0 "IT/ET/BT 무결점클린환경카엘이만듭니다." PROFILE R&D PRODUCT 카엘본사 기업부설연구소 VISION
1 회사개요 카엘 (KAEL Co., Ltd.) 설립일 1998 년 3 월 10 일 ( 원자력연구소연구원창업회사 ) 소재사업 Coating Resin, Catalyst 사업영역 반도체 / 디스플레이공정클린사업 : CA Filter, AL FilterDry, Gas Scrubber/Resin, Ion Exchange Scrubber, F2 Trap 등 장치 / 시스템환경사업 : Total Off-Gas Control System, 대기오염 / 악취방지설비특수환경오염제어기등 자본금 3,498 백만원 자산 22,322 백만원 매출액 13,784 백만원 (2006 년기준 ) 종업원수 83 명 ( 연구개발인력 18 명 ) 본사대전시유성구탑립동대덕테크노밸리 I3-8-4BL 대지 9,256.00 m2 (2,800 평 ) 부설연구소대전시대덕구신일동 1690-2 대지 3,970 m2 (1,200 평 )
2 주요경영진및조직도 IT/ET/BT 분야무결점클린환경을주도하는초일류전문기업 주요경영진 조직도직도 직책 대표이사 성명 이후근 약력 전남대화공학박사 한국원자력연구소책임연구원 담당업무 CEO 관리팀 기획 / I R 인사 / 총무 대표이사 이성근 조선대화공학과 동중건설대표이사 경영총괄사장 고문 회계 / 자금영업관리 부사장 임채환 충남대학원인사관리전공 블루코드테크놀로지대표이사 관리자문 사장 영업팀 국내영업 해외영업 고 문 서인석 동아대화공학박사 한국원자력연구소연수원장 연구자문 이사회 장치영업 Resin 생산 이 사 노장수 고려대경영대학원 ( 재무전공 ) LG 전자기술원부장 한국아이티벤처투자 이사 자문역 생산팀품질환경팀 CA 생산구매 / 자재 감 사 이수형 충남대학원재무관리전공 공인회계사 감사 감사 CEO 부설연구소특수사업팀 필터개발장치개발
3 회사개요 카엘연혁 카엘주요인증 / 수상경력 1998년주식회사카엘설립 ( 원자력연구소연구원창업회사 ) 1999년 NH 3 /O 3 제거용 CA Filter 국산화 2000년공장및기업부설연구소준공 2001년반도체공정용 CA Filter 적용 2003년 CA Filter 삼성반도체납품 2005년 KOSDAQ 상장 2005년디스플레이공정용 CA Filter 납품 2006년 CA Filter 중국 / 싱가폴수출 2007년신개념 Filter Media 개발및미주시장진출 1999년유망중소기업지정 (KAERI/ 대전시 ) 1999년 ISO 9001:2000 인증 2002년 CA Filter TEL 인증 2003년기술혁신형중소기업 (INNO-BIZ) 선정 2003년기술혁신상금상수상 ( 국무총리상 ) 2003년 CA Filter 삼성 Qual 인증 2005년우수납세자국세청장상수상 2005년벤처기업재지정 ( 신기술기업 ) 2006년 ISO 14001:2004 ( 환경경영시스템 ) 인증 2007년수출유망중소기업인증첨단기술기업지정 ( 과기부 ) OHSAS 및 ASML Qual 진행중
4 연구개발현황 년도개발명 1999 년 2000 년 CA Filter 개발 (Carbon Type, Fabric Type, Pleat Type) 반도체유해가스제거용 Coating Resin 개발 VSA 방식을이용한 VOC 회수장치개발 O 3 CA Filter 개발 NH 3 CA Filter 개발 (Carbon Type) 반도체용 Zygo Laser Repair 기술개발 2001 년 이온교환섬유와이온교환수지를이용한 Media 제조와이를응용한 Wet Scrubber 장치개발 NH 3 CA Filter 개발 ( 이온교환부직포 Type, 이온교환수지 Type) Ion Exchange Scrubber 와 Coating Resin 을이용한소각로유해가스제거기술개발 소각로배기가스처리설비개발 2002 년 CO Filter 개발 NH 3 CA Filter 개발 ( 이온교환수지 Type) Hybrid Filter(O 3 +NOx) 개발 NF 3, ClF 3, AsH 3, PH 3, BF 3 제거용 Coating Resin 개발
5 연구개발현황 년도개발명 2003 년 특수환경오염제어기개발 ( 산업용, 화장실용, RI용, 야채 / 화훼용 ) Hybrid Filter(NH 3 +SOx+NMP+Amine+NOx) 개발 Cyplus CA Filter 개발 ( 삼성반도체와공동특허취득 ) 국산개발군용 Coating Resin (MIL-C-1372D 규격 ) 성능시험인증 (GB시험제외 ) Ion Exchange Scrubber 개발 2004 년 저압력손실 CA Filter( 오존필터 type) 개발 Acid CA Filter 개발 ( HCl, Cl 2, HF, SO X, NO X, 기타부식성 Gas) 개별 CA Filter Housing Microwave Dryer 개발 Organic CA Filter 개발 (Display 공정적용 ) 2005 년 PFC Scrubber 시스템개발, CO/CO₂ 흡착제개발 Coating Resin 개발 (HCl, BCl₂ 등 ) Hybrid CA Filter 개발 (NH₃/ SO X ) 저압력손실 CA Filter( 암모니아 type) 개발 성형활성탄개발 대덕연구개발특구기능성나노기공소재개발및사업화기업선정 (~ 2008 년 ) 표면개질활성탄을이용한 O 3 CA Filter 개발 2006 년 액상촉매제를이용한 VOCs 저감설비기술도입및사업화추진 NGM (New Generation Media) Filter 개발
6 산업재산권등록현황 특허등록 특허 45 건 / 실용신안 10 건보유 - 복합흡착제를사용하여반도체제조공정에서발생되는배기가스를처리하는처리방법 - 세라믹관을이용하여가스스크러버연소로의부식을억제하는방법 - 케미컬필터미디엄, 케미컬필터및이의제조방법 - 이온교환수지를이용한케미컬필터여재 - 허니컴형태의케미칼필터의제작방법 - 첨착활성탄을도포한망체와이온교환부직포를이용한케미칼필터제작방법 - 조합형케미컬필터의제작방법 - 이온교환섬유와이온교환수지를결합시킨복합이온교환필터와이를이용한케미칼필터 - 유해가스및분진을효과적으로제거할수있는가스스크러버외다수
7 사업영역 사업영역 사업부문별매출구성 확장사업 CA Filter Gas Scrubber/ Resin Environment enterprise section ( 단위 : 억 ) 핵심소재 Coating Resin Catalyst 응용사업 반도체 / 디스플레이공정클린화 장치사업분야 특수가스제거 산업환경개선대기오염방지사업실내공기질개선수처리국방사업 57 15 87 80 17 15 110 15 Semi / display 10 해외수출 3 5 2003 2004 2005 2006 8 3 일반환경
8 제품구성 사업구분 적용주요제품 기초핵심소재 Coating Resin (Impregnated Active Carbon, Inorganic Adsorbant, Catalyst) 반도체 / 디스플레이사업 CA Filter ( NH3, O3, Organic, ACID, SO 2, Amine, SOx, NOx, NMP... ) CYPLUS-1000 Series ( FFU용 )/ CYPLUS-2000 Series ( 순환기용 ) CYPLUS-3000 Series ( 외조기용 )/ CYPLUS-5000 Series ( 장비용 ) CYPLUS-6000 System A-Line Filter ALPLUS-1000, 2000, 3000 Serise Gas Scrubber/Resin, Ion Exchange Scrubber 환경사업 대기오염방지시스템 (VOC 회수 / 제거설비, 악취제거설비, De-NOx 설비 ) 특수가스제거장치 (Gas Filtering System, 특수환경오염제어기 ) Total Off-Gas Control System 생활환경보호 ( 탈취제, 공기청정기필터, 수도정수장치 ) 국방사업 군용 Coating Resin, 군용방독면정화통 가스여과기 ( 함상용, 전차용 )
9 Coating Resin ( 주요용도및적용처 ) 반도체클린룸화학오염물질제거를통한생산성향상 디스플레이공정화학오염물질제거 부식성가스제거를통한배관부식방지및공정이상방지 방사성관리구역방사성가스제거 소각로다이옥신제거 군용독가스제거 CO Gas 제거 VOCs 제거 성형 Coating Resin Cl 2 무기흡착제 HCl 무기흡착제 PFC 분해촉매
10 주요제품 반도체및디스플레이관련소재, 장비의국산화 구분주요기능경쟁사대비비교우위 CA Filter 생산공정상불량률증가의직접적인원인이되는암모니아, 오존, 유기물등을제거 기술적우위 저압력손실 None Out-gassing Long Life Time Pleat Type Tray Type V-Bed Type Round Type 공정의집적화 / 미세화에따른생산수율향상을위한필수품 수입품에비해성능이나가격면에서 30% 이상의우위 원가및가격경쟁력 납기단축및 A/S 흡착제자체생산 원부자재자체가공 자체원천기술보유 분석장비 / 능력보유 Gas Scrubber (Resin) Dry Scr' 이온교환 Scr' 액상촉매 Scr'
11 CA Filter? 고청정공간유지 ( 화학오염원 ) 를통한생산성향상의필수품 시대별반도체오염원및제거기술 Oxygen etc V-BED PLEAT 오염원의영향 주된오염원및제거대상제거기술및방법 Chemical Gases (Mix / organic) (CA Filter 국산화 ) Chemical Gases (CA Filter, 수입 ) Air Particle Contaminant ( 밀폐공간유지 /HEPA Filter) Round TRAY HYBRID V-Bank Metal Contaminant (Wet Cleaning Tech) 1960 1970 1980 1990 2000 2010 2020 [ 공기청정협회공기청정기술지 06/12] CA Filter Type
12 CA Filter? 극저농도분자상물질제어기술 Type KAEL s Model Target Gases MA MB MC MD Ozone VOCs CYPLUS-1000 Series o o CYPLUS CYPLUS-1000 Series o o o CYPLUS-1000 Series o o o o o PLEAT CYPLUS-1000 Series o o CYPLUS-2000 Series o o o o TRAY CYPLUS-3000 Series o o o o o o PANEL CYPLUS-5000 Series o o o o o o V-BED CYPLUS-5000 Series o o o o o o MA : Molecular Acids (SOx, NOx, HCl, Cl 2, HF, H 2 S,), MB : Molecular Bases (NH 3, Amine, NMP..,) MC : Molecular Condensables (MW.120, BP.150 Organic material), MD : Dopants (Arsine, Boric Acid, Phosphorus,) Ozone : O 3, VOCs : Volatile organic compounds)
13 Application for Semiconductor Semiconductor 300mm FAB PHOTO ZONE DIFFUSION/CVD ZONE 4 Round or Pleat Type 3 Round or Pleat Type ( CYPLUS-1000 Series) 3 3 1 2 4 4 ( CYPLUS-1000 Series) W.S.S 5 6 W.S.S Out Air Out Air PRE+MEDIUM HEPA HEPA PRE+MEDIUM 5 TRAY Type (CYPLUS-3200 Series) 1 V-BED Type (CYPLUS-5400 Series) 2 Pleat Type (CYPLUS-1100 Series) 6 TRAY Type (CYPLUS-3200 Series)
14 Application for Display 디스플레이 (LCD,PDP) 예시 TFT ZONE COLOR FILTER ZONE 4 3 Out Air W.S.S 1 2 W.S.S Out Air PRE+MEDIUM HEPA HEPA PRE+MEDIUM 1, 2 CA Filter Unit (TRAY Type) (CYPLUS-6000 SYSTEM) 3, 4 PLEAT, V-BED Type (CYPLUS-6000 Series)
15 Dry Scrubber Resin Process Film Gas KAEL Model No. 비고 Etch Metal Al Cl 2, BCl 3, SF 6, C 2 F 6 KSC-01 Dry Poly W Cl 2, HBr, CF 4, CHF 3 KSC-02 Dry Ion Implant DOPE AsH 3, PH 3, BF 3 KSA-01 Dry BPSG TEOS, TMP, TMB, NF 3, C 2 F 6 KST-01 Dry Core Oxide TEOS, TMP, NF 3, C 2 F 6 KST-01 Dry CVD W-CVD SiH 4, WF 6, NF 3 KSS-01 Dry Poly Cide DCS, NH 3 KSD-01 Dry IMO,ARC,HDP 등 SiH 4, PH 3, WF 6, HCl, NF 3 KSN-01 Dry Chamber Cleaning ClF 3 KSCC-01 Dry
16 GAS Scrubber Application 반도체적용예시 2차 Scr' VENT Etch/Diffusion CVD Process 생산장비 Pump KIX 600N Gas Scrubber Gas Scrubber
17 오염환경제어제품 핵심기술 / 소재의장치화및 System 화 환경오염제어장치 / 국방분야개발및적용제품군 환경소재 Coating Resin 방사성가스제거필터 유해가스제거장치 액상촉매 VOC Scrubber Total 오염제어시스템 특수사업 군용 Coating Resin 독가스제거용 Resin 장치 / 설비 소재및필터제조기술을바탕으로유해가스나악취가발생하는작업장의환경개선를위한제거가스별맞춤제작 System RI Filter 연구소및병원방사선관리구역의방사성가스및분진을기준치이하로제어하는필터및이를장착한장치
18 요약재무정보 [ 단위 : 백만원 ] 과 목 FY06 FY05 FY04 I. 유동자산 15,255 16,380 8,838 II. 고정자산 7,066 5,595 3,752 자 산 총 계 22,322 21,975 12,590 I. 유동부채 1,205 2,051 1,181 II. 고정부채 127 145 175 부 채 총 계 1,332 2,196 1,356 I. 자 본 금 3,498 3,498 2,711 II. 자본잉여금 8,531 8,626 1,459 III. 이익잉여금 11,644 8,390 7,010 IV. 자본조정 -2,684-735 54 자 본 총 계 20,989 19,779 11,234 매 출 액 13,784 10,273 10,910 영 업 이 익 3,563 1,690 4,418 경 상 이 익 4,171 2,116 4,263 순 이 익 3,592 1,650 4,038
19 Why KAEL? 외적요인 내적요인 투자확대및매년신규 FAB 증설 반도체 : 연평균 1개 FAB 증설및 12"FAB 전환 해외시장진출에따른수요증가 CA Filter 적용처확대반도체 -> LCD -> 바이오, 환경공학 Speed 자체개발생산에따른납기단축과 A/S 고객사의 Needs에따른공동개발 / 신기술제안및맞춤형제작 시장선점에의한시장우위 기술발전에따른오염원증가 고집적화에따라생산수율과직결된오염원의광범위한증가 환경규제의강화 독자기술에의한국산화 관련핵심기술의특허등록 ( 특허 48건 ) 자체분석장비및분석능력보유 대덕특구입주로인한인프라최적활용 교체수요에따른안정적수익원 지속적인교체가필요한소모품 제거대상 Gas의증가에따른교체주기단기화 안정적인재무구조및수익성 매출증가율 34% 차입금의존도 0% 자기자본비율 90% 첨단기술기업법인세 3년간면제
20 Vision 2007~2010 도약 2기 2011 ~ 주력시장 (ITEM) 1998~2002 준비기 98 년창업 Coating Resin 개발 CA Filter 개발 소재 2003~2006 성장기 반도체 / 디스플레이 CA Filter 적용 Hybrid Filter 개발 Unit( 필터 ) 공정오염제어 도약 1기 수출 1,000만불달성 장치기업으로의확장 클린룸적용전사업분야로의시장확대 공정오염제어대기환경국방시장 Global 환경 Brand 육성 Total 오염제어선도기업 공정오염제어대기환경수질환경국방시장바이오시장
21 " 독보적인환경오염제어기술로 무결점클린환경을 카엘이만들어갑니다. " 대전광역시유성구탑립동대덕테크노밸리 I3-8-4BL Tel : 042-931-6287~9 FAX : 042-931-9190 대전광역시대덕구신일동 1690-2 Tel : 042-935-3036~8 Fax : 042-935-3049