2000 년약 2배의출원건수차이를보인후, 대기업의활발한특허출원활동으로점점더격차를증가시켰으나, 2005년이후대기업의출원감소와 2004년이후중소기업의출원활동증가로 2008년에대기업은 48,031건, 중소기업은 30,488건으로그차이가 1.58배로줄어들었다. 출원인수의변화를살펴보면, 대기업은 2000년 492개업체에서 2008년 627개업체로출원건수의감소에도불구하고 27% 증가하였으며, 중소기업은출원건수의변화가크게없었던 2000년 ~2004년사이에 7,935개업체에서 8,114개업체로소폭증가하였으며, 2008 년에는 13,258개업체로 2000년에비하여출원인수가 67% 증가하였다. < 그림 16> 기업의특허동향 24 The Patent Trend in Korea 2009

31 제 1 절국가별특허동향 대기업의특허동향대기업의특허활동을살펴보면, 삼성전자가 99,381 건으로대기업전체 456,570 건중의 21.8% 를차지하며가장많은출원을하고있으며, 연평균 4.5% 의증가율을나타내고있다. 그뒤를이어엘지전자는 70,385 건을출원하여대기업전체의 15.4% 를차지하며, 연평균 3.8% 의증가율을나타내고있다. 연평균증가율에서는현대모비스가 59.6%, 대우일렉트로닉스가 55.9% 로높았으나, 2000년초반의높은증가율에의한것으로 2008년의경우각각 8.3%, -23.8% 로최근의특허활동이상대적으로둔화및급격히감소하고있다. 2000년 ~2007년의특허동향에서연평균증가율이감소한상위 20위기업이 4개뿐이었으나, 2000년 ~2008년의연평균증가율에서는팬택앤큐리텔의 -34% 를비롯하여총 7개기업이감소한것으로나타났다. 대기업상위 20위가대기업전체출원건의 78.4% 를차지하여특허활동이편중되어있는것으로나타났다. < 그림 17> 대기업다출원상위 20 위의특허동향 2009 한국의특허동향 25

32 제 2 장주요분석내용 중소기업의특허동향중소기업의특허동향을살펴보면, 중소기업전체출원건 180,422 건중에서상위 20위의출원건은 10,225 건으로 5.7% 를차지하고있어특허편중이심한대기업과달리다양한기업에서고른특허활동이나타나고있다. 비즈모델라인주식회사가 1,746건의특허를출원하여 1% 를차지하고있으며, 그뒤를이어에이디피엔지니어링이 899건으 0.5% 를차지하고있다. 비즈모델라인과에이디피엔지니어링의출원건수는매년꾸준히증가하고있는것으로나타났다. 반면에유티스타콤코리아는 808건을출원하였으나, 2005년 1건출원이후 2006년부터출원활동이없는것으로나타났다. 주성엔지니어링은 785건을출원하였으며, 매년증가와감소를반복하면서전체적으로증가추세를유지하고있다. 엠텍비젼은 604건을출원하였으며, 2005년과 2006년을정점으로최근에는특허활동이급격히감소하고있는것으로나타났다. < 그림 18> 중소기업다출원 Top20 의특허동향 26 The Patent Trend in Korea 2009

33 제 1 절국가별특허동향 공공기관 : 중앙정부기관의특허동향중앙정부부처및국가공무원법을적용받는중앙정부기관에대한특허활동을살펴보면, 2000년 ~2008년동안총 1,025건을출원하였다. 농촌진흥청이 837건으로 71.7% 의점유율을차지하며특허활동을주도하고있는것으로나타났다. 이어식품의약품안전청장이 58건을출원하였다. 농촌진흥청은 2003년과 2007년에감소한것을제외하고지속적으로증가하는경향을나타내고있다. < 그림 19> 중앙정부기관의특허동향 2009 한국의특허동향 27

34 제 2 장주요분석내용 공공기관 : 지방자치단체의특허동향 232개의지방자치단체의 2000년에서 2008년까지의총출원건은 1,191건나타났다. 전라남도가 104건으로 8.7% 의점유율을차지하고있으며, 충청북도가 80건, 담양군이 72건, 경상남도가 68건을출원하고있다. 다출원상위 20위의출원건은지방자치단체출원의 58% 를차지하고있어일부지방자치단체에의해특허활동이주도되고있는것으로나타났다. 전라남도는 2003년과 2005년에급격한감소를하였으나분석구간전체에걸쳐서증가하는경향을나타내고있다. 충청북도는 2006년까지계속증가추세였으나, 2007년이후크게감소한후 2008 년에는 1건의특허도출원하지않았다. 담양군은 2004 년을정점으로감소세를나타내고있으며, 경상남도는 2003년정점을기록하고감소세로돌아선이후답보상태를나타내고있다. < 그림 20> 지방자치단체의특허동향 28 The Patent Trend in Korea 2009

35 제 1 절국가별특허동향 공공기관 : 준정부기관의특허동향기획재정부에서지정한준정부기관에대한특허활동을살펴보면, 2000년 ~2008 년동안총 999건을출원하였으며, 한국산업기술평가원 ( 관리부서 : 요업기술원 ) 이 335건으로준정부기관전체의 33.5% 를차지하며특허활동을주도하고있다. 그다음으로정보통신연구진흥원이 136건을출원하였으며, 상위 10개준정부기관이전체출원건의 80.2% 를차지하며상위일부준정부기관에의해특허활동이집중되고있는것으로나타났다. 연도별특허동향에서, 한국산업기술평가원은지속적으로증가하는경향을나타내고있으며, 한국정보보호진흥원은최근에증가하는경향이두드러지며, 정보통신연구진흥원과한국산업안전보건공단은최근의특허출원이저조한것으로나타났다 < 그림 21> 준정부기관의특허동향 2009 한국의특허동향 29

36 제 2 장주요분석내용 공공기관 : 공기업의특허동향기획재정부에서지정한공기업의특허동향을살펴보면, 2000년 ~2008년동안총 1,785 건을출원하였다. 한국전력공사가 994건으로공기업전체의절반이넘는 55.7% 의점유율을차지하고있으며, 상위 5개공기업이 1,582건으로 88.6% 의점유율을차지하고있다. 한국수자원공사는 196건, 한국조폐공사는 162건, 한국가스공사는 121건, 한국도로공사는 109건을출원하고있다. 연도별특허동향에서한국전력공사는지속적인증가세를나타내고있으며, 2008년에출원활동이더욱증가한것으로나타나고있다. 한국수자원공사와한국도로공사는급격한증가와감소세가반복하면서최근에증가세를유지하고있다. 한국조폐공사는꾸준히증가하고있으며, 한국가스공사는 2006년까지증가세를나타낸이후감소세를나타내고있다. < 그림 22> 공기업의특허동향 30 The Patent Trend in Korea 2009

37 제 1 절국가별특허동향 공공기관 : 기타공공기관의특허동향기획재정부에서지정한기타공공기관의출원동향을살펴보면, 2000년 ~2008 년동안총 32,623건을출원하였다. 한국전자통신연구원이 15,896건을출원하여기타공공기관전체의 48.7% 를차지하며기타공공기관의특허활동을주도하고있다. 그뒤를이어한국과학기술연구원이 2,362건으로 7.2% 를차지하고있으며, 한국화학연구원은 1,539 건으로 4.7%, 한국기계연구원은 1,388 건으로 4.2%, 한국원자력연구원은 1,200건으로 3.6% 를차지하며, 상위 5개기관이기타공공기관전체의 68.6% 를차지하고있다. 한국전자통신연구원은연평균 20.6% 의증가율을나타내고있으며, 2008년 -14.4% 로감소한것을제외하고매년높은증가율로활발한특허출원을하고있다. 한국과학기술연구원은 2004년을기점으로증가세로돌아섰으며, 한국화학연구원은꾸준한증가세를나타내고있다. 한국기계연구원과한국원자력연구원은 2006년부터급격히증가한것으로나타났다. 한국과학기술연구원과한국원자력연구원은 2008년에도증가세를나타내고있다. < 그림 23> 기타공공기관의특허동향 2009 한국의특허동향 31

38 제 2 장주요분석내용 공공기관 : 대학의특허동향대학교및각대학교의산학협력단으로출원된특허를통합하여분석하였다. 대학교는 2000년 ~2008 년동안총 28,122 건의특허를출원하였다. 가장많은특허를출원한대학교는한국과학기술원으로 2,799 건을출원하였으며, 대학전체의 10% 를차지하고있다. 그다음으로서울대가 2,537건을출원하여대학전체의 9% 를차지하였다. 그뒤를이어연세대가 1,580건, 고려대가 1,399건, 한양대가 1,182건을출원하였다. < 그림 24> 대학의특허동향 32 The Patent Trend in Korea 2009

39 제 1 절국가별특허동향 공공기관 : 기타법인의특허동향기업및공공기관에해당하지않는사단법인, 재단법인등의비영리기관에대한특허활동을살펴보면, 2000년 ~2008 년동안총 5,707 건의특허를출원하였다. 재단법인포항산업과학연구원이 2,459건을출원하여기타법인전체의 45.5% 를차지하며, 특허활동을주도하고있는것으로나타났다. 그다음으로전자부품연구원이 1,249건으로 23.1% 를차지하여, 이두개기관에의해기타법인의특허활동이집중되어있는것으로나타났다. 재단법인포항산업과학연구원은 2001년에 300건이넘는특허를출원한이후매년 250건내외의출원을지속하고있으며, 전자부품연구원은매년지속적으로출원양이증가세를나타내고있다. 고등기술연구원연구조합은 2005년까지증가세를유지하다 2006년부터감소세를나타내고있으며, 한국광기술원은 2004년부터지속적으로증가하는경향을나타내고있다. < 그림 25> 기타법인의특허동향 2009 한국의특허동향 33

40 제 2 장주요분석내용 연구주체별여성발명자의출원비율 2000년 ~2008 년동안연구주체의여성발명자출원비율을살펴보았다. 여성발명자의출원비율이가장높은연구주체는 20.5% 의지방자치단체였다. 지방자치단체는연도별로증가와감소가반복되면서증가하는경향을나타내고있다. 그다음으로는기타중앙공공기관이 17.5% 의출원비율을나타냈다. 대기업과중소기업은각각 6.2%, 5.7% 의여성발명자출원비율을나타내고있다. 가장낮은출원비율을나타내고있는기관은공기업으로, 3.1% 의여성발명자출원비율을나타내고있다. 그러나연도별출원비율은점차증가하고있는것으로나타났다. 각연구주체는연도별로, 전체적으로여성발명자의출원비율이증가하는경향으로진행되고있으나, 기타공공기관, 기타지방공공기관과학교법인에서는출원비율이정체되거나감소하는경향을나타내고있다. 1. 내국인여성발명자기준 2. 복수발명자에대해서, 복수가산법을적용 < 그림 26> 연구주체별발명자의성별에따른비율 34 The Patent Trend in Korea 2009

41 제 1 절국가별특허동향 연구주체별발명자의연령대비율 2000년 ~2008 년동안발명자의연령대별특허출원비율을살펴보았다. 내국인전체에서 30대 >40대 >20대 >50대의순으로특허활동이가장활발한것으로나타났다. 20대와 30대는 2005년부터최근까지그비율이줄어들고있는반면에, 40대와 50대의비율은늘어나고있는것으로나타났다. 기업에서 30대가 50% 이상의높은비율을나타내고있다. 내국개인은 40대가 35% 이상의비율을차지하며, 20대의비율이가장낮게나타나고있다. 공공기관은 30대와 40대가각각 30% 이상의비율을차지하고있는것으로나타났다. 대학은 20대의비율이 30.4% 로가장높은비율을차지하고있는것으로나타났다. < 그림 27> 연구주체별발명자의연령대비율 2009 한국의특허동향 35

42 제 2 장주요분석내용 제2절지역의특허동향 1. 광역자치단체지역별특허동향 연도별출원동향지역별특허동향을살펴보기위해, 발명자의주소지를활용하여분석하였다. 14) 서울과경기도가각각 35.2%, 28% 의점유율로지역특허활동이수도권을중심으로이루어지고있는것으로나타났다. 비수도권지역에서는대전광역시가 6.7% 의점유율로활발한특허활동을하고있는것으로나타났다. 또한대전광역시가 13.7%, 충청남도가 12.7% 로대전충남지역의연평균증가율이높게나타나고있다. 1. 출원인제 1 국적이발명자제 1 국적이한국인특허를대상으로함 < 그림 28> 광역자치단체지역별특허동향 14) 한국특허에나타난출원인의주소지가대부분본사로나타나기때문에출원인의주소를이용한특허분석은지역별기술혁신활동의분포를파악하는데한계가있다. 따라서, 지역별기술혁신활동의분포를좀더정확하게분석하기위해발명자의주소를활용하였다. 36 The Patent Trend in Korea 2009

43 제 2 절지역의특허동향 지역의특허생산성지역별특허생산성을살펴보기위해광역자치단체별경제인구대비특허출원건수와연구개발비용투입대비특허성과를살펴보았다. 지역별경제인구 1천명대비출원건수에서는대전광역시가 2000년 ~2008 년동안 10.2로가장많이출원하고있으며, 2008년도에는 14.9건을출원한것으로나타났다. 경상북도와울산광역시는경제인구 1천명대비출원건수가 2008년에감소하고있는것으로나타났다. 연구개발비용 1억원투입대비출원건수는 2000년 ~2008 년동안대구광역시가 1건으로효율성이높은것으로나타났다. 경상남도, 대전광역시, 인천광역시를제외한다른광역자치단체의 2008년연구개발비 1억원당출원건수는 2000년 ~2008 년의 1억원당출원건수보다감소한것으로나타났다. 1. 지역의특허출원건수는제 1 발명자의지역을기준 2. 각지역별경제인구통계는통계청의국가통계포털을이용 3. 각지역별연구개발비용통계는 NTIS 의통계를이용 < 그림 29> 광역자치단체의특허생산성 2009 한국의특허동향 37

44 제 2 장주요분석내용 지역의중점기술분야광역자치단체에서중점적으로연구개발하고있는기술분야를특허활동지수 (AI) 를이용하여분석하였다. 지역의특허출원점유율이높은경기도는반도체, 광학, 컴퓨터기술에특허활동을집중하고있으며, 서울은전자상거래, 운송, 엔진 / 펌프 / 터빈기술에특허활동을집중하고있다. 대전광역시는디지털통신, 마이크로구조 / 나노기술, 표면기술 / 코팅기술분야에집중하며, 충청남도는식료품, 화학공학, 유기화학기술에특허활동을집중하고있는것으로나타났다. 1. 지역별특허출원건수는제 1 발명자의지역을기준 2. 제 1IPC 기준 (IPC 미부여특허는제외 ) < 그림 30> 광역자치단체의중점연구기술분야 38 The Patent Trend in Korea 2009

45 제 2 절지역의특허동향 지역의중점산업분야광역자치단체에서중점적으로연구개발하고있는산업분야를특허활동지수 (AI) 를이용하여분석하였다. 특허문헌에는산업분류가존재하지않기때문에 IPC-산업분류확률표를이용하였으며, 이는특허가어떠한산업에이용되는지를살펴본후, 해당 IPC가어떠한산업에이용되는지를확률적으로계산한것이다. 따라서, 산업분류의 3단계인소분류를기준으로 IPC별특허건수를산업별로환산하여산업분류건수로계산하였으며, 이를또한특허활동지수를이용하여분석하였다. 경기도는반도체, 마그네틱 / 광학기기, 사무용기계제조업에, 서울은컴퓨터프로그래밍, 의료용기기, 의복모피제조업에, 대전광역시는항공기제조업, 기초화학물질, 합성고무플라스틱제조업분야, 충청남도는일차전지및축전지, 전구및조명장치, 식료품제조업이중점산업분야로나타났다. 1. 지역별특허출원건수는제 1 발명자의지역을기준 2. IPC 와산업분류표의확률표를이용 < 그림 31> 광역자치단체의중점산업분야 2009 한국의특허동향 39

46 제 2 장주요분석내용 지역의연구주체별특허동향지역별로연구주체의특허활동을살펴보았다. 기업의출원은경기도와서울에서 68% 의점유율로집중되고있으며, 그다음으로경상북도와경상남도에서기업의특허활동이활발하다. 내국개인역시경기도와서울에서활발한특허출원을하고있는것으로나타났다대기업과중소기업모두경기도와서울에서특허활동을주도하고있는것으로나타났다. 그다음으로경상북도와경상남도에서는대기업의특허활동이두드러진반면, 인천과대전에서는중소기업의특허활동이활발한것으로나타났다. 공공기관은대전광역시에서 38.3% 로서울과경기도보다활발한특허출원을하고있으며, 기타법인은경상북도에서재단법인포항산업과학연구원의활발한출원활동에의해 37% 의점유율을차지하며특허출원을주도하고있는것으로나타났다. 1. 지역별출원건수는제 1 발명자의지역을기준 2. 제 1 출원인의국적과제 1 발명자의국적이한국인특허를대상으로함 < 그림 32> 광역자치단체의연구주체별점유율 40 The Patent Trend in Korea 2009

47 제 3 절기술분야의특허동향 제3절기술분야의특허동향 1. WIPO 35개기술분야의특허동향 5대기술분야의특허동향 2000년 ~2008 년동안국내에출원된특허의 WIPO 35개기술분류및 5대기술분야로특허동향을살펴보았다. 전기분야기술은 536,338건이출원되어한국전체특허에서 43.7% 를차지하였다. 그뒤를이어기계분야가 231,392건으로 18.9%, 화학분야가 215,533건으로 17.6% 를차지하였다. 세부기술분류를살펴보면, 전기분야에서반도체기술이 111,302 건, 9.7% 를차지하며 35개기술분류중가장높은점유율을차지하고있으며, 그다음으로원거리통신기술이 108,319 건, 8.8% 의점유율을차지하고있다. 화학분야에서는유기화학이 30,656건 2.5%, 기구분야에서는광학기술이 65,343건, 5.3%, 기계분야에서는운송기술이 58,377 건, 4.8%, 기타분야에서는토목공학기술이 45,392 건, 3.7% 를차지하며각분야의수위를차지하고있다. 1. 제 1IPC 를기준 (IPC 미부여특허는제외 ) < 그림 33> WIPO 35 개기술분류의특허동향 2009 한국의특허동향 41

48 제 2 장주요분석내용 기술분야의연평균증가율 2000년 ~2008 년동안출원된특허를 5대기술분야및 35개세부기술분류별로출원증가율을살펴보았다. 5대기술분야에서출원이가장많은전기분야는연평균 4.2% 의증가율을나타내고있으나, 2005년을기점으로감소추세를나타내고있다. 전기분야에서는전자상거래의증가율감소가 -23.4% 로가장급격히감소하고있는것으로나타났다. 화학분야는연도별로꾸준히증가추세를나타내고있으며, 마이크로구조 / 나노기술분야가연평균 26.4% 의증가율로가장높은증가추세를나타내고있다. 기계분야도연도별로꾸준히증가추세를나타내고있으며, 기계조작과기타특수기계기술이각각연평균 8.1%, 7.9% 의증가율을나타내고있다. 기구분야는 2006년까지꾸준한증가추세가 2007 년부터감소세를나타내고있으며, 생물물질분석기술이 10.7% 의연평균증가율을나타내고있다. 기타분야는연도별로꾸준한증가세를나타내고있으며, 토목공학분야가연평균 12.7% 의증가율을나타내고있다. < 그림 34> WIPO 35 개기술분야의연평균증가율 42 The Patent Trend in Korea 2009

49 제 3 절기술분야의특허동향 주요국가의선택과집중분야 WIPO 기준 35개기술분야 15) 에따라주요국가의선택과집중인기술분류를파악하였다. 분석지표로는상대적연평균증가율과특허우위지수 (RPA) 16) 를이용하였다. 일본은 2000~2008 년동안화학분야인기초재료화학, 표면기술 / 코팅, 재료금속학, 고분자화학 / 폴리머, 유기화학기술과, 기구분야인측정, 광학기술과, 전기분야인전기 / 기계에너지기술에선택과집중을하고있는것으로나타났다. 마이크로구조 / 나노기술은특허출원활동이상대적으로낮으나연평균증가율이높아, 향후특허활동이집중될것으로판단된다. 미국은전기분야인디지털통신, 컴퓨터기술, 전자상거래, 원거리통신과, 화학분야인생물물질분석, 바이오기술, 기구분야인측정기술에선택과집중을하고있는것으로나타났다. 독일은기계분야인공작기계, 기타특수기계, 기계요소, 운송과, 화학분야인표면기술 / 코팅, 재료금속학, 기초재료화학, 기구분야인의약, 의료기술에선택과집중을하고있는것으로나타났다. 네덜란드는화학분야인유기화학, 기초재료화학, 화학공학과, 기구분야인광학기술에선택과집중을하고있는것으로나타났다. 1. 제 1 출원인국적기준 ( 출원인국적없는특허는제외 ). 2. 제 1IPC 기준 (IPC 미부여특허는제외 ) 3. 각기술별상대적연평균증가율 = 각국가의기술별연평균증가율 - 각국가의전체연평균증가율 < 그림 35> 주요국가의선택과집중 15) < 별첨 1> 참조. 16) 제 1 장서론의제 2 절분석범위및분석틀참조 한국의특허동향 43

50 제 2 장주요분석내용 5대기술분야의연구주체및 Top5 출원인점유율 2000년 ~2008 년동안출원된특허를 5대기술분야의연구주체별로살펴보면, 대부분의연구주체에서전기분야의점유율이가장높은반면, 기타법인은화학분야의점유율이더높으며, 외국개인은기계분야의점유율이높게나타났다. 내국개인은전기와기계, 기타분야의점유율이약 24% 대로비슷하게나타나고있다. 5대기술분야별주요다출원인을살펴보면, 전기분야에서는삼성전자와엘지전자가다출원상위를기록하고있으며, 기구분야에서는삼성전자와엘지디스플레이, 화학분야에서는포스코와엘지화학, 기계분야에서는현대자동차와엘지전자, 기타분야에서는엘지전자와삼성전자가각각선두에서특허활동을주도하고있는것으로나타났다. 5대기술분야의 Top5 출원인에의한점유율에서화학분야는 7.3% 로다른기술분야에비해다양한출원인에의한특허활동이이루어지고있는것으로판단된다. < 그림 36> 5 대기술분야의연구주체및 Top5 출원인의점유율 44 The Patent Trend in Korea 2009

51 제 4 절산업분류별특허동향 제 4 절산업분류별특허동향 1. 산업분류에따른특허동향 점유율상위산업분류 2000년 ~2008년동안국내에출원된특허를 [IPC-산업분류확률표 ] 를이용하여산업분류에따른특허동향을살펴보았다. 산업분류표의 3단계분류중소분류에해당하는 3차산업분류를기준으로산업분류별점유율상위 30위분야를살펴보면, 반도체제조업이 10.7% 로가장높은점유율을차지하였으며, 다음으로통신및방송장비제조업이 10.4%, 전자부품제조업이 7.1%, 사무용이외의일반기계제조업이 6.9%, 컴퓨터프로그래밍및정보서비스업이 6.5% 로상위에기록되었다. < 그림 37> 산업분류의점유율 Top 한국의특허동향 45

52 제 2 장주요분석내용 연평균증가율상위및하위산업분류 2000년 ~2008 년동안국내에출원된특허중산업분류별연평균증가율상하위 15개분야를살펴보았다. 선박제조업이연평균 24.4% 의증가율, 2008년의 46.7% 를기록하고있는등최근에이분야에대한특허출원이매우활발한것으로나타났다. 그다음으로건설업및건축기술서비스업이연평균 16.5% 의증가율을나타내고있다. 반면에, 증가율이가장낮은산업분야는마그네틱및광학매체제조업과컴퓨터프로그래밍및정보서비스업으로나타났다. 마그네틱및광학매체제조업분야는연평균 -4.0% 증가율을기록하며 2005년에마이너스 (-) 증가율을기록한이후감소세가더욱확대되어 2008년 -31.8% 를기록하는등최근특허출원이매우저조한것으로나타났다. < 그림 38> 산업분류별연평균증가율상하위분야 46 The Patent Trend in Korea 2009

53 제 4 절산업분류별특허동향 산업분류에의한주요국가의특허동향점유율이높은다출원상위 5개산업분류와연평균증가율이높은상위 5개산업분류에대해국가별점유율을살펴보았다. 점유율 Top5분야는한국이 70% ~ 80% 이상의높은점유율을보인가운데, 일본이반도체제조업과전자부품제조업, 사무용이외의일반기계제조업에서두번째높은점유율을나타내고있다. 미국은통신및방송장비제조업과컴퓨터프로그래밍및정보서비스업에서두번째높은점유율을나타내고있다. 증가율 Top5분야는한국이 70%~80% 대의점유율을차지한가운데, 절연선및케이블제조업분야만이 66.7% 의상대적으로낮은점유율을나타냈으며, 이분야는일본이 17.4% 의점유율을나타내고있다. 선박제조업분야에서는독일이 4.2% 의점유율로두번째높은점유율을차지하고있는것으로나타났다. 점유율 Top5 분야 반도체제조업 통신및방송장비제조업 전자부품제조업 사무용이외의일반기계제조업 컴퓨터프로그래밍및정보서비스업 한국 72.6% 79.5% 74.1% 76.8% 83.2% 일본 16.4% 5.8% 16.7% 10.1% 5.9% 미국 6.7% 8.3% 4.5% 5.4% 7.2% 독일 1.4% 0.7% 1.1% 3.1% 0.4% 네덜란드 1.1% 1.4% 1.2% 0.3% 1.1% 증가율 Top5 분야 선박제조업 < 표 2> 산업분류에따른주요국가의특허동향 건설업및건축기술서비스업 절연선및케이블제조업 가죽, 가방및신발제조업 전구및조명장치제조업 한국 82.2% 95.6% 66.7% 88.8% 78.7% 일본 3.4% 1.8% 17.4% 3.0% 14.0% 미국 2.4% 0.7% 8.5% 3.1% 2.3% 독일 4.2% 0.4% 1.6% 1.5% 0.7% 네덜란드 0.4% 0.1% 1.2% 0.1% 1.9% 연구주체별다출원상위산업분류의점유율연구주체에따른산업분류의특허동향을살펴보았다. 기업은 61개의산업분류중반도체제조업의비중이 13.9% 로가장높았으며, 이어서통신및방송장비제조업, 전자부품제조업, 사무용이외의일반기계제조업, 자동차제조업의순으로높은점유율을차지하고있는것으로나타났다. 외국법인의경우기업과비슷한산업분야순위로높은점유율을기록하고있으며, 의료용물질및의약품제조업분야가 6.3% 의점유율을차지하며외국법인의산업분류상위 4위에기록되었다. 공공기관에서는통신및방송장비제조업이 16.7% 의가장높은점유율을기록하였으며, 기타법 2009 한국의특허동향 47

54 제 2 장주요분석내용 인은측정, 시험, 항해, 제어및기타정밀기기제조업이 10.5% 로가장높은점유율을나타내고있다. 내국개인은컴퓨터프로그래밍및정보서비스업이 11.1% 로가장높은점유율을차지하고있으며, 그뒤로사무용이외의일반기계제조업, 기타제품제조업, 특수기계제조업, 기타금속가공제품제조업이상위점유율을차지하고있다. 외국개인은사무용이외의일반기계제조업이 11.1% 로가장높은점유율을차지하고있으며, 내국개인과비슷한산업분류가상위점유율에랭크되어있으나, 내국개인과는달리의료용기기제조업분야가 6.8% 의점유율로두번째로높은점유율을차지하고있는것으로나타났다. 외국법인과외국개인은각각의료용물질및의약품제조와의료용기기제조업의의료분야의특허활동이내국인에비해상대적으로활발한것으로나타났다. 1. 제 1 출원인국적기준 2. 제 1IPC 기준 (IPC 미부여특허는제외 ) < 그림 39> 연구주체별다출원상위산업분류의점유율 48 The Patent Trend in Korea 2009

55 제 5 절특허권리분쟁 제5절특허권리분쟁 1. 특허권리분쟁유형별동향 특허권리분쟁유형별동향 2000년 ~2008년동안출원된특허중 2008년까지심판청구된특허를살펴보면, 거절결정불복심판 17) 이청구된특허건수가 39,541 건으로결정계심판전체에서 98% 를차지하고있다. 당사자계심판은무효심판 18) 이청구된특허건수가 2,083 건으로, 당사자계심판전체에서 60.7% 를차지하였으며, 그뒤를이어소극적권리범위확인심판이 23.4%(802건 ), 적극적권리범위확인심판이 15.8%(542 건 ) 의점유율을나타냈다. 특히결정계심판의거절결정불복심판과당사자계심판의무효심판은연도별가장급격한증가추세를나타내고있다. 심판청구에서심결까지소요된기간을살펴보면, 취소결정불복심판이약 12개월로가장긴기간이소요되었으며, 보정각하불복심판은 4.8개월로가장짧은기간이소요되는것으로나타났다 년 ~2006 년동안출원되어 2008 년까지심판청구된특허 2. 결정계심판 : 특허거절결정, 취소결정에대한불복심판, 정정심판, 보정각하불복심판등당사자계심판 : 특허무효심판, 권리범위확인심판, 정정의무효심판, 통상실시권허여등 < 그림 40> 특허권리분쟁유형별동향 17) 거절결정불복심판이란, 심사관이출원된특허에대해서거절결정을내리고, 이에불응하여특허심판원에거절결정을취소하여줄것을요구하는심판임. 18) 무효심판이란, 설정등록된특허의효력을법정무효사유로심판에의해소급적및장래에상실시키고자청구하는심판임 한국의특허동향 49

56 제 2 장주요분석내용 연구주체에따른권리분쟁유형별동향내국개인은권리범위확인심판에서의분쟁비율이 50% 이상을차지하며, 특허권침해분쟁에대비하여적극적으로이용하고있으며, 상대적으로거절결정불복은 13.7% 로내국법인과외국법인보다특허권획득노력이저조한것으로나타났다. 주요국가별로일본, 미국, 독일은거절결정불복심판에대한청구비율이상대적으로높게나타났다. 중소기업은무효심판청구가대기업보다많은건수를청구하고있는것으로나타났다. < 표 3> 특허권리분쟁의내외국, 주요국가및연구주체의현황 50 The Patent Trend in Korea 2009

57 제 5 절특허권리분쟁 기술분야및산업분야에따른권리분쟁현황본분석은당사자계및결정계심판을포함한권리분쟁을기술및산업분야별로살펴보았다. 주요국가별로권리분쟁이자주발생하는기술분야는한국은전자상거래기술에서 2,711건의심판청구가있었으며, 그뒤를이어원거리통신기술이 2,646건, 반도체에서 1,857 건, 전기기계 / 에너지에서 1,735 건등전기분야의권리분쟁이많은것으로나타났다. 일본은기구분야인광학기술이 1,095 건으로가장많은권리분쟁이발생하였으며, 그다음으로반도체기술이 1,059건, 전기기계 / 에너지기술이 691건으로권리분쟁이발생하고있는것으로나타났다. 미국은의약기술, 독일은유기화학기술에서가장많은권리분쟁이발생하고있는것으로나타났다. 산업분야의권리분쟁을살펴보면, 한국은컴퓨터프로그래밍및정보서비스업이 3,532.9 건으로가장많은분쟁이발생하고있다. 그다음으로통신및방송장비제조업이 2,865.2건, 반도체제조업이 2,312.6건, 전자부품제조업 2,045.1건, 사무용이외의일반기계제조업이 1,858.5 건으로나타났다. 일본은반도체제조업, 미국은의료용물질및의약제조업, 독일은반도체제조업에서권리분쟁이가장많이발생하고있는것으로나타났다. < 표 4> 기술및산업분야의권리분쟁현황 2009 한국의특허동향 51

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59 별 첨 2009 한국의특허동향 53

60

61 < 별첨 1> WIPO 5대기술분류및 35개세부기술분류 5대기술분류기술코드 35개세부기술분류 1 전기기계 / 에너지 2 오디오 / 영상기술 3 원거리통신 4 디지털통신전기 5 기본통신프로세스 6 컴퓨터기술 7 전자상거래 8 반도체 9 광학 10 측정기구 11 생물물질분석 12 기구제어 13 의료기술 14 유기화학 15 바이오기술 16 의약 17 고분자화학 / 폴리머 18 식료품화학 19 기초재료화학 20 재료 / 금속학 21 표면기술 / 코팅 22 마이크로구조 / 나노기술 23 화학공학 24 환경기술 25 기계조작 26 공작기계 27 엔진 / 펌프 / 터빈기계 30 열처리 / 장치 31 기계요소 32 운송 33 가구 / 게임기타 34 기타소비재물품 35 토목공학 28 섬유 / 제지기계 29 기타특수기계 2009 한국의특허동향 55

62 산업분류 _ 대산업분류 _ 중산업분류 _ 소 1차비철금속제조업 1차비철금속제조업 1차금속제조업 1차철강제조업 1차철강제조업 금속주조업 금속주조업 가구제조업 가구제조업 가구제조업 가죽, 가방및신발제조업 가죽, 가방및신발제조업 가죽, 가방및신발제조업 건설업및건축기술서비스업 건설업및건축기술서비스업 건설업및건축기술서비스업 고무제품및플라스틱제품제조업 고무제품및플라스틱제품제조업 고무제품및플라스틱제품제조업 광업 광업 광업 금속가공제품제조업 기타기계및장비제조업 기타운송장비제조업 구조용금속제품, 탱크및증기발생기제조업기타금속가공제품제조업 무기및총포탄제조업 일반기계제조업 특수기계제조업 그외기타운송장비제조업 선박제조업 철도장비제조업 구조용금속제품, 탱크및증기발생기제조업기타금속가공제품제조업 무기및총포탄제조업 사무용기계및장비제조업 사무용이외의일반기계제조업 특수기계제조업 그외분류안된운송장비제조업 모터사이클제조업 전투용차량제조업 선박제조업 철도장비제조업 항공기제조업 항공기제조업 기타제품제조업 기타제품제조업 기타제품제조업 농림어업농림어업농림어업 담배제조업담배제조업담배제조업 목재및나무제품제조업목재및나무제품제조업목재및나무제품제조업 비금속광물제품제조업비금속광물제품제조업비금속광물제품제조업 섬유제품제조업 섬유제품제조업 섬유제품제조업 식료품제조업 식료품제조업 식료품제조업 음료제조업음료제조업음료제조업 의료, 정밀, 광학기기및시계 < 별첨 2> 산업분류표 (1) 시계및시계부품제조업 안경, 사진장비및기타광학기기제조업 의료용기기제조업측정, 시험, 항해, 제어및기타정밀기기제조업 시계및시계부품제조업 안경, 사진장비및기타광학기기제조업 의료용기기제조업 측정, 시험, 항해, 제어및기타정밀기기제조업 56 The Patent Trend in Korea 2009

63 < 별첨 3> 산업분류표 (2) 산업분류 _ 대 산업분류 _ 중 산업분류 _ 소 의료용물질및의약품제조업 의료용물질및의약품제조업 의료용물질및의약품제조업 의복및모피제품제조업 의복및모피제품제조업 의복및모피제품제조업 인쇄및기록매체복제업 인쇄및기록매체복제업 인쇄및기록매체복제업 자동차제조업 자동차제조업 자동차제조업 전기, 가스, 증기및수도사업 전기, 가스, 증기및수도사업 전기, 가스, 증기및수도사업 가정용기기제조업 기타전기장비제조업 가정용기기제조업 기타전기장비제조업 전기장비제조업 일차전지및축전지제조업 전구및조명장치제조업전동기, 발전기및전기변환, 공급, 제어장치제조업절연선및케이블제조업 일차전지및축전지제조업 전구및조명장치제조업 전동기, 발전기및전기변환, 공급, 제어장치제조업 절연선및케이블제조업 전자부품, 컴퓨터, 영상, 음향및통신장비제조업 마그네틱및광학매체제조업반도체제조업영상및음향기기제조업전자부품제조업컴퓨터및주변장치제조업통신및방송장비제조업 마그네틱및광학매체제조업반도체제조업영상및음향기기제조업전자부품제조업컴퓨터및주변장치제조업통신및방송장비제조업 컴퓨터프로그래밍및정보서비스업컴퓨터프로그래밍및정보서비스업컴퓨터프로그래밍및정보서비스업 코크스, 연탄및석유정제품제조업코크스, 연탄및석유정제품제조업코크스, 연탄및석유정제품제조업 펄프, 종이및종이제품펄프, 종이및종이제품펄프, 종이및종이제품 하수, 폐기물처리, 원료재생및환경복원업 화학물질및화학제품제조업 하수, 폐기물처리, 원료재생및환경복원업 기초화학물질제조업 기타화학제품제조업 비료및질소화합물제조업 합성고무및플라스틱물질제조업 화학섬유제조업 하수, 폐기물처리, 원료재생및환경복원업 기초화학물질제조업 그외기타화학제품제조업 살충제및기타농약제조업 세제, 화장품및광택제제조업잉크, 페인트, 코팅제및유사제품제조업비료및질소화합물제조업 합성고무및플라스틱물질제조업 화학섬유제조업 2009 한국의특허동향 57

64 < 별첨 4> 연구주체및기업구분에의한출원인분류 연구주체 구분기준 대기업 중소기업기본법에근거하여중소기업을제외한기업 기업부문 중소기업 중소기업기본법에근거하여대기업을제외한모든기업및출원인감면비율 (70%) 를적용받는기업 일반기업 대기업, 중소기업에해당하지않는기업 중앙정부기관 중앙정부부처및국가공무원법을적용받는기관 지방자치단체 232 개지방자치단체 준정부기관 기획재정부에서운영하는 공공기관창의경영시스템 에서제공하는공공기관중준정부기관지정현황 내국 내국법인 공공기관 공기업 기타공공기관 기획재정부에서운영하는 공공기관창의경영시스템 에서제공하는공공기관중공기업지정현황 기획재정부에서운영하는 공공기관창의경영시스템 에서제공하는공공기관중기타공공기관지정현황 기타중앙공공기관 중앙정부부처의소속기관또는산하기관 기타지방공공기관 지방자치단체의소속또는산하기관및지방공기업법에적용받는기관 학교법인 ( 대학제외 ) 고등교육법에의한학교 대학 ( 산학협력단 ) 대학교 기타법인 기업및공공기관에해당하지않는사단법인, 재단법인등의비영리기관 내국개인 출원인코드가 4 로시작하는출원인 외국법인 출원인코드가 5 로시작하는출원인 외국 외국개인 출원인코드가 6 으로시작하는출원인 58 The Patent Trend in Korea 2009

65 < 별첨 5> 출원번호가부여된연도별특허출원건수및증가율 총계 전체 102, , , , , , , , ,632 1,244,635 증가율 2.6% 1.6% 12.1% 17.4% 15.3% 3.3% 3.6% -1.3% 6.6% < 별첨 6> 연구주체의연도별출원건수 연구주체 ( 세부 ) 총계 내국법인 기업공공기관 대기업 31,919 36, ,86 50,139 61,532 69,844 64,176 55,069 48, ,570 중소기업 15,639 14,834 14,117 14,695 16,652 21,201 24,478 28,318 30, ,422 중앙정부기관 ,025 지방자치단체 ,191 준정부기관 공기업 ,785 기타공공기관 1,613 1,817 2,470 2,911 3,167 3,988 5,142 5,820 5,695 32,623 기타중앙공공기관 기타지방공공기관 학교법인 ,222 대학 ,270 1,910 2,995 4,636 6,787 8,343 28,122 기타법인 내국개인 22,163 19,156 17,968 19,672 20,503 22,743 25,521 30,766 32, ,789 외국개인 , 외국법인 28,384 30,130 28,891 27,971 34,000 38,408 40,404 43,050 42, ,659 무국적 총계 102, , , , , , , , ,632 1,244, 한국의특허동향 59

66 < 별첨 7> 연도별내외국인의출원건수, 증가율및점유율 구분 전체 내국인외국인 건 수 72,844 73,751 76,584 90, , , , , , ,172 증가율 1.2% 3.8% 17.9% 16.5% 16.1% 2.7% 2.5% -1.2% 7.2% 점유율 71.4% 70.4% 72.0% 75.8% 75.1% 75.6% 75.2% 74.5% 74.5% 74.1% 건 수 29,208 30,950 29,763 28,812 34,858 39,374 41,369 44,117 43, ,930 증가율 6.0% -3.8% -3.2% 21.0% 13.0% 5.1% 6.6% -1.4% 5.1% 점유율 28.6% 29.6% 28.0% 24.2% 24.9% 24.4% 24.8% 25.5% 25.5% 25.9% < 별첨 8> 연도별내외국법인및개인의출원건수 구분 총계 내국개인 22,163 19,156 17,968 19,672 20,503 22,743 25,521 30,766 32, ,789 내국법인 50,681 54,595 58,616 70,637 84,719 99,465 99,973 97,908 94, ,383 외국개인 ,067 1,058 8,271 외국법인 28,384 30,130 28,891 27,971 34,000 38,408 40,404 43,050 42, ,659 무국적 총계 102, , , , , , , , ,632 1,244,635 < 별첨 9> 내외국법인및개인의 1 특허당평균청구항수 구분 평균청구항수 내국개인 내국법인 외국개인 외국법인 The Patent Trend in Korea 2009

67 < 별첨 10> 내외국법인의연도별출원인수동향 구분 내국법인 8,651 8,481 8,135 8,520 9,007 10,552 11,807 13,690 14,430 외국법인 5,734 5,839 5,938 5,747 6,541 6,943 7,380 7,997 7,902 < 별첨 11> 주요국가의연도별특허출원건수및점유율 국적 총계점유율 대한민국 72,844 73,751 76,584 90, , , , , , , % 일본 12,280 14,120 13,361 13,014 14,833 16,767 17,945 18,280 17, , % 미국 8,606 7,866 7,237 7,552 9,259 10,639 10,419 12,082 12,376 86, % 독일 2,779 3,068 2,679 2,497 2,657 2,976 3,314 3,602 3,600 27, % 네덜란드 976 1,352 1, ,978 2,333 2,111 1,647 1,282 14, % 프랑스 1, ,081 1,064 1,311 1,396 1,411 1,389 1,487 11, % 스위스 ,239 1,229 7, % 영국 , % 스웨덴 , % 대만 , % 기타 1,672 1,713 1,918 1,942 2,631 2,691 3,299 3,861 3,933 23, % 무국적 % 총계 102, , , , , , , , ,632 1,244, % 2009 한국의특허동향 61

68 < 별첨 12> 주요국가의 Top25 출원인의출원건수및점유율 (1) 대한민국 922,172 일본 138,140 출원인출원건수점유율출원인출원건수점유율 삼성전자주식회사 99, % 소니 8, % 엘지전자주식회사 70, % 파나소닉 6, % 현대자동차주식회사 35, % 세이코엡슨 3, % 하이닉스반도체 29, % 미쓰비시덴키 3, % 삼성에스디아이주식회사 17, % 도시바 3, % 엘지디스플레이주식회사 16, % 후지쯔 3, % 한국전자통신연구원 15, % 히다치세이사꾸쇼 3, % 포스코 12, % 산요덴키 3, % 주식회사대우일렉트로닉스 9, % 캐논가부시끼가이샤 2, % 삼성전기주식회사 9, % 샤프가부시키가이샤 2, % 동부일렉트로닉스주식회사 8, % 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 2, % 에스케이텔레콤 7, % 후지필름가부시키가이샤 1, % 기아자동차주식회사 6, % 닛본덴끼 1, % 엘지화학 5, % 가부시키가이샤한도오따이에네루기켄큐쇼 1, % 매그나칩반도체유한회사 5, % 스미또모가가꾸 1, % 현대모비스주식회사 4, % 도요타지도샤 ( 주 ) 1, % 엘지이노텍주식회사 4, % 닛토덴코 1, % 주식회사엘지이아이 4, % 엔이씨일렉트로닉스 1, % 주식회사팬택 4, % 무라타세이사쿠쇼 1, % 만도 3, % 신에쓰가가꾸고교 % 주식회사케이티 3, % 혼다기켄고교 % 주식회사팬택앤큐리텔 3, % 제이에스알 % 주식회사동부하이텍 3, % 가부시끼가이샤르네사스테크놀로지 % 한라공조 2, % 티디케이 % 한국과학기술원 2, % 엔. 티. 티. 도코모 % 62 The Patent Trend in Korea 2009

69 < 별첨 13> 주요국가의 Top25 출원인의출원건수및점유율 (2) 미국 86,036 독일 27,172 출원인출원건수점유율출원인출원건수점유율 퀄컴인코포레이티드 3, % 바스프에스이 2, % 미네소타마이닝앤드매뉴팩춰링캄파니 2, % 로베르트보쉬 2, % 마이크로소프트코포레이션 2, % 지멘스악티엔게젤샤프트 1, % 인터내셔널비지네스머신즈코포레이션 2, % 인피니언테크놀로지스아게 1, % 어플라이드머티어리얼스, 인코포레이티드 1, % 메르크파텐트 % 이아이듀폰디네모아앤드캄파니 1, % 바이엘악티엔게젤샤프트 % 모토로라인코포레이티드 1, % 에보닉데구사게엠베하 % 인텔코오퍼레이션 1, % 바이엘크롭사이언스아게 % 인터디지탈테크날러지코포레이션 1, % 바이엘머티리얼사이언스아게 % 킴벌리 - 클라크월드와이드, 인크. 1, % 베링거잉겔하임인터내쇼날유한회사 % 제너럴일렉트릭캄파니 1, % 에스엠에스데마그악티엔게젤샤프트 % 루센트테크놀러지스인크 1, % 사노피 - 아벤티스도이칠란트 % 더프록터앤드갬블캄파니 1, % 젯트에프프리드리히스하펜아게 % 다우글로벌테크놀로지스인크 % 파텐트-트로이한트-게젤샤프트퓌어엘렉트리쉐글뤼람펜엠베하 % 마이크론테크놀로지, 인크 % 바이엘쉐링파마악티엔게젤샤프트 % 어드밴스드마이크로디바이시즈, 인코포레이티드 % 루크라멜렌운트쿠플룽스바우베타일리궁스카게 % 프리스케일세미컨덕터, 인크 % 쉐플러카게 % 램리써치코포레이션 % 와커헤미아게 % 롬앤드하스캄파니 % 비에스에치보쉬운트지멘스하우스게레테게엠베하 % 코닝인코포레이티드 % 칼짜이스에스엠티아게 % 허니웰인터내셔널인코포레이티드 % 쇼오트아게 % 화이자프로덕츠인크 % 에보니크룀게엠베하 % 와이어쓰홀딩스코포레이션 % 에어프로덕츠앤드케미칼스, 인코오포레이티드휴렛-팩커드디벨롭먼트컴퍼니, 엘. 피 % 프라운호퍼 - 게젤샤프트츄어푀르더룽데어안게반텐포르슝에. 파우. 노키아지멘스네트웍스게엠베하운트코. 카게 % % % 오스람옵토세미컨덕터스게엠베하 % 2009 한국의특허동향 63

70 < 별첨 14> 주요국가의 Top25 출원인의출원건수및점유율 (3) 네덜란드 14,234 프랑스 11,084 출원인출원건수점유율출원인출원건수점유율 코닌클리케필립스일렉트로닉스엔. 브이. 8, % 톰슨라이센싱 2, % 엔엑스피비브이 1, % 로레알 % 에이에스엠엘네델란즈비. 브이 % 아르끄마프랑스 % 디에스엠아이피어셋츠비. 브이 % 쌩-고벵글래스프랑스 % 셀인터나쵸나아레레사아치마아츠샤피비이부이 % 사노피-아벤티스 % 사빅이노베이티브플라스틱스아이피비. 브이 % 알카텔루슨트 % 악조노벨엔. 브이 % 르라보레또레쎄르비에르 % 유니레버엔. 브이 % 소시에떼드테크놀로지미쉐린 % 히다치글로벌스토리지테크놀로지스네덜란드비. 브이 % 로디아쉬미 % 코닌클리즈케디에스엠엔. 브이 % 아벤티스파마 % 엔. 브이. 오가논 % 르노에스. 아. 에스 % 에이에스엠엘홀딩엔. 브이 % 꼼미사리아아레네르지아토미끄 % 바셀테크놀로지캄파니비이브이 % 프랑스뗄레꽁 % 솔베이파마슈티칼스비. 브이 % 레르리키드쏘시에떼아노님뿌르레뚜드에렉스뿔라따시옹데프로세데조르즈클로드 % 에이에스엠인터내셔널엔. 붸 % 아이에프피 % 에이에스엠엘마스크툴즈비. 브이 % 에프씨아이 % 에스케이에프엔지니어링앤리서치센터비. 브이 % 발레오에뀝망엘렉뜨리끄모떼르 % 제임스하디인터내셔널파이낸스비. 브이 % 에씰로아인터내셔날 / 콩파니에제네랄도프티크 % 알베마를네덜란드비. 브이 % 넥쌍 % 크레이튼폴리머즈리서치비. 브이 % 에스. 오. 이. 떼끄씰리꽁오냉쉴라또흐떼끄놀로지 % 피코비. 브이 % 입센파마에스. 에이. 에스 % 아크조코팅스인터내셔널비. 브이 % 상뜨르나쇼날드라러쉐르쉬샹띠피끄 ( 쎄엔알에스 ) % 톰톰인터내셔날비. 브이 % 탈레스 % 아셈블레온비. 브이 % 바이엘크롭사이언스 % 어플라이드리서치시스템스에이알에스홀딩엔. 브이 % 아. 레이몽에씨에 % 64 The Patent Trend in Korea 2009

71 < 별첨 15> 주요국가의 Top25 출원인의출원건수및점유율 (4) 스위스 7,372 영국 5,316 출원인출원건수점유율출원인출원건수점유율 에프. 호프만-라로슈아게 % 글락소그룹리미티드 % 노바티스아게 % 이노베이티브소닉리미티드 % 시바홀딩인크 % 스미스클라인비이참피이엘시이 % 신젠타파티서페이션즈아게 % 신젠타리미티드 % 신세스게엠바하 % 비피케미칼즈리미티드 % 알콘, 인코퍼레이티드 % 존슨맛쎄이퍼블릭리미티드컴파니 % 인벤티오아게 % 키네티큐리미티드 % 테트라라발홀딩스앤드피낭스 % 브리티쉬텔리커뮤니케이션즈파블릭리미티드캄퍼니 % 훈츠만어드밴스트머티리얼스 ( 스위처랜드 ) % 캠브리지디스플레이테크놀로지리미티드 % 필립모리스프로덕츠에스. 에이 % 에드워즈리미티드 % 소시에떼데프로듀이네슬레 % 에이알엠리미티드 % 코비디엔아게 % 다이슨테크놀러지리미티드 % 아슬라브쏘시에떼아노님 % 아스트라제네카유케이리미티드 % 봅스트 % 인피늄인터내셔날리미티드 % 에타쏘시에떼아노님마누팍투레홀로게레스위세 % 시바스페셜티케미칼스워터트리트먼츠리미티드 % 지보당에스아 % 자아테크날러쥐리미티드 % 액테리온파마슈티칼리미티드 % 스위치드릴럭턴스드라이브즈리미티드 % 론자아게 % 브리티쉬아메리칸토바코 ( 인베스트먼츠 ) 리미티드 % 네스텍소시에테아노님 % 뉴트랜스듀서스리미티드 % 베르트질레슈바이츠악티엔게젤샤프트 % 화이자리미티드 % 롤리크아게 % 언액시스인터내셔널트레이딩엘티디 % 디씨에이디자인인터내셔널리미티드 루사이트인터내셔널유케이리미티드 % % 엠스 - 케미에악티엔게젤샤프트 % 비티지인터내셔널리미티드 % 아레스트레이딩에스. 아 % 캠브리지엔터프라이즈리미티드 % 에스티마이크로일렉트로닉스엔. 브이 % 라이프스캔스코트랜드리미티드 % 2009 한국의특허동향 65

72 < 별첨 16> 주요국가의 Top25 출원인의출원건수및점유율 (5) 스웨덴 5,159 대만 3,757 출원인출원건수점유율출원인출원건수점유율 텔레폰악티에볼라겟엘엠에릭슨 ( 펍 ) 1, % 인더스트리얼테크놀로지리써치인스티튜트 % 아스트라제네카아베 % 우옵트로닉스코포레이션 % 볼보컨스트럭션이키프먼트홀딩스웨덴에이비 % 산드빅인터렉츄얼프로퍼티에이비 % 타이완세미콘덕터매뉴팩쳐링컴퍼니리미티드치메이옵토일렉트로닉스코포레이션 % % 오토리브디벨로프먼트에이비 % 옵티맥스테크놀러지코포레이션 % 쎄코툴스에이비 % 어드벤스드칩엔지니어링테크놀로지, 인크 % 소니에릭슨모빌커뮤니케이션즈에이비 % 프라임뷰인터내셔널코오포레이션리미티드 % 에스체아히기에너프로덕츠악티에볼라그 % 인벤텍코퍼레이션 % 감브로룬디아아베 % 티피오디스플레이스코포레이션 % 마이크로닉레이저시스템즈아베 % 신에트케테크놀로지컴퍼니리미티드 % 에이비비에이비 % 노바텍마이크로일렉트로닉스코포레이션 % 알파라발코포레이트악티에볼라그 % 선온웰스일렉트릭머신인더스트리컴퍼니리미티드 % 에이엠씨센츄리온에이비 % 인스티튜트포인포메이션인더스트리 % 회가내스아베 % 혼하이프리시젼인더스트리컴퍼니리미티드 % 화이자헬스에이비 % 아스텍컴퓨터인코퍼레이티드 % 아크티에볼라게트에스케이후 % 파이룽머시너리밀코., 엘티디 % 돌비스웨덴에이비 % 오리엔트세미컨덕터일렉트로닉스리미티드 % 바이오비트럼에이비 ( 피유비엘 ) % 에피스타코포레이션 % 아노토아베 % 이터널케미칼컴퍼니리미티드 % 엑스카운터에이비 % 레디언트옵토 - 일렉트로닉스코포레이션 % 게스탐프하르트테크아베 % 하이맥스테크놀로지스, 인코포레이션 % 스카니아씨브이악티에볼라그 % 리엔창일렉트로닉 % 지이헬스케어바이오 - 사이언시스에이비 % 에이유오프트로닉스코퍼레이션 % 카로바이오에이비 % 윈텍코포레이숀 % 엑시스에이비 % 루오친쿠앙 % 66 The Patent Trend in Korea 2009

73 < 별첨 17> 주요대기업의연도별특허출원건수 (1) 출원인 합계 삼성전자주식회사 5,124 6,641 8,358 11,034 14,929 17,838 16,661 11,490 7,306 99,381 엘지전자주식회사 4,232 5,668 7,200 8,965 11,075 13,163 8,440 5,955 5,687 70,385 현대자동차주식회사 4,025 4,192 4,013 3,902 3,908 3,610 4,522 4,257 3,246 35,675 하이닉스반도체 3,517 2,855 2,295 2,545 3,050 3,235 3,682 4,218 3,714 29,111 삼성에스디아이주식회사 ,643 4,181 4,274 2,902 1, ,155 엘지디스플레이주식회사 711 1,020 1,699 2,232 1,929 2,596 3,152 1,891 1,338 16,568 포스코 2,015 2,690 2,184 1, ,148 1, ,872 주식회사대우일렉트로닉스 ,165 2,535 1,951 1, ,615 삼성전기주식회사 ,504 1,501 1,575 1,610 9,181 동부일렉트로닉스주식회사 ,125 1,756 1,675 1, ,149 에스케이텔레콤 ,210 1,505 1,097 1, ,561 기아자동차주식회사 1,142 1, ,519 엘지화학 ,302 1,142 1,141 5,698 매그나칩반도체유한회사 ,106 1,137 1, ,439 현대모비스주식회사 , ,592 엘지이노텍주식회사 ,215 주식회사엘지이아이 2,122 1, ,087 주식회사팬택 ,404 1, ,051 만도 ,915 주식회사케이티 ,810 주식회사팬택앤큐리텔 ,420 주식회사동부하이텍 ,656 1,573 3,311 한라공조 ,976 케이티프리텔 ,624 세메스주식회사 , 한국의특허동향 67

74 < 별첨 18> 주요대기업의연도별특허출원건수 (2) 출원인 합계 제일모직주식회사 ,117 위니아만도주식회사 ,113 현대오토넷 ,004 금호타이어 ,903 코오롱 ,867 엘지노텔주식회사 ,838 현대중공업 ,763 삼성테크윈주식회사 ,753 한국타이어주식회사 ,676 주식회사엘에스 ,644 두산인프라코어 ,594 주식회사효성 ,484 주식회사엘지텔레콤 ,462 하이디스테크놀로지주식회사 ,436 엔에이치엔 ( 주 ) ,401 삼성광주전자 ,352 엘지생활건강 ,342 삼성중공업주식회사 ,222 엘에스산전주식회사 ,160 삼성디지털이미징주식회사 ,119 한국델파이 ,108 노틸러스효성 ,024 ( 주 ) 아모레퍼시픽 삼성모바일디스플레이주식회사 한국단자공업주식회사 The Patent Trend in Korea 2009

75 < 별첨 19> 주요중소기업의연도별특허출원건수 (1) 출원인 합계 주식회사비즈모델라인 ,746 주식회사에이디피엔지니어링 유티스타콤코리아유한회사 주성엔지니어링 ( 주 ) 엠텍비젼주식회사 삼성코닝 주식회사케이씨텍 미래산업 메디슨 대우전자부품 ( 주 ) 브이케이 서울옵토디바이스주식회사 탑엔지니어링 주식회사디엠에스 주식회사한선엔프라 주식회사아이피에스 모딘코리아유한회사 팅크웨어 ( 주 ) 이엠따블유안테나 주식회사대우아이에스 파이컴 콘티넨탈오토모티브일렉트로닉스주식회사 현대아이티 주식회사알티캐스트 주식회사비에스이 한국의특허동향 69

76 < 별첨 20> 주요중소기업의연도별특허출원건수 (2) 출원인 합계 ( 주 ) 케이이씨홀딩스 ( 주 ) 씨앤에스테크놀로지 ( 주 ) 디피아이홀딩스 이오테크닉스 주식회사에이엠오 ( 주 ) 엘티엠에이피 오리온전기 뉴파워프라즈마 ( 주 ) 에이스안테나 주식회사에이스테크놀로지 에스앤에스텍 엘리아테크 한국정보통신주식회사 크루셜텍 ( 주 ) 오리온피디피주식회사 다이아벨 코미코 에이피시스템주식회사 주식회사나래나노텍 ( 주 ) 테크윙 대창 주식회사젠트로 은나노기술 다스 주식회사다산네트웍스 The Patent Trend in Korea 2009

77 < 별첨 21> 중앙행정기관의연도별특허출원건수 출원인 합계 대한민국 ( 관리부서 : 농촌진흥청 ) 대한민국 ( 식품의약품안전청장 ) 대한민국 ( 산림청장 ) 대한민국 ( 관세청장 ) 대한민국 ( 경찰청장 ) 대한민국 ( 기상청장 ) 대한민국 ( 소방방재청장 ) 대한민국 ( 조달청장 ) 대한민국 ( 광주. 전남지방중소기업청 ) 대한민국 ( 중소기업청장 ) 대한민국 ( 관리부서 : 중앙선거관리위원회위원장 ) 대한민국철도청 대한민국 ( 법무부장관 ) 대한민국 ( 관리부서 : 산림청 ) 대한민국 ( 관리부서국토해양부장관 ) 대한민국 ( 국세청장 ) 대한민국 ( 산림청, 남부지방산림청장 ) 대한민국 ( 산림청, 북부지방산림관리청장 ) 대한민국 ( 서울지방경찰청 ) 대한민국 ( 관리부서 : 농림수산식품부장관 ) 대한민국 ( 관리부서 : 대통령비서실장 ) 대한민국 ( 관리부서 : 해양수산부제주지방해양수산청장 ) 대한민국 ( 관리부서검찰총장 ) 대한민국 ( 국방부장관 ) 대한민국 ( 기획재정부장관 ) 대한민국 ( 방위사업청장 ) 대한민국 ( 병무청장 ) 대한민국 ( 부산지방식품의약품안전청장 ) 대한민국 ( 산림청, 동부지방산림관리청 ) 대한민국 ( 지식경제부장관 ) 대한민국 ( 해양수산부장관 ) 대한민국 ( 행정안전부장관 ) 한국의특허동향 71

78 < 별첨 22> 주요지방자치단체의연도별특허출원건수 출원인 합계 전라남도 충청북도 담양군 경상남도 광주광역시남구 강원도 보은군 강화군 무안군 고창군 진도군 전라북도 서울특별시 경기도 괴산군 충청남도 문경시 청양군 거창군 ( 관리부서 : 거창군농업기술센터 ) 순창군 연천군 제주특별자치도 제천시 울진군 구례군 강원도화천군 강원도고성군 ( 관리부서농업기술센터 ) 금산군 경상북도예천군 창녕군 The Patent Trend in Korea 2009

79 < 별첨 23> 준정부기관의연도별특허출원건수 출원인 합계 한국산업기술평가원 ( 관리부서 : 요업기술원 ) 정보통신연구진흥원 한국정보보호진흥원 한국산업안전보건공단 한국농어촌공사 한국전기안전공사 한국광해관리공단 한국가스안전공사 한국문화콘텐츠진흥원 중소기업진흥공단 한국시설안전공단 한국전력거래소 한국철도시설공단 한국인터넷진흥원 한국정보사회진흥원 한국환경자원공사 한국원자력안전기술원 한국산업기술시험원 환경관리공단 한국예탁결제원 교통안전공단 도로교통공단 대한지적공사 신용보증기금 재단법인한국산업기술재단 ( 주 ) 한국거래소 서울올림픽기념국민체육진흥공단 한국소프트웨어진흥원 한국자산관리공사 대한무역투자진흥공사 한국의특허동향 73

80 < 별첨 24> 공기업의연도별특허출원건수 출원인 합계 한국전력공사 한국수자원공사 한국조폐공사 한국가스공사 한국도로공사 대한주택공사 한국철도공사 한국토지공사 한국지역난방공사 대한광업진흥공사 한국공항공사 한국석유공사 인천국제공항공사 한국산재의료원 한국감정원 대한석탄공사 부산항만공사 인천항만공사 한국마사회 한국방송광고공사 한국컨테이너부두공단 The Patent Trend in Korea 2009

81 < 별첨 25> 기타공공기관의연도별특허출원건수 출원인 합계 한국전자통신연구원 ,276 1,368 1,523 2,244 2,807 2,877 2,463 15,896 한국과학기술연구원 ,362 한국화학연구원 ,539 한국기계연구원 ,388 한국원자력연구원 ,200 한국생명공학연구원 ,107 한국생산기술연구원 ,054 한국전기연구원 ,038 한국에너지기술연구원 한국건설기술연구원 한국표준과학연구원 한국철도기술연구원 한국항공우주연구원 국방과학연구소 한국해양연구원 한국식품연구원 한국지질자원연구원 한국기초과학지원연구원 한전케이피에스 한국한의학연구원 한국과학기술정보연구원 한국수력원자력주식회사 한전케이디엔주식회사 한국서부발전 한국건설관리공사 한국동서발전 재단법인한국원자력의학원 한국남동발전 한전원자력연료 한국중부발전 한국의특허동향 75

82 < 별첨 26> 기타중앙공공기관의연도별특허출원건수 출원인 합계 대한민국 ( 관리부서 : 산림청국립산림과학원장 ) 대한민국 ( 관리부서 : 국립수산과학원 ) 대한민국 ( 관리부서 : 농림수산식품부국립수의과학검역원 ) 한국방송공사 대한민국 ( 관리부서 : 국세청기술연구소장 ) 대한민국 ( 관리부서질병관리본부장 ) 대한민국 ( 기술표준원 ) 대한민국 ( 관리부서 : 환경부국립환경과학원장 ) 대한민국 ( 국립농산물품질관리원장 ) 대한민국 ( 산림청국립수목원장 ) 대한민국 ( 관리부서 : 국립문화재연구소 ) 대한민국 ( 관리부서 : 국립보건원장 ) 대한민국 ( 관리부서 : 정보통신부전파연구소 ) 대한민국 ( 관리부서 : 지식경제부기술표준원장 ) 대한민국 ( 관리부서 : 행정자치부국립과학수사연구소장 ) 대한민국 ( 국립종자원장 ) 대한민국 ( 과학기술부국립중앙과학관장 ) 대한민국 ( 관리부서 : 건설교통부항공안전본부 ) 대한민국 ( 관리부서 : 국립수산진흥원동해수산연구소 ) 대한민국 ( 관리부서 : 산림청임업연구원 ) 대한민국 ( 국가기록원 ) 대한민국 ( 국립국악원장 ) 농촌진흥청농업기술연구소 대한민국 ( 관리부서 : 산림청산림항공관리본부장 ) 대한민국 ( 농림식품부국립식물검역원장 ) The Patent Trend in Korea 2009