2-32

Similar documents
Microsoft PowerPoint - ch03ysk2012.ppt [호환 모드]

Microsoft PowerPoint - ch07ysk2012.ppt [호환 모드]

11¹Ú´ö±Ô

THE JOURNAL OF KOREAN INSTITUTE OF ELECTROMAGNETIC ENGINEERING AND SCIENCE Sep.; 30(9),

<B3EDB9AEC1FD5F3235C1FD2E687770>

6자료집최종(6.8))

- 2 -

public key private key Encryption Algorithm Decryption Algorithm 1

<4D F736F F F696E74202D F FB5BFBACEC7CFC0CCC5D820B1E8BFA9C8B22E BC8A3C8AF20B8F0B5E55D>

02이용배(239~253)ok

<B3EDB9AEC1FD5F3235C1FD2E687770>

PJTROHMPCJPS.hwp

<34372DB5B5BCADC1F6BFAA2E687770>

DBPIA-NURIMEDIA


step 1-1

歯M PDF

,,,,,, (41) ( e f f e c t ), ( c u r r e n t ) ( p o t e n t i a l difference),, ( r e s i s t a n c e ) 2,,,,,,,, (41), (42) (42) ( 41) (Ohm s law),

<BFA9BAD02DB0A1BBF3B1A4B0ED28C0CCBCF6B9FC2920B3BBC1F62E706466>


(Exposure) Exposure (Exposure Assesment) EMF Unknown to mechanism Health Effect (Effect) Unknown to mechanism Behavior pattern (Micro- Environment) Re


KAERIAR hwp

Journal of Educational Innovation Research 2018, Vol. 28, No. 4, pp DOI: * A Research Trend

#Ȳ¿ë¼®

Microsoft PowerPoint - ch25ysk.pptx

274 한국문화 73

Microsoft Word - multiple

328 退溪學과 韓國文化 第43號 다음과 같은 3가지 측면을 주목하여 서술하였다. 우선 정도전은 ꡔ주례ꡕ에서 정치의 공공성 측면을 주목한 것으로 파악하였다. 이는 국가, 정치, 권력과 같은 것이 사적인 소유물이 아니라 공적인 것임을 강조하는 것으로 조선에서 표방하는 유

pdf 16..

135 Jeong Ji-yeon 심향사 극락전 협저 아미타불의 제작기법에 관한 연구 머리말 협저불상( 夾 紵 佛 像 )이라는 것은 불상을 제작하는 기법의 하나로써 삼베( 麻 ), 모시( 苧 ), 갈포( 葛 ) 등의 인피섬유( 靭 皮 纖 維 )와 칠( 漆 )을 주된 재료

ÀÌÁÖÈñ.hwp

11¹ÚÇý·É


歯1.PDF

<BCADBFEFC1F6B9E6BAAFC8A3BBE7C8B85FBAAFC8A3BBE C1FD2831B1C7292E687770>

KAERI/AR-636/2002 : 技術現況分析報告書 : 방사선 계측기술 및 중성자 계측기 기술 개발 현황

Hi-MO 애프터케어 시스템 편 5. 오비맥주 카스 카스 후레쉬 테이블 맥주는 천연식품이다 편 처음 스타일 그대로, 부탁 케어~ Hi-MO 애프터케어 시스템 지속적인 모발 관리로 끝까지 스타일이 유지되도록 독보적이다! 근데 그거 아세요? 맥주도 인공첨가물이

<30342D313428C3D1C8ADC0CF292E687770>

10신동석.hwp

WHO 의새로운국제장애분류 (ICF) 에대한이해와기능적장애개념의필요성 ( 황수경 ) ꌙ 127 노동정책연구 제 4 권제 2 호 pp.127~148 c 한국노동연구원 WHO 의새로운국제장애분류 (ICF) 에대한이해와기능적장애개념의필요성황수경 *, (disabi

Á¶´öÈñ_0304_final.hwp

< C6AFC1FD28B1C7C7F5C1DF292E687770>

Microsoft PowerPoint - Ch8

歯AG-MX70P한글매뉴얼.PDF

민속지_이건욱T 최종

우리들이 일반적으로 기호

216 동북아역사논총 41호 인과 경계공간은 설 자리를 잃고 배제되고 말았다. 본고에서는 근세 대마도에 대한 한국과 일본의 인식을 주로 영토와 경계인 식을 중심으로 고찰하고자 한다. 이 시기 대마도에 대한 한일 양국의 인식을 살펴볼 때는 근대 국민국가적 관점에서 탈피할

< C6AFC1FD28B0F1C7C1292E687770>

1. 서론 1-1 연구 배경과 목적 1-2 연구 방법과 범위 2. 클라우드 게임 서비스 2-1 클라우드 게임 서비스의 정의 2-2 클라우드 게임 서비스의 특징 2-3 클라우드 게임 서비스의 시장 현황 2-4 클라우드 게임 서비스 사례 연구 2-5 클라우드 게임 서비스에

영남학17합본.hwp

<28BCF6BDC D B0E6B1E2B5B520C1F6BFAABAB020BFA9BCBAC0CFC0DAB8AE20C1A4C3A520C3DFC1F8C0FCB7AB5FC3D6C1BE E E687770>

<B9AEC8ADC4DCC5D9C3F7BFACB1B82D35C8A32833B1B3292E687770>

Microsoft PowerPoint - analogic_kimys_ch10.ppt

전용]

<303720C7CFC1A4BCF86F6B2E687770>

<B1A4B0EDC8ABBAB8C7D0BAB8392D345F33C2F75F E687770>

특성화사업참가결과보고서 작성일 학과전자공학과 참가활동명 EATED 3.0 프로그램지도교수진성훈교수님 연구주제명 Low Frequency Noise Characteristic of Semiconducting Carbon Nanotube Network

영남학17합본.hwp

Microsoft PowerPoint - dev6_TCAD.ppt [호환 모드]

Output file

Page 2 of 5 아니다 means to not be, and is therefore the opposite of 이다. While English simply turns words like to be or to exist negative by adding not,

Vol.258 C O N T E N T S M O N T H L Y P U B L I C F I N A N C E F O R U M

김기남_ATDC2016_160620_[키노트].key

Output file

대한한의학원전학회지26권4호-교정본(1125).hwp

아니라 일본 지리지, 수로지 5, 지도 6 등을 함께 검토해야 하지만 여기서는 근대기 일본이 편찬한 조선 지리지와 부속지도만으로 연구대상을 한정하 기로 한다. Ⅱ. 1876~1905년 울릉도 독도 서술의 추이 1. 울릉도 독도 호칭의 혼란과 지도상의 불일치 일본이 조선

272 石 堂 論 叢 49집 기꾼이 많이 확인된 결과라 할 수 있다. 그리고 이야기의 유형이 가족 담, 도깨비담, 동물담, 지명유래담 등으로 한정되어 있음도 확인하였 다. 전국적인 광포성을 보이는 이인담이나 저승담, 지혜담 등이 많이 조사되지 않은 점도 특징이다. 아울

大学4年生の正社員内定要因に関する実証分析

목 차 1. 서론 1.1. 문제 제기 및 연구 목적 1.2. 연구 대상 및 연구 방법 2. 교양 다큐 프로그램 이해 3. 롤랑바르트 신화론에 대한 이해 3.1. 기호학과 그 에 대하여 3.2. 롤랑바르트 신화 이론 고찰 4. 분석 내용 4.1. 세계테마기행 에 대한 기

04 형사판례연구 hwp

PowerSHAPE 따라하기 Calculate 버튼을 클릭한다. Close 버튼을 눌러 미러 릴리프 페이지를 닫는다. D 화면을 보기 위하여 F 키를 누른다. - 모델이 다음과 같이 보이게 될 것이다. 열매 만들기 Shape Editor를 이용하여 열매를 만들어 보도록

퍼스널 토이의 조형적 특성에 관한 고찰

Dual- Gate FET T he Analysis and Applications of Nonlinear Characteris tics of Dual- Gate FET

歯03-ICFamily.PDF

< FBEC6C1D6B9FDC7D05F39C2F72E687770>

What’s semiconductor?

<4D F736F F F696E74202D2028B9DFC7A5BABB2920C5C2BEE7B1A420B8F0B5E220C8BFC0B220BDC7C1F520BDC3BDBAC5DB5FC7D1B1B94E4920C0B1B5BFBFF85F F726C F72756D>

도비라

원고스타일 정의

ApplicationKorean.PDF

슬라이드 1

44-3대지.08류주현c

Product A4

泰 東 古 典 硏 究 第 24 輯 이상적인 정치 사회의 구현 이라는 의미를 가지므로, 따라서 천인 합일론은 가장 적극적인 경세의 이론이 된다고 할 수 있다. 권근은 경서의 내용 중에서 현실 정치의 귀감으로 삼을 만한 천인합일의 원칙과 사례들을 발견하고, 이를 연구하여

WRIEHFIDWQWF.hwp

DBPIA-NURIMEDIA

DBPIA-NURIMEDIA

현대패션의 로맨틱 이미지에 관한 연구

PowerChute Personal Edition v3.1.0 에이전트 사용 설명서

<C7D1B9CEC1B7BEEEB9AEC7D03631C1FD28C3D6C1BE292E687770>

저작자표시 - 비영리 - 변경금지 2.0 대한민국 이용자는아래의조건을따르는경우에한하여자유롭게 이저작물을복제, 배포, 전송, 전시, 공연및방송할수있습니다. 다음과같은조건을따라야합니다 : 저작자표시. 귀하는원저작자를표시하여야합니다. 비영리. 귀하는이저작물을영리목적으로이용할

2 동북아역사논총 50호 구권협정으로 해결됐다 는 일본 정부의 주장에 대해, 일본군 위안부 문제는 일 본 정부 군 등 국가권력이 관여한 반인도적 불법행위이므로 한일청구권협정 에 의해 해결된 것으로 볼 수 없다 는 공식 입장을 밝혔다. 또한 2011년 8월 헌 법재판소는

300 구보학보 12집. 1),,.,,, TV,,.,,,,,,..,...,....,... (recall). 2) 1) 양웅, 김충현, 김태원, 광고표현 수사법에 따른 이해와 선호 효과: 브랜드 인지도와 의미고정의 영향을 중심으로, 광고학연구 18권 2호, 2007 여름


3항사가 되기 위해 매일매일이 시험일인 듯 싶다. 방선객으로 와서 배에서 하루 남짓 지내며 지내며 답답함에 몸서리쳤던 내가 이제는 8개월간의 승선기간도 8시간같이 느낄 수 있을 만큼 항해사로써 체질마저 변해가는 듯해 신기하기도 하고 한편으론 내가 생각했던 목표를 향해

K7VT2_QIG_v3

82-01.fm

한국전지학회 춘계학술대회 Contents 기조강연 LI GU 06 초강연 김동욱 09 안재평 10 정창훈 11 이규태 12 문준영 13 한병찬 14 최원창 15 박철호 16 안동준 17 최남순 18 김일태 19 포스터 강준섭 23 윤영준 24 도수정 25 강준희 26

장양수

Transcription:

Itroductio The field effect trasistor(fet) is a uiolar device because, ulike biolar trasistor that use both electro ad hole curret, they oerate oly with oe tye of charge carrier. (BJT) (FET). The two mai tyes of FETs are the juctio field effect trasistor(jfet) ad the metal oxide semicoductor field effect trasistor(mosfet). 2 (JFET) (MOSFET). The BJT is a curretcotrolled device; that is, the base curret cotrols the amout of collector curret. BJT. O the cotrary, the FET is a voltagecotrolled device, where the voltage betwee two of the termials(gate ad source) cotrols the curret through the device., FET (V GS ) (I D ). 93

(Juctio field effect trasistor) Figure 132(a) shows the basic structure of a chael juctio field effect trasistor(jfet). 132(a) (JFET). Drai(D) Drai(D) Gate (G) chael Gate (G) chael (a) chael (b) chael Source(S) Source(S) Figure 132. A reresetatio of the basic structure of the two tyes of JFET. 94

Wire leads are coected to each ed of the chael; the drai is at the uer ed, ad the source is at the lower ed.,,. Two tye regios are diffused i the tye material to form a chael, ad both tye regios are coected to the gate lead.,. A chael JFET is show i Figure 132(b). JFET 132(b). The schematic symbols for both chael ad chael JFETs are show i Figure 133. JFET 133. Notice that the arrow o the gate oits i for chael ad out for chael.,. 95

D D G G chael S chael S Figure 133. JFET schematic symbols. 96

JFET (JFET basic oeratio) To illustrate the oeratio of a JFET, Figure 134 shows bias voltages alied to a chael device. JFET, 134. R D D G V GS S Figure 134. A biased chael JFET. 97

is a draitosource voltage ad sulies curret from drai to source., (I D ). V GS sets the reversebias voltage betwee the gate ad the source, as show. V GS. The JFET is always oerated with the gatesource juctio reversebiased. JFET. Reversebiasig of the gatesource juctio with a egative gate voltage roduces a deletio regio alog the juctio, which exteds ito the chael ad thus icreases its resistace by restrictig the chael width. (),. The chael width ad thus the chael resistace ca be cotrolled by varyig the gate voltage, thereby cotrollig the amout of drai curret, I D., I D. 98

Figure 135 illustrates this cocet. 135. R D R D V GS V GS D I D D I D G G V GS S V GS S (a) JFET biased for coductio (b) Greater V GS arrows the chael which icreases the resistace of the chael ad decreases I D. Figure 135. Effect of V GS o chael width, resistace, ad drai curret. 99

The white areas rereset the deletio regio created by the reverse bias.. V GS V GS G D S R D I D (c) Less V GS wide the chael which decreases the resistace of the chael ad Icreases I D. It is wider toward the drai ed of the chael because the reversebias voltage betwee the gate ad the drai is greater tha that betwee the gate ad the source. (V GD ) (V GS ). Pichoff,.. Figure 135. Effect of V GS o chael width, resistace, ad drai curret. 100

JFET (JFET characteristics) First, let s cosider the case where the gatesource voltage is zero(v GS =0)., 136 (V GS ) 0. R D I D V GD I D B C V GS =0 Ohmic regio Costatcurret regio (ichoff regio) Break dow V P (ichoff voltage) A (a) JFET with V GS =0 ad a variable (b) Drai characteristics curve Figure 136. The drai characteristics curve of o JFET for V GS =0 showig ichoff. 101

As is icreased from zero, I D will icrease roortioally through the tye material, as show i the grah of Figure 136(b) betwee oits A ad B. I D 136(b) A, B. I this regio, the chael resistace is essetially costat because the deletio regio is ot large eough to have sigificat effect.,. This is called the ohmic regio because ad I D are related by Ohmic law. I D. As icreases from oit B to C, the reversebias voltage from gate to drai(v GD ) roduces a deletio regio large eough to offset the icrease i, thus keeig I D relatively costat. (B C ), V GD I D. For V GS =0[V], the value of at which I D becomes essetially costat is the ichoff voltage. V GS =0[V], I D (V P ). 102

Now, let s coect a bias voltage, V GS, as show i Figure 136(a)., V GS 137. I D V P R D I D(sat) V GS =0[V] V GS =1[V] V GS Pichoff whe V GS =1[V] V GS =2[V] V GS =3[V] V GS =4[V] (a) JFET biased V GS =1[V] V GS =V GS(off) V P (b) Family of drai characteristics curve Figure 137. The drai characteristics curve of o JFET for V GS =0 showig ichoff. 103

As V GS is set to icreasigly more egative values, a family of drai characteristic curves is roduced, as show i Figure 137(b). V GS (), 137(b). I D decreases as the magitude of V GS is icreased to larger egative values because of the arrowig of the chael. I D V GS. Also, for each icrease i V GS, the JFET reaches ichoff at value of less tha V P. V GS, JFET V P. So, the amout of drai curret(i D ) is cotrolled by V GS., (I D ) (V GS ). The value of V GS that makes I D aroximately zero is the cutoff voltage, V GS(off). I D 0 V GS, V GS(off). The JFET must be oerated betwee V GS =0[V] ad V GS(off). JFET V GS 0[V] V GS(off). For this rage of V GS, I D will vary from a maximum of I D(sat) to a miimum of almost 0. V GS, I D I D(sat) 0. 104

(Metal (MetalOxideSemicoductor FET) The MOSFET differ from the JFET i that it has o juctio structure; istead, the gate of the MOSFET is isulated from the chael by a silico dioxide(sio 2 ) layer. MOSFET JFET., MOSFET SiO 2. Drai(D) Drai(D) SiO 2 chael SiO 2 chael Gate (G) Gate (G) tye substrate tye substrate (a) chael (b) chael Source(S) Source(S) Figure 138. Reresetatio of the basic structure of DMOSFET. 105

MOSFET(Deletio MOSFET, DMOSFET) D Oe tye of MOSFET is the deletio MOSFET(DMOSFET) ad Figure 138 illustrates its basic structure. MOSFET MOSFET(DMOSFET), 138. The drai ad source are diffused ito the substrate material ad the coected by a arrow chael adjacet to the isulated gate., SiO 2. The chael oeratio is the same, excet the voltage olarities are oosite those of the chael.. The DMOSFET ca be oerated i either of two modes the deletio mode or the ehacemet mode. DMOSFET,,. 106

Sice the gate is isulated from chael, either a ositive or a egative gate voltage ca be alied., () (). The chael MOSFET oerates i the deletio mode whe a egative V GS is alied ad i the ehacemet mode whe a ositive V GS is alied. MOSFET () V GS, () V GS. These devices are geerally oerated i the deletio mode.. Visualize the gate as oe late of a arallellate caacitor ad the chael as the other late.,. The SiO 2 isulatig layer is the dielectric. SiO 2. 107

With a egative gate voltage, the egative charges o the gate reel coductio electros from the chael, leavig ositive ios i their lace. (),. Thereby, the chael is deleted of some of its electros, thus decreasig the chael coductivity.. The greater the egative voltage o the gate, the greater the deletio of chael electros. (). At a sufficietly egative V GS, the chael is totally deleted ad the drai curret is zero. () V GS, I D 0.<V GS(off) > This deletio mode is illustrated i Figure 139(a). DMOSFET 139(a). 108

R D R D I D I D V GS V GS (a) Deletio mode: VGS egative (b) Ehacemet mode: VGS ositive Figure 139. Oeratio of chael DMOSFET. 109

With a ositive gate voltage, more coductio electros are attracted ito the chael, thus ehacig the chael coductivity, as illustrated i Figure 139(b). (), 139(b).< DMOSFET> Drai Drai Gate Gate chael Source chael Source Figure 140. DMOSFET schematic symbols. 110

MOSFET(Ehacemet MOSFET, EMOSFET) E The EMOSFET oerates oly i the ehacemet mode ad has o deletio mode. EMOSFET. Gate (G) SiO 2 Drai(D) Iduced chael tye substrate V GS I D R D Source(S) (a) Basic costructio (b) Iduced chael Figure 141. EMOSFET costructio ad oeratio(chael). 111

It differs i costructio from the DMOSFET i that it has o structural chael. EMOSFET DMOSFET. For a chael device, a ositive gate voltage above a threshold value iduces a chael by creatig a thi layer of egative charges i the substrate regio adjacet to the SiO 2 layer, as show i Figure 141(b)., () 141(b) SiO 2 () ( ). The coductivity of the chael is ehaced by icreasig the V GS ad thus ullig more electros ito the chael area. V GS,. For ay gate voltage below the threshold value, there is o chael.. The schematic symbols for the chael ad chael EMOSFETs are show i Figure 142. EMOSFET 142. 112

Drai Drai Gate Gate chael Source chael Source Figure 142. EMOSFET schematic symbols. The covetioal ehacemet MOSFETs have a log thi lateral chael as show i structural view i Figure 143. MOSFET 143. This results i a relatively high draitosource resistace ad limited the EMOSFET to low ower alicatios., EMOSFET. 113

Source Gate Drai tye substrate chael SiO 2 Figure 143. Cross sectio of covetioal EMOSFET structure. 114