제 1 장 CPU 안내

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1 목차 제 1 장 CPU 안내 001 제 2 장기출문제유형화및문제출제동향분석 008 제 3 장문제풀이방법론 019 제 4 장예시답안분석및평가 1( 선행특허조사 ) 058 제 5 장예시답안분석및평가 2( 특허전략수립 ) 093

2 제 1 장 CPU 안내

3 Ⅰ. CPU 안내 1. 대회목적 본대회의목적은대학의실용적인특허교육확대를통해기업이필요로하는지식 재산인재를양성하고, 대학의창의적아이디어를산업계에공급하는것이다. 2. 경진부문 특허전략수립 ( 논문 ) 제출 - 기업이제시한문제의세부적기술주에대하여국내외특허를분석하고, 연구개발전략및특허획득방향을수립 * 해당문제는대회홈페이지참조 ( 3. 참가자격 국내대학 ( 원 ) 생 * 국내대학의국내국적을가진대학 ( 원 ) 생에한함 특허전략수립부문 : 팀 (3명이내동일대학 ) 또는개인으로참가, 지도교수 1인 ( 복수팀지도가능 ) 필요 * 복수신청가능 (1인당최대 3건이내 ) 4. 심사절차및기준심사절차는 (i) 기초심사, (ii) 서면심사, (iii) 발표심사, (iv) 최종심사순으로진행된다. 심사기준은아래와같다 (2018 년대회기준 ).

4 제 1 장 CPU 안내 3

5 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 5. 신청서등접수방법 < 온라인신청접수 > - 대회홈페이지 ( 에서신청서작성및제출서류 (PDF, JPG 파일 ) 업로드 - 특허전략수립부문제출서류 : 재학증명서, 지도교수확인서 * 특허전략수립부문팀등록시, 팀원각자의개인인증을통한접수필수 < 온라인답안 / 논문제출 > - 답안 / 논문등록 ( 아래아한글, MS-WORD' 형식 ) 6. 참가자및수상자특전 대회참가자대상특허검색 / 분석방법에대한사전교육기회부여 - 온라인교육 ( * 대회참가자대상별도안내예정 수상자취업인센티브제공 ( 취업우대기관 13 곳 ) - 현대자동차, LG 화학, LG 디스플레이, 서울반도체, 현대중공업, 대우조선해양, 삼성중공업, 현대미포조선, 한진중공업, 성동조선해양, SK 실트론, 휴롬, 유니크 * 상세내용은대회홈페이지 취업지원서비스 메뉴참조 수상자네트워크구축및사후관리 - 수상자대상 차세대지식재산리더 (YIPL: Young Intellectual Property Leaders)' 네트워크를구축하여체계적이고지속적인사후지식재산역량강화프로그램지원 * 주요활동 : CEO 초청강연, 리더쉽강좌, 산업체및연구소현장방문, 지역네트워크운 영, 체육대회및소모임운영등지원 4

6 제 1 장 CPU 안내 대회일정 5

7 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 8. 기타 자세한사항은대회홈페이지 FAQ 또는 Q&A 참조 문의 : 한국발명진흥회지식재산인력양성실 ( , 2808) 주최 : 특허청 주관 : 한국발명진흥회, 한국공학한림원 9. 참조사이트 특허 / 실용신안검색사이트 IP Academy - 특허검색등온라인무료수강 : genb2c.ipacademy.net( 단체신청 ) 국가지식재산교육포털 - 사이버국제특허아카데미 : KIPRIS - 국내특허무료검색 : USPTO - 미국특허정보검색 : patft.uspto.gov IPDL - 일본특허정보검색 : espacenet - 유럽특허정보검색 : ep.espacenet.com 위의검색사이트들에서는출원된특허문헌원문및출원후등록과정에서의심사경과내역등을무료로조사할수있다. 출원명세서및등록과정에서인용된인용문헌등을참조하여기술에대한이해를높일수있다. 각국특허청에서각국특허청에출원된특허정보를제공하기위한목적으로위의사이트를운영하고있으며, 국내특허무료검색사이트 KIPRIS 에서는, 미국, 일본, 유럽등의해외특허청에출원된특허문헌의검색도가능한특징이있다. KIPRIS 이용법은아래의키프리스가이드북을참조하면상세히설명되어있다. 키프리스가이드북링크 : 특허문헌검색에보다효과적으로이용가능한유료검색엔진사이트로는대표적 6

8 제 1 장 CPU 안내 으로 WIPSON( 이있는데, 각대학기관등에서무료로이용가능 한환경이구비되어있을수있다. 비특허문헌검색사이트국립중앙도서관 : KERIS 학술연구정보서비스 : NDSL 논문 : KOSEN( 한민족과학기술자네트워크 ) : NDSL 과학기술정보포털 : DB pia : e특허나라 : 구글스콜라 : scholar.google.com 위의검색사이트들에서는특허문헌정보외에비특허문헌 ( 논문 ) 정보들에관련된자료를조사할수있다. 본대회에서선행기술로파악하여야하는자료는특허문헌정보외에비특허문헌정보도포함될수있다. 또한, 특허문헌들은일반적인비특허문헌들과다른용어로기술될수있으므로, 기술분야에대한이해를위해서는상기비특허문헌검색을이용하는편이더좋을수도있다. 주최 특허청 : 주관 한국발명진흥회 : 한국공학한림원 : 7

9 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 제 2 장 기출문제유형화및문제출제동향분석 8

10 Ⅱ. 기출문제유형화및문제출제동향분석 ** 해당과제의내용이분류내용에중복되어포함될경우, 각분류에복수회포함하여기재하였음. 특허전략수립기출문제유형화및문제출제동향 : 특허전략수립부문에만추가되는내용 내용연도해당문제계 1. 검색식작성및검색결과제시 2. 정량분석총괄 3. 기술분류표 (Tech-Tree) 작성 4. 기술발전흐름도작성및기술개발동향설명 5. 주요출원인별 ( 국가별 ) 분석 ( 출원인별특허전략분석 ) - 기술력지수, 특허건수등 모든문제해당 ( 디자인 / 비특허문헌검색포함 ) - [A2]1 [A3]1 [A4]2 [A5]1 [A6] [A7]1, 2 [A8] [A9] [B1] [B5]1 13 [C1]2 [C2]1 [C3]1 [A1]2 [A2]1,2 [A3]1 [A4]1 [A5] [A6]1 [A7]1 [A8]1 [A10] 1 [B3]1 16 [B4]1 [B5] [B6]1 [B8]1 [C1] [C2]1 [A1]1 [A2]1 [A3]1 [A4]1 [A5] [A6]1 [A7]1 [A8]1 [A9]1 [A10] 1 15 [B2] [B3] [B5] [C1]1 [C3] [C2]2-1) 1 [A10] [A1]2 [A3]1 [A6]3 [B3] [B5] [B6]1 [B7]1 [C2] [A3]1 [A7]2 [C1] [C2]1 [C4] 5 [A2]2 [A3]1 [A4]2 [A6]1 [A7] [A8]3 [B2]1 [B3]1 [B4]2 [C1]1 [C3]2 11,3 [A1]1 [A2]2 [A3]3 [A4]2 [A6] [A7]3 [A8]2 [A10] 1 [B1]1 [B2]1 15 [B2]3 [B3]2 [B4]3 [C1] [C2]2 [A1]2 [A2]3 [A3]2 [A4]2 [A6] [A8]2 [B1]2 [B4]1 [C2]1 [C3]3 11 [C4] 2016 [A7]3 [B2]1 [B4] [A1]3 [A5]3 [A8]3 [B1]1 [B7]1 [B8]1 [C2] [A2]4 [A3]1 [A5]2 [A9]2 [B1]1 [B3] [B5] [C4] 8 총계 (%) - (100) 44 (16.3) 15 (5.6) 37 (13.7) 18 (6.7)

11 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 6. 주요특허, 핵심특허도출및도출이유제시 ( 인용 / 피인용분석 + 권리분석 + 주요출원인여부 + 최근출원여부등 ) 7. 공백기술영역도출 (OS- 매트릭스분석 ) 신 규 I P 창 출 8. 미래산업개발방 향제안 ( 핵심특허확 보전략 ) 9. 특정과제해결의 구체적개량기술제 안및차별성분석 10. 해당기술분야의특허 전략총괄수립문제 11. 특허포트폴리오구축 전략문제 (R&D 전략 ) 12. 회피설계및경쟁특허 무효화문제 13. 시장동향조사 [A2]2 [A3]1 [A4]2 [A4]3 [B2]2 [B3]1 [B4]1 [B5]2 [C1]3 [C2]2-2,3) [C3]3 [A1]2 [A2]3 [A3]2 [A4]1 [A5]3 [A6]2 [A7]2 [A8]3 [A10] 2 [B1]1 [B4]2 [B5] [B7]1 [B8]1 [C2] (15.6) [A1]1 [A2]2 [A4]3 [A5]2 [A6]2 [A7]1 [A10] [A8]1 [A9]3 [B2] 2013, [B4]2 [B5] [C1]2 [C2]2 [C3]2 [C4] 2016 [A7]2 [A8]4 [A9]3 [B5]3 [C3]3 5 [A10] [A3]4 [A4]3 [A5]2 [B4] [B7]4 [C1] (5.6) 2013 [A10] 3 [B3] [B5] [A8]3 [B3] [B4]3 [B5]3 [C1]3 [C2]3 6 [A1]3 [A2]4 [A3]3 [A5]2 [A6]3 [A10] 2015 [B2]3 [B3]3 [B4]3 [B7] ,3 (11.1) [B7]4 [B8]2 [C1] [C2]3 [B1]2 [A10] [A4]4 [A5]3 [A7]5 [B4] [B4]2 [B5] [C1]2 [C3] [A2]3 [A4]4 [A6]2 [A7]3 [A9]3 9 [B3] [C1]3 [C2]3 [C3] [A1]3 [B5] [B6]3 [C2]3 4 (5.2) 2013 [B5] [A3]2 [A4]4 [A5]2 [A6] [B1] [A3]4 [A6]4 [B7] [A1]2 [A3]3 [A4]4 [A6]4 [A9]4 (5.6) 7 [B2] [B3] 2016 [A5]2 [A6]4 [A7]3 [A9] [A4]4 [A5]5 [A8]4 [B2]2 [B7]4 5 (4.8) 2013 [A2]4 [A5]3 [A8]2 [B5] [A5]2 [A8]4 [B5]3 [C2]2-3) [C3] [A3]4 [A5]4 [A10] 14 [C2]2 4 3 (5.2) 2013 [A8]3 [A10] 3 [C2]3 [C3]4 [C4] [A9]2 [B4] [A3]4 [B5] 2 (1.5) 10

12 2016 [A9] 사업화방향및고려 [A4]4 1 문제 (1.9) 2013 [A3]4 [A8]3 [C2] 표준특허검색및표준 2016 [A1] 1 2 과매칭 2015 [A9] 1 (0.7) 16. 특허자료와비특허자료 2015 [B6]2 1 2 비교분석 2013 [B5] 1 (0.7) 총계 (100) 11

13 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 3. 출제동향분석 이전으로부터 2013년문제까지는, 해당기술분야의정량분석및정성분석을수행하여특허맵을작성하는문제또는, 해당기술분야의전반적인특허전략을수립하는문제등의총괄적인경향의문제가다수출제되었으나, 2015년, 2016년의최근의경향은문제를각주제를가지는세부문항으로분할하고각문항이구체적인주제를명시하는형식으로출제되는경향성을가지는것으로파악되었고, 이는수요기업의구체적인니즈에좀더정확히부합하는과업의결과물을확보하기위한자연스러운흐름으로보인다. 검색식을작성하여정량분석및정성분석을수행하는것은선행기술조사부문및특허전략수립부문의모든과제에공통되는주제였다. 또한, 기술분류표작성, 기술발전흐름도제시등은공통적으로많은과제에서요구하는과업에해당하였다. 정량분석및정성분석중에서는핵심특허의선정근거를설명하는문제, 주요출원인 ( 수요기업의경쟁사 ) 의출원동향을분석하는문제가빈번히출제되었다. 선행기술조사부문의경우, 무효자료조사및주장과특허성판단, 기술간유사도 (X, Y) 판단및등록가능성판단및청구항 ( 보정안 ) 작성문제가, 특허전략수립부문 에포함되지않는유형의문제로서꾸준히출제되었다. 특허전략수립부문의경우, 특허포트폴리오구축및회피설계문제가선행기술조 사부문에포함되지않는유형의문제로서꾸준히출제되었다. 한편, 선행기술조사부문의최근출제동향을보면, 선행기술조사부문임에도특허전략수립부문의문제들과같이총괄적이고심도있는문제들이빈번히출제되고있다. 특히이러한문제들은깊이있는정성분석, R&D 전략수립및회피설계방안도출등까지도요하는추세이다. 12

14 4. 분야별기출문제및예시답안설명 ** 이하에서는국가직무표준 (NCS) 지식재산정보조사분석內지식재산요구분석자료에포 함된내용을참조하여몇몇의기출문제의답안산출방향을간략히설명하도록한다. (1) 캠퍼스특허전략유니버시아드특허전략수립 (2010_B1) 문제 1) 기술분석요구해석 ISG(Idle Stop and Go) 기술은차량이일시적으로정차할때엔진을자동으로정지 (IdleStop) 시켜공회전으로인한배기가스및연료소모를감소시키고, 차량이출발할때엔진을재시동하여출발 (Go) 하는기술이다. 최근하이브리드자동차및디젤승용차등에다양하게적용되고있다. 2) 특허정보조사분석요구해석및산출물구체화분석요구 1에서는국내외선행특허를분석하여특허지도 (Patent Map) 작성을요구하고있으며, 이를위하여한국, 미국, 일본, 유럽및국제특허 (PCT) 의조사범위 ( 국가 ) 를지정하고있다. 특허정보조사분석은한국, 미국, 일본, 유럽의 4개국과함 13

15 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 께국제특허까지조사하는것이일반적이다. 분석요구 2에서는자동차회사입장에서핵심기술과공백기술을파악하여최신출원동향에따른기술개발전략을제시를요구하고있으며, 이를위하여핵심특허를선별하고, 핵심특허는국내외주요자동차기업을중심으로핵심특허를선별하는것이타당하다. 또한이핵심특허를분석하여공백기술과특허출원동향을분석하여, 연구개발방향을제시한다. 3) 특허전략요구해석및산출물구체화미국, 일본, 유럽의해외주요경쟁기업에서핵심특허기술을분석하여, 회피설계, 리스크를최소화하는방안을제시하고, 또한주요경쟁기업에서유사한기술분야에적용된기술들을비교분석하는것을요구하고있다. 14

16 (2) 캠퍼스특허전략유니버시아드특허전략수립 (2012_B5) 문제 15

17 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 1) 기술분석요구해석자원탐사를위한 FPSO(Floating Production Storage Offloading) 및 LNG/LPG 운반선등해양구조물에사용되는강재 ( 형강 (H-beam, Angle) 및후판 (Thick plate)) 에관한것으로, 일반적인강재에비해극지의추운날씨에견디기위한제조공정및미세합금설계를필요로한다. 2) 특허정보조사분석요구해석및산출물구체화분석요구 1에서는기술및회사별개발동향을시간흐름분석을요구하고있으며, 이를위하여정량분석및정성분석에서도출된주요기술및핵심특허를이용하여기술발전도를작성한다. 분석요구 2 에서는각기술및회사의핵심특허를분석을요구하고있고, 주요기술 및기업들의주요핵심특허를정성분석한다. 그외에조사국가범위는전세계특허 ( 한국, 미국, 일본, 유럽및국제특허등 ) 를대상으로하고있으며, 정량분석을위한유효데이터는 500건내외, 정성분석을위한핵심특허는 50건내외를선별한다. 또한검색식및기술분류체계도를제시하고, 검색된특허리스트및분석한스프레드시트 ( 엑셀파일 ) 을요구하고있다. 3) 특허전략요구해석및산출물구체화문제출제기업 ( 특허정보조사분석요구자 ) 은시장에신규진입하고자하는회사의향후기술개발방향을합금개발과제조공정과관련하여제시하라고요구하고있으며, 이를통하여문제출제기업은출제문제기술에대하여선도하고있는기업이아닌신규로사업진입을계획하고있을가능성이높다. 이를위하여특허정보조사분석담당자는특허분석을통해합금개발및제조공정 분야에서신규진입가능성이높은기술을발굴하고, 주요기업들의특허를분석하여, 공백기술을파악하여제시해야한다. 16

18 (3) 캠퍼스특허전략유니버시아드특허전략수립 (2012_C3) 문제 1) 기술분석요구해석 리튬 2 차전지는크게음극재, 양극재, 분리막및전해질기술로나눌수있으며, 이중에서양극재관련기술의분석을요구하고있다. 2) 특허정보조사분석요구해석및산출물구체화 분석요구 1 에서는양극재중층상구조를기반으로하는양극재로기술을한정하기 를원하고있다. 분석요구 2 에서는층상구조기반양극재기술에대한세부기술분류체계를작성하 는것을요구하고있다. 17

19 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 분석요구 3 에서는유효데이터추출및이를이용한정량분석을통하여국내외특 허동향파악할것을요구하고있다. 분석요구 4 에서는유효데이터에서핵심특허를주요출원인별로선별할것을요구 하고있다. (3) 특허전략요구해석및산출물구체화본문제를출제한기업에서는핵심특허를이용한개량특허확보전략제시할것을요구하고있다. 이를위하여주요출원인혹은국가별원천특허혹은장벽특허를파악하고, 이특허에대한개량특허포위전략을제시해야한다. 그외에도문제에서검색대상국가, 검색키워드, 검색식및검색특허엑셀파일을요구하고있다. 그리고문제에서와같이최근에는특허정보조사분석요구자들이정량분석은간단하게 ( 전체적인흐름을알수있을정도 ), 정성분석은자세히분석하는것을선호하고있다. 18

20 제 3 장 문제풀이방법론 19

21 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 Ⅲ. 문제풀이방법론 1. 검색식작성및사례 (1) 검색식작성방법 특허검색은키워드와특허분류코드정보를활용하여작성하는것이일반적인방법 이다. 키워드검색식을작성할경우기술내용전체를표현하는핵심키워드를선정한후 핵심키워드의단 복수형, 변화형, 동의어 유사어를적절히활용하여확장키워드를선 정하는것이중요하다. [ 핵심키워드와확장키워드사례 ] 핵심키워드 티브이 광섬유 확장키워드텔레비전, 테레비젼, 텔레비전, 테레비전, TV, Television, 티비, 화상표시장치광화이버, 광화이바, 광파이버, 광파이바, 옵픽화이버 특허분류코드검색은키워드검색의한계를보완하고, 검색노이즈및누락을줄이 는역할을한다. 따라서특허분류코드검색은키워드검색과병행하거나적절하게조 합하여사용하는것이효율적이다. 특허분류코드의종류에는국제특허분류코드 (IPC) 가대표적이며, 일본특허청의 FI, F-Term, 미국특허청의 UPC, 유럽특허청의 ECLA 가있다. 국제특허분류코드 (IPC) 가전세계적으로사용되고있기때문에특허분류코드검색에가장많이활용되고있 20

22 으며, 특허분류코드검색식을작성하기위해서는특허분류코드체계에대한이해가 있어야한다. [ 키프리스검색화면 ] 위그림은한국특허청에서제공하는무료 DB 인키프리스의특허 실용신안검색화 면이다. 다양한입력필드가마련되어있어서특허검색초보자들도쉽게특허를검색할수 있으나, 내가원하는정확한방향으로특허검색을하기위해서는입력필드에정보를 입력하는것으로는부족하다. 키프리스에서키워드검색시키워드간의관계를나타내기위해 *(and), +(or), *!(not) 과같은연산자를사용하는것과마찬가지로검색필드간의관계를나타내는것도매우중요하다. 그런데, 키프리스에서는 and와 or로만필드간의관계를나타낼수있고, 여러개의필드에정보를넣어검색식을작성할경우필드간의선후관계를지정하기도쉽지않다. 예를들어, 초록에서폴더형책상에대해검색하고, 명칭에서휴대폰혹은단말기에 21

23 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 관한키워드는제외하고싶다면아래와같이검색식을작성하는것이적절한데, 입력 필드에정보를입력하는것으로아래와같은검색식을작성하는것은불가능하다. [ 검색식작성사례 ] 폴더형책상에대한검색식작성사례 AB=[( 폴더형 + 플립형 + 접이식 )*( 책상 + 식탁 + 테이블 )]*!TL=[ 휴대폰 + 단말기 ] 따라서자신이원하는방향으로정확하게특허검색식을작성하기위해서는키워드검색, 특허분류코드검색에대한이해도중요하지만, 사용하는 DB에서정해놓은필드명, 필드별표기형식, 연산자를연구하여자기가원하는필드에정보를입력하고필드간의관계까지직접설계하는것이바람직하다. (2) 검색식작성사례 접이식자전거 에대한특허분석을위해검색식을작성할때키워드검색과특허 분류코드검색을하는방법에대해알아보자. 접이식자전거 에관한특허검색을하기위해서는핵심키워드로 접이식 과 자전거 를선정할수있다. 이와같이핵심키워드를선정하는것은어렵지않게할수있으나, 핵심키워드를선정한후핵심키워드에대한확장키워드선정과특허분류코드검색을어떻게키워드검색과병행할것인지에대한문제는어렵게느껴질수있다. 위와같은문제에대한해결방법으로 접이식자전거 가속해있는특허분류코드를 찾은다음해당특허분류코드를이용하여 접이식자전거 와같은기술에해당하는 특허를보면서핵심키워드를확장하는방법을추천한다. 우선 접이식자전거 가속해있는특허분류코드를찾기위해서아래와같이발명의 명칭에핵심키워드를입력하여특허를검색한다. 발명의명칭에 접이식자전거 가 포함되어있는특허는대부분 접이식자전거 와밀접한특허일가능성이매우높다. 22

24 접이식자전거관련특허검색 TL=[ 접이식 * 자전거 ] 위와같이발명의명칭에핵심키워드를입력하여특허를검색한다음검색된특허의 IPC를조사하면, 대부분의특허에서 IPC가 B62K 15/00으로지정되어있는것을금방알수있다. IPC코드에서 B62K 15/00을검색하여 IPC 정의를살펴보면, B62K 15/00의 IPC 정의는 접을수있는자전차 로나와있으며, IPC 정의를통해 B62K 15/00은자신이검색하고자하는기술내용에해당하는 IPC임을확인할수있다. 기술내용에해당하는 IPC 를찾았기때문에해당 IPC 로검색을하면 접이식자전 거 에해당하는특허가폭넓게검색된다. 검색된특허의발명의명칭, 초록부분을스 크리닝하면서아래와같이핵심키워드의확장키워드를찾아내는작업이필요하다. 핵심키워드 접이식 자전거 확장키워드 절첩식, 접철식, 접는, 접기, 연결형, 접힘식, 휴대용 자전차, 이륜차 이와같이핵심키워드, 확장키워드, 특허분류코드를알아내면키워드검색과특허 분류코드검색을병행하여아래와같이특허검색식을작성할수있다. 특허검색식작성 (1) IPC=[B62K15/00]+AB=[( 접이식 + 절첩식 + 접는 + 접기 + 연결형 + 접힘식 + 휴대용 )*( 자 전거 + 자전차 + 이륜차 )] 23

25 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 여기에서검색하고자하는 접이식자전거 와그대로일치하는 IPC 분류코드가존 재함에도불구하고, 특허분류코드만으로특허검색식을작성하지않고키워드검색과 특허분류검색을병행하여특허검색식을작성하는이유는, 접이식자전거 에관한특허라할지라도해당특허가가지는기술적특징이다른부분에있거나명세서의기술내용을설명하는표현등에의해 IPC가 B62K 15/00 이부여되지않을수있기때문이다. 따라서 접이식자전거 에해당하는다양한특허를누락없이최대한정밀하게검색하기위해서는특허분류코드검색외에도유사한유의어들을포함하도록키워드를작성하여키워드검색을같이병행하는것이바람직하다. 그리고위에서 B62K 15/00 에관한특허를스크리닝할때킥보드나퀵보드에관한특허가상당수 B62K 15/00에포함되어있는것을알수있다. 특허분석할내용이자전거에한정되어있어킥보드나퀵보드에관한특허가노이즈에해당할경우아래와같이특허검색식을작성하여킥보드나퀵보드에관한특허가검색에서제외될수있게할수있다. 특허검색식작성 (2) (AB=[( 접이식 + 절첩식 + 접는 + 접기 + 연결형 + 접힘식 + 휴대용 )*( 자전거 + 자전차 + 이륜 차 )]+IPC=[B62K15/00])*!(TL=[ 킥보드 + 퀵보드 ]+AB=[ 킥보드 + 퀵보드 ]) 다만, 위와같이필드간에괄호를사용하여검색할필드와제외할필드가명확하 게구분되도록특허검색식을작성할수있게유의하여야한다. 24

26 2. 데이터정리방법 (1) 기술분류표 (Tech Tree) 다양한특허분석방법을통해의미있는결과를도출하기위해서는기술분류표작성이필수적이다. 기술분류표가작성되지않은채특허를검색하고, 유효특허를선정한후특허분석에들어가면막상제대로된특허분석을할수없다는것을느끼게될것이다. 기술분류표작성방식에는기술전문가의의견을수렴하여연역적으로전개하는하향식 (top-down) 방식과, 관련특허 / 논문을먼저도출하고분석하면서귀납적으로전개하는상향식 (bottom-up) 방식이있다. 먼저하향식방식으로기술분류표를작성한후에상향식방식으로특허를보면서수정 / 보완하는것이바람직하다. 그러나기술전문가의의견을수렴하지못하는경우에는특허분류코드를활용하여 기술분류표가안을작성한다음특허를보면서수정 / 보완하는방법을생각해볼수 있다. 예를들어, 원자로에관한특허분석을해야하는데, 기술전문가의의견을수렴할 수없는경우아래와같이원자로에관한 IPC 를찾아서원자로의하위분류가 IPC 에 서는어떻게형성되어있는지알수있다. [ 원자로 IPC] IPC 관점에서원자로의하위분류기술 G 섹션 G21 G21C G21C-001/00 G21C-001/01 G21C-001/02 물리학핵공학원자로원자로일반적세부. 고속로, 즉감속재를사용하지않는원자로 25

27 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 G21C-001/04 G21C-001/30 G21C-001/32. 열중성자로. 미임계장치. 적분형원자로, 즉기능적으로원자로와관련하고있지만반응에는필수가아닌부분, 예. 열교환기의내부에배치되어있는원자로 실제기술분류표를작성할경우적절한영역, 즉기술범위를정하는작업이우선필요하다. 기술범위는기술적측면뿐만아니라실제검색건수를고려해서결정해야하는데, 검색건수가너무많은경우에는유효특허추출에많은시간이소요되어후반부의전략수립에투입될수있는시간이상대적으로적어질수밖에없기때문이다. 넓은영역의기술동향을알고싶은것이라면넓은범위의특허를분석하여도무방하지만, 깊이있는분석과전략수립이필요한경우에는범위를좁힐필요가있다. 즉, 분석하려는목적에따라서검색범위가달라지는것이합리적특허분석을위해필요하다. [ 기술분류표작성사례 ] 대분류중분류소분류기술범위 해상부유및계류 (AA) 부유관련선체 (AAA) 계류관련설비 (AAB) 해상상태확인, 해상상태에적합 한선체 계류설비 해상부유식 LNG 벙커링터미널 (A) LNG저장 (AB) 극저온 LNG 저장 (ABA) 탱크, 화물창, 압력 / 온도계측 증발가스액화설비 (ACA) 고압압축, 극저온팽창, 냉매, 냉각 증발가스처리 (AC) 자연증발가스송출 (ACB) 기액분리, 저압압축기, 냉각기 자연증발가스예측 (ACC) 가스소각 (ACD) 액화가스이송 (AD) 운반선접안유도 (ADA) 운반선계류설비 (ADB) LNG 하역 / 공급 (ADC) 정보제공 로프, 장력 탱크내 LNG 송출, LNG 운반선 26

28 에서이송, 펌프, 로딩암 반송가스처리 (ADD) 운영 (AE) 안전성 / 친환경 (AF) 액화가스누수대비 (ADE) 일반운영 (AEA) 전력공급 (AEB) 냉각수공급 (AEC) 효율 / 효용성증대 (AED) 위험도분석및평가 (AFA) 안전설비 / 안전장치 (AFB) 오염방지 (AFC) 누수, 화재일반적인운영 / 프로세스전력생산, 발전기해수폐열회수, 냉열회수, 최적화구명정, 화재, 연기슬러지, 친환경연료, 배기가스 (2) 기술발전흐름도 기술발전흐름도는유효특허중에서핵심특허와관련특허를선정하고, 그대상특 허들을기술분류별, 특허발생시기별, 해당출원인별로적절히 Grouping 하고, 각특 허마다의핵심내용을간략하게기입하여도표화하는분석방법을말한다. 기술발전흐름도를작성하는목적은기술의변천과정을분석하는것이므로, 기술발전흐름도는시계열적으로정리하는것이일반적이다. 다만, 여기에서주의해야할점은기술발전흐름도가핵심특허와관련특허를단순히나열하는것에그치면안된다는것이다. 실제로작성된특허분석보고서를살펴보면, 기술발전흐름도가단순히특허를시 간적선후관계와관련도로만나열한것들이많다. 이렇게기술발전흐름도를작성할 경우작성자이외에어느누구도기술발전흐름을이해하기어렵다. 기술발전흐름도는기술변천의터닝포인트가되는특허를기준으로하거나시기 별로출원되는특허의특징을기준으로해서누구라도직관적으로해당기술개발방 향이이해될수있도록작성되는것이바람직하다. 27

29 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 예를들어, ORC 발전시스템중에서팽창기에관한기술발전흐름도를작성할때 핵심특허와관련특허를시계열적으로나열한다면아래와같이기술발전흐름도를작 성할수있을것이다. [ 기술발전흐름도작성사례 -1] 위와같은기술발전흐름도는핵심특허의출원시기, 출원인의변화정도는쉽게알수있으나, 기술적으로어떻게개발이진행되고있는지에대해서는파악하기어렵다. 따라서위와같이단순히특허를나열하는것은기술발전흐름도작성의좋은예로볼수없다. 28

30 [ 기술발전흐름도작성사례 -2] 똑같은 ORC 발전시스템중에서팽창기에관한기술발전흐름도를작성한것이지 만, 위의기술발전흐름도는특허분석을수행한사람이시기별로팽창기기술의특징 에대해분석하여내용을정리했다는점에서앞선기술발전흐름도와차이점이있다. 위와같이기술발전흐름도는특허를시계열적으로나열하는것에목적이있는것 이아니라, 기술의변천과정을분석하는것이목적이라는점을다시한번상기시켜 야할것이다. 기술발전흐름도는특정기술에대한특허를시계열적으로작성할수도있지만, 특정출원인의기술에대한특허를시계열적으로작성할수도있다. 이럴경우기술발전흐름에따라특정출원인이어떤특허를통해제품을출시하고있는지도분석할수있다면좋은분석내용이된다. [ 기술발전흐름도작성사례 -3] 29

31 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 위의기술발전흐름도는 XXX사의공기질관리제품에관한기술발전흐름도를작성한사례이다. 이러한기술발전흐름도를통해 XXX사는공기살균기보다는공기청정기분야가주력개발기술인것을알수있고, 2000년대중반이후부터타사와의차별화를위해필터관련특허와제습 / 가습관련특허를집중적으로출원하고있으며, 출원한특허를기반으로 2010년이후에실제제품을출시하였다는사실을알수있다. 비록, 위의기술발전흐름도가일반적으로도식화되어표현되는기술발전흐름도 와표현방법에서서로다른차이점이있으나, 표현방법이중요한것이아니라기술발 전흐름도를통해도출되는분석결과가의미있는것이라고판단된다. 30

32 [ 기술발전흐름도작성사례 -4] 위의그림은특허유니버시아드대회우수답안으로선정된모과제의기술발전흐름도이다. 위의그림은가로축은출원연도에따른시간의흐름, 세로축은기술분류표에서제시한중분류기준을사용하여나타내고있다. 이와같이기술발전흐름도는 x축은출원연도, y축은기술분류또는주요출원인으로구성되는것이일반적이다. 31

33 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 3. 정량분석 정량분석은특허건수등양적인측면을중심으로분석을수행하는것을말하며, 분석을수행하여기술발전동향, 주요기업현황등거시적측면의분석결과를도출하 는것을의미한다. 그러나엑셀로정리된유효특허를활용하여정량분석에관한그래프를그린다음그래프에대한해석만코멘트하는것은올바른정량분석이라고보기어렵다. 어려운문제일수있으나, 특허의정량분석에서나타나는동향과사회현상을서로접목하여분석할수있다면완벽한정량분석을수행했다고볼수있다. [ 연도별출원동향사례 ] 위의연도별출원동향그래프는원자력발전을 1 건설및운영, 2 사후관리, 3 안 전혁신과같은 3 개의하위분류기술로구분하여연도별출원동향을나타낸그래프이 다. 특허그래프만놓고보면, 2000 년대초반부터특허출원이증가한것으로해석하 게된다. 그러나원자력발전의사회현상을특허그래프에같이놓고비교하면다음 32

34 과같은분석결과를내놓을수있다 년체르노빌원전사고이후원자력발전의위험성이큰사회적문제로제기되어기술개발이줄어들었으나, 1990년대들어 CO 2 감소, 화석연료비증가등에너지산업의이슈가발생하면서원자력발전에대한재평가가이루어지고, 그결과 2002년부터 원자력르네상스시대 가열리게되었음. 특허출원도 원자력르네상스시대 의시작과함께 2000년대초반이후부터급격하게증가하기시작하였고, 2011 년후쿠시마원자력발전소사고이후에도특허출원이증가하고있는것으로나타남. 후쿠시마원자력발전소사고이후에도대부분의국가에서는기존의원자력정책을계속적으로추진할것으로예상되기때문에향후원자력발전에관한특허출원은증가할가능성이높음 [ 주요출원인동향사례 ] 주요출원인동향도전체특허에대한주요출원인동향을분석하기보다는, 적절한사건, 이슈, 계기등을기준으로, 과거와최근주요출원인에대해구분하여분석하는것이바람직하다. 과거와최근주요출원인으로구분하여분석함으로써지속적으로기술개발을하고있는주요출원인, 최근기술개발에집중하고있는출원인을구별하여다음과같은분석을할수있다. 33

35 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 - 원자력발전에서과거 10년간의주요출원인동향을살펴보면모든하위분류기술의주요 Player 가대부분일본, 미국출원인으로구성되는것으로나타나기때문에과거 10년에는일본과미국이원자력발전을선도한것으로분석됨. 그러나최근 10 년간의주요출원인동향을살펴보면프랑스의 AREVA, 중국의 CHINA NUCLEAR POWER ENG., 한국의원자력연구원이새롭게주요 Player 로부상하는것으로나타나기때문에최근에는여러국적의출원인에의해기술이개발되는것으로분석됨 그리고주요출원인동향을분석하다가중요한이슈가발생한주요출원인에대해서 는별도의정량분석을진행하는것이바람직하다. - 원자력발전의주요 Player 중에서 HITACHI 와 GE는 1990년대원자력발전의기술개발을주도하였으나, 2000년이후특허출원이감소하고있음. 양사는 2007년 HITACHI-GE 라는합자회사를설립하였고, 2007년이후에는원자력발전에관한특허는 HITACHI-GE 에서출원하고있는것으로나타남 34

36 4. 핵심특허및주요특허도출 주요특허및핵심특허에대한정의는분석의목적, 기술의성격및분석주체의주관적판단에따라상이한경우가많아서하나의잣대로구분짓기가모호한측면이있다. 또한, 유효특허에서주요특허를추출하는절차없이바로핵심특허를선정하는경우도있어이들의구분이필요하지않을수있다. 일반적으로특허분석실무를수행할때크게두가지경우가있다. 이는본대회의문제에서도동일하게구분된다. 첫번째는기업의 IP-R&D 를효율적으로수행하여제품의생산및판매시발생가능한법적문제를사전에대비하기위해특허분석을하는경우가있고, 두번째는정부기관, 공공연의 R&D 방향을결정하기위해특허분석을하는경우가있다. 첫번째로기업의 IP-R&D 를수행할경우에는대부분기업에서개발하고자하는제품의특징이나제품의스펙이결정되어있기때문에핵심특허는기업에서개발하고자하는제품과유사도가매우높아생산, 판매등에문제가될수있는지를판단하는장벽도와기업에서개발하려는제품에반영이가능한기술인지를판단하는 R&D 활용도를기준으로선정하는것이일반적이다. [ 장벽도와 R&D활용도 ] 등급 장벽도 R&D 활용도 l 현재제품과직접관련된기술로 즉시활용가능기술 상 l 청구항의구성요소가현재 l 기술 ( 제품 ) 분야는상이하나, 개발안과실질적으로유사함현재제품의요소기술로활용 가능한기술 l 청구항의구성요소중일부가 중 현재개발안과일치하지않으나 l 현재제품과는무관하나다른균등에의한확대해석될여지가제품에활용가능한기술 있음 하 l 청구항의구성요소와현재개발안이일치하지않음 l 활용가치없음 35

37 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 장벽도와 R&D활용도를평가할때장벽특허라는것이기업기술의사업시에문제가될수있는특허를의미하므로특허권리범위위주로검토해야하고, R&D활용도는전반적인특허의기술적사상을검토하는것이므로특허공보전체에투영된발명의사상을참고할필요가있다. 다만, 특허권리범위를검토할때아직심사중인특허의경우특허권리범위가확정된상태가아니라는점을고려하여야한다. 또한장벽도는과거의특허에대해현재의기업제품이얼마나유사한가를판단하여야하므로특허의청구범위가간단할수록문제가될수있다. 이와는반대로 R&D 활용도는현재의내제품에반영될수있는아이디어가반영된특허를찾는것이므로풍부한내용이담긴특허가도움이된다. 두번째로어떤산업분야혹은기술분야에서정부기관, 공공연의 R&D 방향을결정하기위해특허분석을수행할때에는특정된기술혹은제품이없는경우가대부분이다. 이럴경우그산업분야혹은기술분야의원천특허에해당하는특허와원천특허를둘러싸고있는전략특허를핵심특허로선정하고, 개량특허는주요특허로선정하는것이일반적이다. [ 핵심특허, 전략특허및개량특허 ] 등급개념예시 l 어떤제품을생산하는데있어없어서는 원천특허 안될핵심기술 l 다른기술에의존하지않는독창성을 가진핵심기술 l 원천특허의기술을다양한제품에 전략특허 적용하여새로운제품을만들어내는 기술 개량특허 l 제품의성능을향상시키기위한기술 ü 레이저에관한특허 ü 레이저절단장치 ü 레이저를이용한측정장치 ü 레이저절단장치의전원공급시스템 그런데, 위의두가지방법은어떤특허를평가할때특허의내용적인면을분석하 36

38 여평가하는방법에관한것이다. 물론핵심특허는정성분석을진행하기위한기본 적인작업이기때문에특허내용적인면을분석하여평가를하는것이타당하다. 그러나특허의서지사항중에서도핵심특허를평가할때참고할수있는요소들이 없는것은아니다. 가장대표적인것이특허의해외출원여부이고, 피인용횟수, 독립 항의개수등이참고할수있는요소가된다. 특히, 해외출원은비용적인측면에서접근할필요가있는데, 해외출원에는많은비용이소요되기때문에출원인입장에서특허의중요도가낮다고판단될경우해외출원을하는것은쉽지않다. 따라서해외출원을한특허, 그중에서도해외출원을다수의국가에한특허일경우특허의중요도가높은것으로참고할수있다. 37

39 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 5. 권리범위분석 권리범위분석은특허분석진행과정에서선정된핵심특허를기업의개발제품과비교하여권리를침해할가능성이있는지를파악하여그에대한대책을세우는과정이다. 권리범위분석과정은크게청구범위구성요소별분석, 권리범위상세분석두가지로나누어진다. (1) 청구범위구성요소별분석핵심특허들에서제시된공통된청구범위구성요소를정리하여청구범위구성요소별분석을하는것을말한다. 청구범위상세분석전에과연해당핵심특허가심층분석의대상인특허가될수있는지여부를판단하는역할을한다. [ 특허별청구범위구성요소별분석 ] 구성요소 1 구성요소 2 구성요소 3 구성요소 4 구성요소 5 특허1 특허2 특허3 특허4 위의표는특허마다의청구범위구성요소를분석정리한예이다. 각특허는청구범 위에구성요소를나열하고, 각구성요소간의연관관계를서술하는것을원칙으로하 고있다. 38

40 (2) 권리범위상세분석청구항분석에있어서두번째방법인 권리범위상세분석 은본격적인특허마다의권리범위를상세하고명확히분석하는작업을말한다. 첫번째방법을통해심층분석의대상으로확정된핵심특허들을대상으로한다. 청구항은독립항과종속항으로나누어지는데, 하나의독립항에서파생된여러종속항이나타날수있다. 이럴경우모든특허에대하여모든청구항을동등한강도로해석하면굉장히힘든작업이되기때문에적절한청구범위해석방법을이용하면시간과노력을절감할수있다. [ 청구범위상세분석구상도 ] 위의그림은청구범위를독립항과종속항으로나누어계층구조적으로구성도를파악한내용이다. 그림에서 1과 7은독립항을의미하며, 2, 5, 6, 8, 9, 10, 12는각독립항에종속된종속항을나타낸다. 또한각각의종속항을한정하는종속항은 3, 4, 11이다. 이렇게특허에대한청구범위의구성도를파악한후, 각각의독립항의내용과그에 따른종속항에대한내용을적절히분석하면해당특허를좀더명확하게분석할수 있는길잡이가될수있을것이다. 권리범위상세분석은연구단계중에서연구진행단계와개발완료및사업화단계에서가장중요한분석이다. 연구개발진행단계에서는현재진행하고있는연구방향에해당핵심특허가문제가발생할소지가높다고판단된다면사전에특허분쟁을예방 39

41 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 할수있는대책을마련할수있는기회를제공할수있으며, 연구개발이완료되고, 사업화에이르는단계에서는권리범위상세분석을통해실제침해가능성이있는특 허가선정되었기때문에적절한회피및개량에대한방향을설정할수있을것이다. 아래표는나노바이오센서및조기진단시스템분석에서의핵심특허를분석한사례이다. 일반적으로대표청구항에해당하는청구항제1항외에도주요독립항이있는경우에는이를분석하는것이바람직하다. 해당구성요소를 A, B, C, D 등으로정의하여나누었으며, 그옆에는유사한특허에대해구성요소를나열한후, 서로간의특허의유사성을적절히검토의견으로기술한내용이다. [ 핵심특허분석사례 ] 공개번호 [JP] [JP] 출원일자 대표도면 구성요소 [ 청구항1] A : 극미소의자성도트가비자성의전기도전체에의해매입된구조 B : 외부자장에대해자기저항효과가생기는자기저항효과소자 C : 자성도트를 2차원도트어레이에배치 D : 형상이다른적어도 2종류의자성도트로형성되고배열된 2차원도트어레이구조 [ 청구항17] a : 자성도트가서로비자성도체로접속된구조 b : 도트어레이 (Array) 상자성막을이용한자기저항효과소자 c : 자성도트가다각격자상에배열되어있는도트어레이 (Array) 상자성막 d : 상기자성도트는형상이다른여러종류로형성되는구조 기타관련특허 A + B + C + D a + b + c + d [JP] , [JP]

42 검토의견 A, B, C, D 의구성요소가유사함 위와같은분석방법은핵심특허의기술내용을구성요소군으로정의하여나타냄과 동시에유사특허간의비교분석을병행한내용이다. 이내용을통하여특허들간의 유사성을같이검토할수있기때문에적절히분석에도움을줄수있다. 41

43 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 (3) 권리범위분석시트의예 아래와같은권리범위분석시트를참고하면, 보다명확하게등록특허의권리범위 를표현할수있다. 주요서지사항과, 특허청구범위의구성요소를분리기재함으로 써정확한특허기술의요지가어느부분인지한눈에파악할수있다. 42

44 6. 무효자료조사및특허성판단 특허법및특허심사의구조상이미특허등록을받은발명이라도얼마든지다시무효화될수있는흠결, 즉무효사유가존재할수있다. 대표적인경우가특허출원전에이미알려진선행문헌이존재함에도불구하고특허심사의미비로특허등록을받은경우이다. 이처럼등록된특허에무효사유가존재하여무효가확정된다면특허권의효력은처음부터없던것으로취급되므로침해문제가발생하지않고, 이러한흠결을가진핵심특허는특허침해여부에관계없이우리가두려워할이유가없는것이다. 특허의무효화요인은선행기술에의한것이외에도특허명세서의작성이나절차상의오류등다양하다. 하지만, 일반적으로대부분의특허들이무효혹은거절되는이유는선행기술에의한것 ( 특허법에서는신규성 1) 혹은 2) 진보성으로규정 ) 이고, 침해될가능성이있을경우직접수행하기쉬운것역시이러한선행기술을찾아핵심특허가무효화가능하다는것을확인하는것이다. 무효가능성을판단함에있어기억해야할사항이몇가지있다. 첫째, 침해판단에서와마찬가지로특허무효에대한판단역시청구항단위로판단하여야한다. 둘째, 발명의취지나효과가동일한것만으로무효를주장하기는어렵고오히려청구항의모든구성요소각각에대해동일한내용, 혹은충분히근접한내용이선행문헌에존재함을확인해야한다. 셋째, 무효논리개발시두개이상의선행기술의결합을통해서도핵심특허의청구항에대해무효 ( 진보성 ) 를주장할수있다는점이다. 즉, 핵심특허의청구항과완전히일치하는선행문헌은발견되지않았고, 일부특징들만일치하는선행기술들이여러개존재하는경우에다수개의선행기술을조합하여핵심특허의청구항내용과일치하게된다면핵심특허가무효라는주장을할수있다. 1) 신규성 ( 특허법제 29 조제 1 항제 1 호및제 2 호 ): 객관적으로새로운기술이아니면특허를받을수없다는것으로, 특허법은신규한기술을공개한대가로서독점배타권을부여하는제도이고신규성이없는발명에특허권을부여하면일반공중의기술이용이제한되기때문이다. 2) 진보성 ( 특허법제 29 조제 2 항 ): 특허출원전에통상의기술자가공지등이된발명으로부터용이하게발명할수있는경우에는특허를받을수없다는것으로, 진보성이없는발명에독점배타권을부여하는것은산업발전에이바지한다는특허법의목적에반하기때문이다. 43

45 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 물론, 무효논리개발시핵심특허의최초출원일자 ( 출원일, 우선권주장일, 원출원 일등을모두고려한가장앞선날짜 ) 보다더앞서공개된선행문헌을활용해야함은 당연하다. [ 무효자료조사사례 ] 대상건 발명의명칭 DIVIDER FOR REFRIGERATOR DRAWER 권리자 U-Line Corporation 등록번호 US7,296,433 출원일 법적상태등록 기술요약 drawer bin(38) 의내부를구획하는 adjustable divider fence(72) 는 lateral divider rods(74) 와 transverse divider rods(76) 을구비함 lateral divider rods(74) 는 side walls(62) 사이에연장되고, transverse divider rods(76) 는 door panel(34) 의내면과 rear wall(64) 사이에연장됨 pairs of divider rods(74,76) 은 hub(78) 에의해서로수직으로교차하도록연결됨 pairs of divider rods(74,76) 은 hub(78) 조작에의해고정및풀림이제어되므로, adjustable divider fence(72) 는 drawer bin(38) 의내부공간을구획하고, drawer bin(38) 에수납된아이템을움직이지않게고정함 1 항 기술평가 ( 동일 :O 유사 : 상이 :X) 청구범위 선행기술 A divider fence for use in partitioning a drawer O 서랍을구획하기위한칸막이 a lateral divider for extending between a first set of walls 제1칸막이부재 (4) a transverse divider for extending between a second set of walls 제2칸막이부재 (5) the lateral and transverse dividers being coupled and releasably locked together X 대응되는구성요소없음 at a hub when the hub is unlocked the X 대응되는구성요소없음 44

46 transverse divider can slide along a first axis and the lateral divider can slide along a second axis independent of the position of the other divider 검토의견대상건청구항1의 A divider fence for use in partitioning a drawer, a lateral divider for extending between a first set of walls, a transverse divider for extending between a second set of walls는선행기술에개시된서랍을구획하기위한칸막이, 제 1칸막이부재 (4), 제2칸막이부재 (5) 와동일하지만, 대상건청구항1의중요한기술적특징인 hub는선행기술에개시되어있지않음따라서선행기술을근거로대상건의청구항1의무효를주장하는것은어려울것으로판단됨 위의사례와달리무효논리개발과정을통해핵심특허를무효화할수있는근거 선행문헌들을찾았다면, 일단무효논리개발전략은성공한것이다. 그러나무효논리개발전략이성공하였다고침해문제가완벽히해결된것이라고볼수없다. 무효논리개발전략이성공하여도추가적으로확인해야할사항이있기때문이다. 즉, 무효논리의근거가된선행특허에대한또다른침해문제가남아있는것이다. 물론해당선행특허가특허로서등록되지않았거나혹은등록이말소된상태라면문제가없다. 또한기업의제품이생산, 판매되는국가가아닌다른나라에서출원된특허라면역시별문제가없다. 그러나만약선행특허가특허로서등록이되었고, 그것도기업제품이생산, 판매되는국가의특허라면문제는다르다. 또하나의새로운핵심특허가발견된것으로여겨야하고, 이에대해서도대응전략을마련하여야한다. 마지막으로실제특허업계에종사하는실무자들도초보적인실수를종종범하는부분이있어서언급을하자면, 무효조사를실시하기전에최우선적으로핵심특허의현재상태를확인하여야한다. 핵심특허가등록특허인것만확인하는것이아니라연차료를계속적으로납부하여서현재핵심특허가등록을유지하고있는지를확인하여야한다. 등록특허일지라도연차료 ( 혹은등록유지료 ) 를납부하지않아특허권이소멸된상태라면굳이무효조사를실시할필요가없기때문이다. 45

47 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 7. 선행기술조사서작성및등록가능성판단 선행기술조사서는특허출원전에특정발명이특허를받을수있는신규성이나진보성을구비하고있는지를판단하기위해선행자료를조사하여작성하는것이다. 또, 선행기술조사는발명의특허등록가능성에영향을미칠수있는선행자료를찾아특허확보가능성을미리확인한후, 출원여부를결정하거나청구범위를변경할수있도록함으로써최대한넓고강한권리를취득하기위해수행한다. [ 선행기술조사사례 ] 선행기술조사서 접수번호 접수일 작성자 작성일 발명자 기술명칭 자동차유리의 XXXX 장치 본원발명은자동차유리의습기및성에를제거하는장치와관련된 기술로서, 강화유리를구성하는전후판유리의내측면에 ITO를코팅하 기술요지 고, 전후판유리의상간에합성수지필름을개재하여압착가공하고, ITO를자동차용열선콘트롤러와전기적으로연결하는것을특징으로 하는기술임 관련 IPC B60S 1/00, B60S 1/02 조사국가 한국 1 AB=[( 성에 +frost+defrost+ 프로스트 + 디프로스트 + 습기 +moist+ 모이스 처 + 서리 + 이슬 + 얼음 + i c e + 결빙 + 김서림 ) * ( 자동차 + v e h i c l e + 차량 +automobile+ 오토모빌 )*( 유리 +glass+ 글라스 + 윈도우 +window+ 전면창 + 측면창 + 후면창 ) * ( 투명전도 + 투명도전 + I T O + 아이티오 + 산화인듐 검색식 +IZO+ATO)] 2 AB=[( 성에 +frost+defrost+ 프로스트 + 디프로스트 + 습기 +moist+ 모이스 처 + 서리 + 이슬 + 얼음 + i c e + 결빙 + 김서림 ) * ( 자동차 + v e h i c l e + 차량 +automobile+ 오토모빌 )*( 유리 +glass+ 글라스 + 윈도우 +window+ 전면창 + 측면창 + 후면창 )*( 이중 +2중 + 두겹 + 전후 + 내부 + 내장 )] 3 IPC=[B60S1/00+B60S1/02] 선행기술자료 연번 인용문헌 출원인 발명의명칭 관련도 1 200X -003XXXX H 社 OOO OOO 윈드실드 OOO Y 2 200X -000XXXX K 社 자동차 OOO 제거장치 A 3 199X D 社 OOO방법을위한글라스구조 Y 46

48 기술요약구성대비유사점차이점기술요약구성대비 -000XXXX 유사도분석 본원발명인용문헌 -1 자동차유리의 XXXX 장치 본원발명은자동차유리의습기및 성에를제거하는장치와관련된기술 로서, 강화유리를구성하는전후판 유리의내측면에 ITO 를코팅하고, 전 후판유리의상간에합성수지필름을 개재하여압착가공하고, ITO 를자동 차용열선콘트롤러와전기적으로연 결하는것을특징으로하는기술임 (A) 자동차유리의습기및성에제거 장치 (B) 전후판유리의내측면에각각투 명도전체인 ITO 를코팅함 (C) 전후판유리를합성수지필름을개 재하여압착가공함 (D) 도전체에열선콘트롤러를연결함 한국공개특허 200X-003XXXX 인용 1 은자동차유리의습기제거장치에 관한기술로서, 2 개의판유리사이에 ITO 등의투명전극을형성하고그사이에절 연층을개재하고, 2 층의투명전극과연결 된가열전압소스를연결하여제어한기 술임 A 차량의서리제거장치 B 내측및외측글라스사이에다수개의 열선을내장함 C2 장의유리에서 ITO 층사이에절연층이 존재함 D 열선에전원을공급하는전원부를연결 하고, 그사이에스위치및제어부를추가 로연결하여스위치의조작만으로손쉽게 가동할수있음 본원발명의 (A),(B),(C),(D) 는인용문헌-1의 A,B,C,D와매우유사한기술 로판단됨 본원발명은전후판유리를압착가공함을명시하고있으나, 인용문헌-1은 2장 의판유리결합방법에대해언급이없음 본원발명인용문헌 -2 자동차유리의 XXXX 장치 본원발명은자동차유리의습기및 성에를제거하는장치와관련된기술 로서, 강화유리를구성하는전후판 유리의내측면에 ITO 를코팅하고, 전 후판유리의상간에합성수지필름을 개재하여압착가공하고, ITO 를자동 차용열선콘트롤러와전기적으로연 결하는것을특징으로하는기술임 (A) 자동차유리의습기및성에제거 장치 (B) 전후판유리의내측면에각각투 명도전체인 ITO 를코팅함 (C) 전후판유리를합성수지필름을개 한국공개특허 200X-000XXXX 인용 2 는자동차유리창의성에를제거하 는장치에관한기술로서, 두유리가겹쳐 진사이의기존안전필름부위에발열가 능한전도성투명필름등의재료를사용 하는기술임 A 자동차유리창의성에제거장치 B 두유리가겹쳐진사이에전도성투명 필름을사용함 47

49 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 재하여압착가공함 (D) 도전체에열선콘트롤러를연결함유사점본원발명의 (A),(B) 는인용문헌-2의 A,B와일부유사하다고판단됨본원발명의전후판유리의내측면에각각 ITO를코팅하고 (B), 그사이에합성수지필름을개재하여압착가공하는 (C) 구성은, 인용문헌-2의두유리사이에전도성투명필름을적용하는구성과물질명이구체적으로명시되지않았고, 판차이점유리에각각두층의전도성투명필름을코팅하는것이아니라종래의합성수지필름의위치에대신전도성투명필름을적용한다는점에서차이가있음또한본원발명의열선콘트롤러를연결하는 (D) 구성은인용문헌-2에언급되어있지않음본원발명인용문헌-3 자동차유리의 XXXX 장치한국공개특허 199X-000XXXX 본원발명은자동차유리의습기및 기술요약구성대비유사점차이점 성에를제거하는장치와관련된기술인용3은자동차전면유리의성에제거방로서, 강화유리를구성하는전후판법을위한글라스구조에관한기술로서, 유리의내측면에 ITO를코팅하고, 전글라스내부에열을발생시키는전도성후판유리의상간에합성수지필름을필름을설치하고, 이전도성필름에전류개재하여압착가공하고, ITO를자동를공급하는배터리및스위치를설치한차용열선콘트롤러와전기적으로연구조임결하는것을특징으로하는기술임 (A) 자동차유리의습기및성에제거장치 A자동차유리의성에제거장치 (B) 전후판유리의내측면에각각투 B유리내부에발열성전도성필름을설명도전체인 ITO를코팅함치함 (C) 전후판유리를합성수지필름을개 D전도성필름과전류를공급하는배터리재하여압착가공함및스위치를설치하여제어함 (D) 도전체에열선콘트롤러를연결함본원발명의 (A),(B),(D) 는인용문헌-3의 A,B,D와일부유사하다고판단됨본원발명의전후판유리의내측면에각각투명도전체인 ITO를코팅하는 (B) 의구성및전후판유리를합성수지필름을개재하여압착가공하는 (C) 의구성은, 인용문헌-3의유리내부에발열성전도성필름을설치하는구조로구체적인형성방법에대한언급이없다는데에차이가있음종합검토의견 본원발명의자동차유리의성에제거장치 (A) 로서, 전후판유리의내측면에투명도전체인 ITO를코팅하고 (B), 전후판유리를합성수지필름을개재하여압축가공하고 (C), 도전체에열선콘트롤러를연결하는구조 (D) 는, 인용문헌-1의자동차유리의성에제거장치A로서, 2장의판유리에 ITO 등의투명전극을코팅하고B, 폴리머등의절연층을사이에두며C, 투명전극을가열전압소스와연결하는구조D와매우유사한기술로판단됨또한, 본원발명의 (A),(B),(D) 는인용문헌-3의자동차유리의성에제거장치에서두장의유리사이에열선을내장하고, 열선과연결되는전원부와스위치, 제어부를포함함으 48

50 로써독립적이고간단하게조작할수있는구조와일부유사하다고판단됨따라서본원발명의구성요소인 (A),(B),(C),(D) 는인용문헌-1과인용문헌-3을결합하면용이하게발명할수있는것으로사료됨 < 관련도표시기호 > X : 이문헌에의해대상발명의신규성또는진보성이없는것으로인정 Y : 이문헌과 1 이상의다른문헌과결합하여대상발명을당해분야의기술자가극히용이하게발명할수있는것으로인정 A : 특별한관련은없으나일반적선행기술내용을포함하는자료 위의선행기술조사사례를살펴보면, 선행기술조사는본원발명의기술내용을이해 정리하고, 선행문헌을찾기위한검색식을다양한관점에서작성하고, 작성된검색식을통해검색된특허를스크리닝하면서본원발명과유사도가높은특허를인용문헌으로선정한후본원발명과인용문헌의유사점과차이점을분석하는프로세스로이루어진다. 본원발명과인용문헌의유사점과차이점을분석한이후에모든분석내용을토대로종합검토의견을작성하여야한다. 종합검토의견에는필수적으로본원발명의등록가능성에대한의견을밝혀야하고, 그외에본원발명과인용문헌의차이점을근거로본원발명의등록가능성을높일수있는방안을적거나본원발명에새롭게추가할수있는구성요소가있다면그에대한의견을기재하는것이권리범위를설계하는데도움이된다. 8. 특허침해여부판단및회피설계방안제시 49

51 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 (1) 특허침해여부판단 특허침해판단의절차흐름은전세계적으로비슷하다. 등록특허의청구범위에기재된내용을구성요소를중심으로파악하여, 모든구성요소를실시하고있을때, 특허권을침해한다고하는것이다. 이러한침해를특허권을직접침해하는것이라하여직접침해라고부른다. 다만, 이러한직접침해외에도특허권자를폭넓게보호하기위해추가적으로침해로보는이론들이있는데균등론 3), 간접침해 4) 등이있다. 이러한균등론의인정범위나간접침해의범위, 청구범위의해석기준등에있어서는각국마다조금씩의차이는있다. 그러나현실적으로는동일한사안일지라도대리인의주장입증의내용이나재판부의태도에따라결론이달라질수있고, 국가별로실무의차이에위해침해혹은무효의판단이달라지는경우가흔히있다. 따라서주어진침해사안에대해침해냐비침해냐를정확히판단하는것은어떻게보면불가능하고시도자체가의미가없다고느낄수도있다. 그렇지만, 본가이드는침해판단에그목적이있는것이아니고, 침해위험도를 평가하는데목적이있는것이다. 즉, 어떤특허에대해어떤제품이침해로결론이 날위험도가높은특허들을찾아내고분석하는데목적이있는것이다. 특허침해판단은먼저특허청구범위를해석하여특허발명의보호범위를확정하고, 다음으로대비대상이되는제품을분석하여특허발명의구성요건에대응되는구성요소들을추출한다. 이후에이들구성요소들의대비표인소위청구항대비표 (Claim Chart) 를작성한다. 3) 균등론 (Doctorine of equivalents): 특허청구범위에기재된권리범위를해석할경우에, 명문에한정된내용으로만한정해서권리범위를인정하면특허권자의실효적보호가미흡하고, 청구범위에모든실시태양의기재가불가능하다는점에서, 그권리범위를청구범위에기재된내용과균등한영역까지확장해주는이론으로, 국내에서는명문의법조문은없으나판례가이를인정하고있다. 4) 간접침해 ( 특허법제 127 조 ): 간접침해는균등론과같이특허권자를실효적으로보호하기위한일방편으로서, 직접침해는아니지만그대로방치할경우침해의개연성이높은행위들을말하며, 이러한행위들은특허청구범위의구성요소를모두실시하는직접침해에는해당하지않음에도, 특허법제 127 조에의해침해로의제하는것이다. 50

52 청구항대비표작성결과대비대상제품에특허발명의모든구성요건이구비되어있으면구성요소완비의원칙 (All Element Rule) 5) 에의해직접침해로된다. 만약대상제품에특허발명의구성요건중일부가결여되어있으면, 구비된구성요건만으로간접침해를구성하는지여부를판단한다. 만약대상제품에특허발명의구성요건에대응되는구성요건중일부가상이하면, 그상이한구성요건에대해균등관계해당여부를판단하게된다. 균등관계 6) 가성립하지않으면비침해로된다. 균등관계가성립하는경우출원경과금반언원칙 7) 을검토하여균등과관련하여금반언에해당하는행위가있었으면균등이부정되고비침해로된다. 균등과관련하여금반언에해당하는행위가없었다면균등이최종성립되어침해로된다. 5) 구성요소완비의원칙 (All element rule): 특허청구범위에는발명의구성에없어서는아니되는필수구성요소를기재해야하며, 특허청구범위에기재된구성요소각각은발명자에의해필수요소로특정된것이므로, 특허청구범위에열거된구성요소의모두를실시하는것을침해의성립요건으로한다는원칙이다. 6) 균등범위에해당하는발명간의관계, 즉, 양발명간에균등론이적용되는관계. 7) 금반언원칙 : 이미표명한자기의언행에대해이와모순되는행위를할수없다는원칙을말하며, 특허법적으로는출원과정에서출원인이의식적으로제외한것으로볼수있는범위는권리범위의균등범위에서제외하도록판단하는데이용된다. 51

53 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 [ 침해판단프로세스 ] 여기서균등론은구성요건완비의원칙의적용이실패했을때적용된다는점과, 균등론이적용되어야만출원경과금반언의원칙이적용된다는점에주목해야한다. 원래균등론은구성요건완비의원칙의한계를완화하여특허권의보호범위를넓히기위해도입된것이고, 출원경과금반언의원칙은균등론의적용범위를제한하기위해도입된것이다. 52

54 (2) 회피설계방안제시어떤제품 ( 혹은 R&D 결과물 ) 이특정특허를침해할가능성이높은것으로판단이될때문제가되는특허가무효사유를가지고있는지조사하는것이우선수행되겠지만, 문제특허가무효사유를가지고있지않은것으로판단될경우그다음단계로취할수있는조치는문제특허의기술과동일하거나보다우수한성능을가지면서, 변경을최소화하여핵심특허의권리범위를피해가는방안을찾는것이다. 일반적으로이러한과정을회피설계 (Design around) 라고한다. 일반적인회피설계전략은기존의 R&D 결과물이나제품의변경을최소화한다는점과신속한개발이가능하다는점이장점으로새로운 R&D 방향을근본적으로설계하는것과는구별된다. 또한침해를회피하는것을목표로한다는점에서특허권리의허점을찾는비침해논리개발전략과연계되어있다. 그러면회피설계의기본적인방법에대해살펴보자. 회피설계의기본은구성요소완비의원칙 (All Element Rule) 을활용하는것이다. 즉특허침해에해당하기위해서는구성요소완비의원칙에따라침해소지가있는문제특허청구항에기재된모든구성요소를제품이그대로동일하게실시하고있어야한다. 따라서문제특허의청구항을면밀히분석하여구성요소들중어느하나의구성요소를삭제하거나다른구성요소로치환함으로써, 문제특허와동일한기능및성능을발휘할수있는경우에는그구성요소의삭제또는치환을통해문제특허의권리범위를회피할수있는것이다. 구성요소의삭제 구성요소의삭제를통한회피설계방법은우선제품이구현하고자하는제품의기능및성능을염두에둔후, 침해소지가있는청구항에기재된구성요소들중일부를제외시켜도원하는기능과성능을구현하는데문제가 ( 지장이 ) 없는제외가능한구성요소를찾아보는것이다. 53

55 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 특허출원시에는권리범위를넓게받기위하여해당제품의성능및기능을발현하는데반드시필요한필수구성요소들로만청구항을작성하는것이일반적이다. 하지만, 청구항의작성과정에서필수구성요소에대한고려가충분히이루어지지않았을수도있으며, 특허출원후심사과정에서자신의특허발명은종래기술들과는다르다는것을주장하기위해청구항에구성요소나한정사항을추가하여이러한허점이발생할수있다. 따라서목적하는기능과성능의관점에서청구항에기재된구성요소들을면밀하게살펴보면구성요소자체를제외하거나또는특정한한정사항을꼭넣지않더라도원하는기능과성능을발현하는데문제가 ( 지장이 ) 없는구성요소를발견할수도있다. 구성요소의치환 문제특허의청구항에허점이많으면구성요소의삭제를통해비교적쉽게회피설계가가능하지만, 필수적인구성요소들만으로청구항이작성된경우에는구성요소의치환을고려해볼수있다. 다만, 구성요소치환시주의해야할점은치환된구성요소가문제특허의청구항구성요소와유사한경우침해를벗어나지못할가능성도존재한다는것이다. 예를들어, 일반적으로혼용되는간단한부품들 ( 나사, 리벳, 접착제 ) 를바꾸는것만으로는회피설계를위한치환의효과를얻을수없는경우가있으니주의해야하고, 구성요소를치환할경우균등론에의해확장되는특허청구범위밖의영역을선택적용해야한다는뜻이다. 다만회피설계는법리적인측면에서핵심특허의권리범위를벗어나면서도기술적인측면에서는제품의기능과성능에는영향을주지않도록해야한다는점에서결코쉬운작업은아니다. 따라서회피설계는특허침해및비침해를객관적으로판단할수있는특허전문가와제품설계를자유롭게할수있는엔지니어가함께진행하는것이바람직하다. 이와같이회피설계전략을 R&D 의측면에서보면이미알고있고적용이간단한 기술적인요소를삭제하거나치환함으로써비교적간단하게전략을마무리할수있 다. 그러나많은경우삭제나치환의대상을결정하더라도상당한연구와노력이있 54

56 어야만삭제나치환에따른문제점을극복하고제품을구현할수있게된다. 이과정에서새로운아이디어를도출하고이를기반으로설계를추진하는방안이일반적이기는하나, 특허분석을활용하여회피설계의대상이없는아이디어를선행특허로부터도출하거나아예처음부터특허권침해의소지가없는기술을기반으로 R&D를추진하는것도가능하다. 만약문제특허에서구현하고자하는기능과성능을보다개선된해결방법으로구현할수있게된다면, 이는단순히회피설계를이루어낸것일뿐아니라새로운특허확보가가능하게된것일수도있다. 회피설계전략을통해얻을수있는가장바람직한결과를얻을수있게된것이다. 회피설계를통해얻은특허들은일반적으로활용가능성이매우높고침해에도안 전하며후발주자를견제할수있는기능까지갖춘경우가많아전략적으로매우의미 있는특허일수있다는점에서그가치가높다고할수있다. 55

57 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 9. 공백기술영역도출 (OS- 매트릭스분석 ) OS-매트릭스는서로다른 2가지의변수, 즉 R&D의목적 / 해결수단을기준으로표형태의매트릭스를작성하고, 매트릭스내에특허분석데이터를대응시켜분포형태, 내용등을분석함으로써 R&D의가능성을평가하고 R&D의추진방향을좁혀나가는기법이다. 이러한매트릭스기법의핵심은 R&D의목적이나목적해결을위한기술적수단들을어떻게그룹핑할것이냐이다. 매트릭스기법의특성상수많은모집단의목적 / 수단들을일정한수이내로그룹핑하는것이필수적이고, 이러한그룹핑에따라분석의결과및 R&D의방향역시달라지게된다. 매트릭스분석으로특정목표를위해이용할수있는기술적수단, 기술적수단이 활용될수있는목적등이분석된다. 매트릭스의작성방법에따라이러한관계들의 시간적변화흐름도알수있다. [OS- 매트릭스작성사례 ] 56

58 위의사례는연도별로과제와해결수단이도출된건수를매트릭스상에표시해놓 은것이다. 이를통해기업의관심영역을바탕으로증가영역이나의미있는공백영역 을찾아표시하면 R&D 과제를도출할수있다. 또한매트릭스분석에서매트릭스상에존재하는공백부분은중요한시사점을제시해준다. 대부분의경우매트릭스를작성해보면목적과수단이서로대응되지않는즉, 특정한목적을위해특정한기술이사용된적이없는영역들이다수존재하게된다. 문제는이러한공백들이그동안그활용가능성을몰랐으나 R&D를시도해볼가치가있는유의미한공백일수있고, 그러한영역들이기술적으로상관관계나실현가능성이없는무의미한공백일수있다는점이다. 위의사례와같이유의미한공백일경우 공백영역 으로표시하고, 무의미한공백일경우 비매칭영역 으로구분하여표시하는것이명확하다. 실무에서도매트릭스상의공백에대해서는공백영역을재평가하는작업이진행되 고있으며, 이과정에서는기술전문가 ( 해당기술분야의연구원, 박사등 ) 와특허전문 가 ( 특허분석을수행한인력 ) 가협업하는것이바람직하다. OS-매트릭스분석은각각의특허에대해목적과수단을파악하여정리해야하기때문에특허분석기법에서도시간이많이소요되는분석에해당한다. 유효특허전체를대상으로 OS-매트릭스분석을진행하는것이가장이상적이긴하나, 실제로는분석기간을고려하여핵심특허, 주요특허및주요출원인의특허를대상으로 OS-매트릭스를분석하는경우도많다. OS-매트릭스분석을진행하기전에분석기간을고려하여어떤특허를대상으로 OS-매트릭스분석을진행할것인지에대한판단을내리는것도중요하다. 다만, OS-매트릭스분석의대상특허건수가너무적으면아무런분석결과가안나올수있기때문에분석기간과특허건수를함께고려하여야한다. 57

59 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 제 4 장 예시답안분석및평가 1 ( 선행특허조사 ) 58

60 Ⅳ-1. 선행특허조사부문예시답안분석및평가 1. 개요 본단원에서는기존에출제된선행기술조사부문의예시문제와그에대해연도별로선정된우수답안의예시를보면서, 각영역에대한우수한점및보완할점을확인하면서, 더나은결과물을도출하기위한추가적인 Tip을제공하는것을목표로한다. 본단원에서인용하고있는우수답안들은홈페이지에서전문을확인할수있으며, 이교안의설명내용과우수답안을비교분석해보면, 선행기술조사부문의과업을수행함에있어서보다나은결과물을도출해낼수있는방법을획득할수있을것이다. 59

61 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 2. 예시답안 1 박막형태양전지로사용되는무기박막물질을증착하기위한방법 (2012_F4) 박막형태양전지로사용되는무기박막물질 ( 예, CIGS, CdTe, CZTS 등 ) 을 증착하기위한방법가운데진공장비를사용하지않는공정, 즉비진공공정 기술에관한선행기술을다음의조건에맞게조사하시오. - 조건 년이후기술검색 2. 검색대상국가 ( 미국, 한국, 일본, 유럽 ) 3. 검색언어 : 영어, 한국어 4. 출원국가별, 증착물질별, 세부증착기술별통계자료도출, 특허경향분석 (1) 검색식작성및검색결과제시 예시답안의예 (P.4) step 확장키워드 분류 건수 1 나노입자 + 잉크 + 솔루션 + 코팅액 + 페이스트 + 분말 + 박막시 전구체의 나노파티클 + 전착 + 전기증착 + 순환전압전류법 + 시간대전류법 형태 or 방법 인쇄 + 프린팅 + 용액성장법 + 스프레이 + 닥터블레이드 + 화학기상증착법 + 분무열분해 2 ( 나노입자 + 잉크 + 솔루션 + 코팅액 + 페이스트 + 분말 + Step 1 and 618 나노파티클 + 전착 + 전기증착 + 순환전압전류법 + 시간대전류법 태양전지 + 인쇄 + 프린팅 + 용액성장법 + 스프레이 + 닥터블레이드 + 화학기상증착법 + 분무열분해 ) and ( 태양전지 + 태양광전지 + 태양광에너지 + 태양에너지 ) 3 (( 나노입자 + 잉크 + 솔루션 + 코팅액 + 페이스트 + 분말 + Step 2 and 141 나노파티클 + 전착 + 전기증착 + 순환전압전류법 + 시간대전류법 + 인쇄 + 프린팅 + 용액성장법 + 스프레이 + 닥터블레이드 + 화학기상증착법 + 분무열분해 ) and ( 태양전지 + 태양광전지 + 태양광에너지 + 태양에너지 )) and ( 박막 + 박막형 + 필름 + 필름형 + 얇은막 ) 박막 4 ((( 나노입자 + 잉크 + 솔루션 + 코팅액 + 페이스트 + 분말 + Step 3 and 36 나노파티클 + 전착 + 전기증착 + 순환전압전류법 + 시간대전류법 재료 + 인쇄 + 프린팅 + 용액성장법 + 스프레이 + 닥터블레이드 + 화학기상증착법 + 분무열분해 ) and ( 태양전지 + 태양광전지 + 태양광에너지 + 태양에너지 )) and ( 박막 + 박막형 + 필름 + 필름형 + 얇은막 )) and (CdTe or CIS + CuInSe + CIGS + Cu(InxGa1-x)Se + Cu(In,Ga)Se + CGS + CuGaSe + CZTS + CuZnTeS + CIGSS + Cu(In,Ga)(S,Se) + CIGSe + CdS + CISe + CuInS + Cu(In,Ga)S + CGSe + CuGaS + CASe + CuAlSe + CITe + CuInTe + CGTe + CuGaTe + Cu(In,Ga)Se) 5 (((( 나노입자 + 잉크 + 솔루션 + 코팅액 + 페이스트 + 분말 + Step 4 and 32 나노파티클 + 전착 + 전기증착 + 순환전압전류법 + 시간대전류법 + 인쇄 + 프린팅 + 용액성장법 + 스프레이 + 닥터블레이드 + 화학기상증착법 + 분무열분해 ) and ( 태양전지 + 태양광전지 + IPC 태양광에너지 + 태양에너지 )) and ( 박막 + 박막형 + 필름 + 필름형 60

62 + 얇은막 )) and (CdTe or CIS + CuInSe + CIGS + Cu(InxGa1-x)Se + Cu(In,Ga)Se + CGS + CuGaSe + CZTS + CuZnTeS + CIGSS + Cu(In,Ga)(S,Se) + CIGSe + CdS + CISe + CuInS + Cu(In,Ga)S + CGSe + CuGaS + CASe + CuAlSe + CITe + CuInTe + CGTe + CuGaTe + Cu(In,Ga)Se)) and ((H01L-031/052 + H01L-031/042 + H01L-031/ H01L-031/04 + B82B-001/00 + B82B-003/00 + H01L-031/18).IPC.) 6 ((( 나노입자 + 잉크 + 솔루션 + 코팅액 + 페이스트 + 분말 + 나노파티클 + 전착 + 전기증착 + 순환전압전류법 + 시간대전류법 + 인쇄 + 프린팅 + 용액성장법 + 스프레이 + 닥터블레이드 + 화학기상증착법 + 분무열분해 ) and ( 태양전지 + 태양광전지 + 태양광에너지 + 태양에너지 ) and ( 박막 + 박막형 + 필름 + 필름형 + 얇은막 ) and (CdTe or CIS + CuInSe + CIGS + Cu(InxGa1-x)Se + Cu(In,Ga)Se + CGS + CuGaSe + CZTS + CuZnTeS + CIGSS + Cu(In,Ga)(S,Se) + CIGSe + CdS + CISe + CuInS + Cu(In,Ga)S + CGSe + CuGaS + CASe + CuAlSe + CITe + CuInTe + CGTe + CuGaTe + Cu(In,Ga)Se)) and ((H01L-031/052 + H01L-031/042 + H01L-031/ H01L-031/04 + B82B-001/00 + B82B-003/00 + H01L-031/18 ).IPC.)) and (@AD>= ) Step 조건기간 (1990 이후 ) 5 and 32 우수한점 복수의단계로검색식을설정한후각각의단계가진행될때마다추가된검색어를제시하고 and 조건으로연계함으로써검색조건의추가함에따라검색결과가점점좁혀지는과정을직접보여주고있다. 작성자가어떠한의도로검색어를추가하였는지에대한설명이잘드러나고있고, 각검색결과에따른검색수를기재함으로써노이즈데이터가제거되고핵심특허들이도출되는과정이표현되고있다. 하나의키워드에대해유사어를포함시켜검색하려는시도가포함되어있고 (step 3: 박막 + 박막형 + 필름 + 필름형 + 얇은막등 ), step 5에서 IPC로최종적으로기술분야를한정하여검색하려는시도가포함되어있다. 보완할점 검색키워드의나열이과하여검색결과가분산되는경향을보이는데, 하나의스텝에서 키워드를단순히많이포함한다하여반드시좋은것은아니다. 예를들어 step 1 의경우 나노입자 + 잉크 + 솔루션 + 코팅액 + 페이스트 + 분말 + 나노파티클 + 전착 + 전기증착 + 순환전압전류법 61

63 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 + 시간대전류법 + 인쇄 + 프린팅 + 용액성장법 + 스프레이 + 닥터블레이드 + 화학기상증착법 + 분무열분해 를검색어로기재하였는데, 이는나노입자를비롯한다양한물질형태의용어들및각 종박막제조방법들이 + 연산자를이용하여열거적인방법으로기재되어있다. 동일한 step에서 +(KIPRIS 기준 ) 으로묶이는키워드들은그의미가대등한것들또는하나의키워드에대한유의어일필요가있다. 예를들어 순환전압전류법, 시간대전류법, 용액성장법, 스프레이, 닥터블레이드, 화학기상증착법, 분무열분해 등은박막의제조방법으로그의미가대등한것들이므로 + 연사자로묶이는것이바람직하다. 또한, 전착 과 전기증착 / 나노입자 와 나노파티클 은유의어이므로 + 기호로묶이는것이바람직하다. 이때, 유의어는풍부하게검색식에포함될수록다양하게표현된동일한의미의키워드들이누락없이검색될수있다. 다만, 위의 나노입자 와 순환전압전류법 은그의미가대등한것도아니고, 유의어도아닌복수의서로다른개별키워드에해당하는용어이다. 이와같이하나의 step에서서로다른차원의개별키워드는 + 연산자가아닌 * 연산자로묶어주는것이바람직하다. 또한, 검색식에서 ( ) 괄호기능을사용함으로써, 보다의미있는검색식을작성할수있다. 따라서위의검색식의보다바람직한하나의예는아래와같다. ( 나노입자 + 나노파티클 ) * ( 전착 + 전기증착 + 순환전압전류법 + 시간대전류법 ) 즉, 나노입자이면서, 전기증착에의해형성된박막의경우에위의검색식에포함되어검출될수있는것이다. 수정전의검색식에따르면, 나노입자에대한모든기술, 전기증착기술에대한모든기술이검색됨으로써중요한키워드가중복되는조건의특허문헌을따로추출할수없는문제가있다. 62

64 그리고상기나노입자, 나노파티클의유의어는가능하면풍부하게첨가하는것이좋다. 또한, 나노와입자는별개의키워드이므로, 나노 * 입자 로나누어연산기호를통해묶어기재하는것이바람직하다. 위와같이검색식을기재할경우, 나노-파티클, 나노크기입자, 나노사이즈파티클, 미세입자 로기재된특허문헌들은검색되지않을수있기때문이다. 그러나 ( 나노 + 미세 ) * ( 파티클 + 입자 ) 로검색식을작성할경우위의 나노-파티클, 나노크기입자, 나노사이즈파티클, 미세입자 의용어가포함된특허문헌들이모두검색될수있을것이다. ((H01L-031/052 + H01L-031/042 + H01L-031/ H01L-031/04 + B82B-001/00 + B82B-003/00 + H01L-031/18).IPC.) 한편, 위와같이검색식의 step 5에서는, IPC 분류 ( 특허분류코드 ) 를최종분류항목까지모두한정하고있는데, 이는검색영역을지나치게좁히는것으로서핵심특허가해당 IPC에포함되지않아노이즈제거과정에서함께빠져나갈위험이있다. 예를들어, H01L-031/04 는 (H01) 기본적전기소자중, (H01L) 반도체장치 ; 다른곳에속하지않는전기적고체장치에해당하면서, (H01L-31) 적외선복사, 가시광단파장의전자기파, 또는입자복사에감응하는반도체장치로, 이들복사에의한에너지를전기적에너지로변환하거나이들복사에의해전기적에너지를제어하는것에특별히적용되는것 ; 그들장치또는그부품의제조또는처리에특별히적용되는방법또는장치 ; 그들세부에포함되고, (H01L-031/04) 그중에서변환장치로사용되는것에대해서만검색되는것이다. 즉, 위의검색식은 IPC 를한정할시최종하위항목까지한정하여그범위를매우좁힌 것인데, H01L 또는 H01L-31 정도까지만한정하여기재하는것도검색과정에서중 요특허들의누락을방지하는하나의방법이될수있다. 63

65 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 추가적인 TIPS 관련기술의선행특허문헌을검색하는방법은 (1) 검색식을이용해서특허문헌을필터링함으로써한정하는방법과, (2) 검색해서필터링된자료의특허문헌주요부분을직접읽고확인해서특허문헌을한정하는방법크게두가지로나뉠수있다. 위의검색식에따르면, 최종단계에서검색식을통해한정된특허문헌수는 32 건인데, 이는검색식을지나치게좁은영역으로한정하여필터링한것에해당하여중요한특허가상당수검색되지않은것일수있다. 중요한특허들을누락없이검색하기위해서는, (1) 검색식을조금더넓게작성하여더많은특허문헌수를확보한상태에서, (2) 확보된특허문헌들의발명의명칭, 주요청구항, 요약서및도면등을통해최종적으로핵심특허들을선정하는방법을병행하는것이바람직하다. 한편, 사용 DB가 WIPSON 일경우에는, 검색어에절단자 * 를포함해서검색하는것도검색과정에서중요한특허문헌의누락을방지하는중요한수단이될수있다. (KIPRIS의경우 * 연산자는교집합 (WIPSON 의 and 연산자 ) 을의미 ) 64

66 (2) 정량분석총괄 예시답안의예 (P.9 ~ P.12) ** 편의상증착물질에관한기술분류영역및한국에대한조사결과에한정해서설명하도록한다. ( 전체조사결과 ) ( 한국조사결과 ) 65

67 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 우수한점 각국특허청을나누어비교가능하도록그래프를도시하였고, 연도별각국특허청에출원된특허문헌의점유율을비교할수있는그래프를포함하여, 연도별로어느나라에출원이많이진행되었는지를한눈에파악할수있다. 기술소분류에따라서연도별출원수를파악할수있는그래프를도시하여어느분야의출원이어느시점에많은수진행되었는지를쉽게파악할수있다. 보완할점 각국특허청별연도별출원동향은서로잘비교되도록제시되어있으나, 연도별각국의출원수를합친그래프가포함되어있지않아서, 전체출원수가어떻게변화되었는지한눈에파악하기어려운문제가있다. 또한, 연도별출원증감율에대한표현이되어있지않아다소아쉬운측면이있다. 보조축으로하여연도별증감율그래프를함께포함하였다면, 하나의그래프내에서연도별증감율까지한눈에파악할수있는효과가생길수있다. 예를들어아래와같은두개의축을가진그래프로도시하였으면, 각국특허청의출원동향및전체특허청에출원된출원동향및연도별증감율을동일한스케일에서한눈에파악할수있을것이다. 66

68 한편, 본조사의정량분석에서는출원인별출원동향에대한분석정보를포함하고있지않은아쉬움이있다. 조사의목적에따라보고서에포함되는그래프는조금씩상이할수있으나, 출원인별출원동향조사는업계의주요경쟁사를파악할수있고, 연구개발을선도하는기업을확인할수있는중요한분석툴에해당한다. 예를들어, 아래와같은주요출원인출원동향그래프를통해기술분야별주요출원인의출원현황을파악할수있다. 또한, 본조사의정량분석에서는전체구간대비최근구간점유율을포함하고있지않 67

69 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 다. 전체기술분류영역에있어서최근에 R&D가활발하게연구되고있는기술영역을전체구간대비최근구간의출원점유율분석을통해파악할수도있을것이다. 예를들어, 아래와같은그래프를제공한다면기술분류별로전체구간대비최근구간의출원점유율을분석하여, 최근연구개발이집중되고있는기술분류영역을파악할수있을것이다. 68

70 추가적인 TIPS 연도별출원동향그래프의핵심은연도별로출원된특허문헌의수가어떻게변화하고있는지출원의증가추세혹은감소추세를한눈에파악하기위함이다. 따라서출원증감율에대한그래프는막대형그래프보다는변화를파악할수있는곡선형그래프로표현하는것이바람직하다. 예시답안의예 (P.10) 위의예시답안과같이, 정량분석을수행하다보면대부분의특허들이복수개의기술분류영역에중첩되어포함되는경우가발생할수있다. 이는, 위의예시답안과같이증착물질과증착방법과같은복수개의발명을각각출원하지않고, 하나의특허문헌에증착물질을기재하면서그증착물질을이용한증착방법도함께포함하여출원하는것이일반적이기때문이다. 이경우, 기술분야별출원수를기입할때에는검색된특허문헌을별개의기술분야에각각중복하여포함시키되, 전체기술분야의총출원수에대한동향을확인하는항목에서는하나의건으로하여포함하고, 비고란에그에대한개수산정방식을별도로기 69

71 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 재하는방식으로데이터를취합하면혼동없이명확하게정보를전달하고, 정량분석을 수행할수있을것이다. 70

72 (3) 기술분류표 (Tech-Tree) 작성및각분류별기술내용설명 예시답안의예 (P.8) ( 기술분류 ) 우수한점 기술분류를대분류- 중분류- 소분류로상위기술개념에포함되어있는하위기술개념을잘분류하여기재하였고, 각각의대등한항목들을중분류및소분류에적절한병렬방식으로기재하였다. 각각의기술영역별로조사된출원건수를국가별로나누어기재하였고, 각소분류별로총합계를포함하여소분류혹은대분류별로총출원수를한눈에파악할수있도록표를작성하였다. 비진공태양전지에있어서, 조사하고자하는대상기술인증착물질및증착기술에대해중분류를한정하고, 증착물질에포함되는핵심성분및증착기술의종류를소분류에열거한것은상위기술개념과하위기술개념이적절히조화된잘짜여진기술분류표라고판단된다. 71

73 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 보완할점 기술분류를하면서각각의기술영역에대한설명 ( 정의 ) 및기술분류이유를간략하게나마포함시키는것이좋다. 각각의기술영역에대한설명을포함할경우, 각각의기술영역이무슨기술인지지, 각각의기술을왜병렬구조로분류하였는지에대해자료를읽는사람이쉽게이해할수있고, 이후의정량분석및정성분석결과에대한이해도및신뢰도를확보하는데도움을줄수있다. 한편, 위의표에서는중분류 ( 증착물질및증착기술 ) 를합친대분류 ( 비진공태양전지 ) 에대한총출원건수만이표현되어있는데, 이는전체대분류의출원수를확인할수있을뿐이다. 각각의중분류별총계항목을별도로더포함하였다면, 증착물질또는증착기술의각중분류영역에있어한국, 미국, 유럽및일본각각의출원수를한눈에보기쉽게파악할수있었으리라생각된다. 추가적인 TIPS 각소분류항목이해당상위개념기술분류의산업에있어시장을주도하는핵심기술인지, 또는핵심기술에부가하여보조하는보조기술인지여부를표현하면더욱바람직한분류표가될수있다. 대등한기술내용이아닐지라도다른키워드들과같은분류영역에병렬식으로포함하여야하는경우가있을수있는데, 이때기술의핵심기술 / 보조기술여부를표시하는항목이있으면표의각항목을더욱쉽게이해할수있을것이다. 72

74 (4) 핵심특허도출및도출이유제시 예시답안의예 (P.25) ( 핵심특허 ) 우수한점 핵심특허를선정하면서, 피인용 / 인용횟수및패밀리건수를기재하였고간략하게라도핵심특허로선정한이유를기재하였다. 위에는일예로서핵심특허로선정된한국특허만을기재하였으나, 미국및일본특허청에출원된기술들도최소 1건이상씩을핵심특허로선정하여고르게기재하였다. 보완할점 간략한출원에대한정보를기재하였으나, 현재특허문헌의상태 ( 출원계속중 / 등록 / 존속기간만료등 ) 가표시되어있지않고, 방법특허의경우순서를나타내는도면이, 장치나물건특허의경우그구조를나타내는도면이특허의요지를파악하는데중요한역할을하므로대표도를포함할수있다면특허정보에대한보다바람직한요약기재가될수있을것이다. 73

75 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 핵심특허를선정하는기준은여러가지가있을수있다. 본발명의경우간략하게피인용 / 인용횟수및패밀리특허문헌을기준으로하여표시하였으나, 기술적인내용에대한분석은포함되어있지않은아쉬움이있다. 또한패밀리건의출원국가및건수를각각기재하지않은아쉬움이있다. 특허문헌의중요도를판단할때특허청구범위의내용으로확보되는권리범위를분석하는것은대단히핵심적인기준중하나이다. 조사된특허문헌의권리범위를판단하기위하여적어도대표청구항 ( 독립항 ) 의내용을파악및제시하고, 특허의권리범위가중요한기술내용을포함하고있는지, 얼마나넓게작성되어등록되었는지를제시할필요가있는것이다. 요약서 (abstract) 부분은특허문헌의내용을요약하는부분이긴하나, 출원단계에서핵심적인구성이아니며, 특허가등록되는과정에서영향을미치는부분도아닌것이므로, 요약부분과대표청구항부분중하나를선택한다면권리범위를포함하고있는대표청구항을포함하는것이특허의중요도를제시하는데있어더바람직할수있다. 또한, 출원연도, 등록후잔여존속기간, 주요출원인에의한출원인지여부등은이후의 R&D 또는기술실시여부에있어대단히중요한기준이될수있으므로, 핵심특허를산정하는또하나의기준으로포함시킬수있다. 추가적인 TIPS 핵심특허를선정하는기준은다양하게존재할수있으나, 선정방법에정답은없다. 핵심특허의선정은, 동향조사의목적에부합되도록여러가지기준들을조합하여특허의가치를평가하는기준을수립하여일관되게평가하여제공할수있으면된다. 정성분석의궁극적인목표인핵심특허선정및분석결과는, 잘조합된핵심특허를선정하기위한명확하고획일적인기준이적용될때비로소의미를획득한다고볼수있는것이다. 74

76 3. 예시답안 2 은나노입자제조방법 (2013_D6) 전자, 광학, 촉매등의분야에서활용되는것은물론항균특성등을이용하여응용분야를다양하게넓혀가고있는은 (Ag) 나노입자는여러가지물리 화학적방법들을사용하여제조되고있다. 최근에는나노물질의안전성과관련하여은 (Ag) 나노입자의인체유해성이이슈가되기도하였는데, 이러한은 (Ag) 나노입자의제조방법에대한선행기술을아래의조건에따라조사하고, 질문 (1~3) 에대하여답하시오. 1 은 (Ag) 나노입자제조방법을기술적특징에따라분류하고, 각분류별로 5건까지주요선행기술의핵심적인내용을요약하여제시하시오. 2 대한민국특허출원제 호 ( 은나노입자제조방법 ) 의특허청구범위에기재된발명과관련된선행기술을 10건까지제시하고, 관련정도 (X, Y) 를구분하여검토하시오. 3 상기출원을등록받기위한보정 ( 명세서 / 청구범위 ) 방안을제시하시오. 4 위의결과를바탕으로, 은 (Ag) 나노입자제조방법에서의기술개발방향에대하여제안하시오. - 검색대상 : 한국, 미국, 일본, 유럽특허문헌 - 검색기간 : 1990 년 ~ 현재 ( 논문등비특허문헌을포함하거나 4 의답변을포함한경우가점 ) ( X: 하나의 문헌으로신규성 / 진보성을부정, Y: 둘이상의문헌을조합하여진보성을부정 ) 75

77 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 (1) 국가별출원동향분석 예시답안의예 (P.8) 국가별특허동향 은나노입자제조관련특허의주요국가한국 (KR), 일본 (JP), 미국 (US) 의연도별특허출원건수이다. 일본과미국은한국보다앞선 1990년대부터은나노입자제조기술관련특허를출원함을알수있다. 이는은나노입자제조기술연구가한국보다먼저진행되었음을의미한다. 두국가는 2004 ~ 2009년까지특허출원건수가활발하게나타났고, 2010년에는한국이 146건으로가장많은특허를출원하였다. 한국의은나노입자제조기술연구는 2010년에붐을일으켰다고해도과언이아니다전세계출원비율 76

78 1991 년부터 2013 년 5 월 ( 검색일 ) 까지국가별특허동향을살펴보면한국이 268 건 43% 로가장특허건수가많으며그뒤로일본 249 건 3%, 미국 100 건 16%, 유럽 13 건 2% 로순의특허점유율을나타내었다. 일본국출원동향 일본의경우 1991년부터 2000년까지특허출원수가증가하다가 2003년부터급증하기시작한다. 이는나노입자제조기술연구가활발하게진행됨을알수있고, 2007년에가장많은특허 (13.3%) 를출원하면서가장활성화됨을알수있다. 이후 2011년이후로특허출원건수가주춤하면서 2012년에는낮은출원건수를보였다. 우수한점 국가별연도별출원동향그래프를제시하여연도별로각국가의출원수가어떻게변화하였는지한눈에파악할수있도록제시하였다. 3D 원그래프를이용하여전체출원건중, 각국가별로특허가많이출원된국가의비율을한눈에파악할수있도록제시하였다. 주요 4개국각각에대해개별적으로연도별로출원수변화를확인할수있는그래프를제공하여, 전체국을하나의그래프내에서비교분석하는외에도개별국내의연도에 77

79 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 따른출원수변화를쉽게파악할수있도록제시하였다. 보완할점 특허문헌의공개시점은일반적인경우에출원일로부터 1년 6개월이경과한시점 8) 이다. 위의자료는 2013년의 CPU 대회자료이므로, 2013년까지의 DB를기준으로조사된자료에해당한다. 2013년중반에조사가수행되었을경우를가정할경우, 2012년부터는사실상특허법상미공개구간에해당하는영역이다. 따라서위그래프의 2011년및 2012년구간은출원건수가정체혹은감소추세를보이고있는데, 사실상이구간은미공개영역에해당하는다수의특허를더포함하고있을수있는것이다. 따라서출원동향을분석함에있어이구간에서의정체혹은감소추세는사실상의미가없으며, 동향분석시에미공개구간을제외하고그추세를분석할필요가있는것이다. 한편, 국가별출원동향그래프에는각국의개별적인그래프는그려져있으나, 한국 / 미국 / 일본을총합한세계동향에대한그래프는그려져있지않은아쉬움이있다. 세계적으로본기술의연구개발이활발히진행되고있는지를분석하기위해한국 / 미국 / 일본의출원건수를모두합친총출원수에대한동향그래프가포함되었으면더욱좋은분석자료가되었을것이다. 8) 출원공개 ( 특허법제 64 조 ): 특허법상특허출원된발명에대하여심사청구유무와관계없이일정기간이경과하면출원내용을공보에게재하여공포하는제도를출원공개제도라하며, 이는발명의공개를통해기술발전을촉진하여산업발전을도모하고중복투자를방지하기위함이다. 특별한경우를제외하면, 특허출원일로부터 1 년 6 개월이지난시점에특허출원은공개됨이원칙이다. 78

80 추가적인 TIPS 위의그래프는미공개구간을표시하여아래와같이표현될수있다. 이를통해마지막감소구간을포함하여분석할경우, 산업의현재동향은점차급격히쇠퇴하고있는쇠퇴기로파악할수있지만, 미공개구간을제외하고분석할경우산업은현재숨을고르고있는정체기혹은성숙기에있다고분석할수있는것이다. 미공개구간에대한표시는아래와같이영역을설정해서표시하고, 특허법상의출원공개시점에대한정보및본분석에쓰인정량분석데이터의구간을아래와같이명확하게표현하는것이바람직하다. 79

81 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 (2) 대상특허의기술용어의미분석 예시답안의예 (P.11) 은나노입자제조방법분석 ( 개요 ) 전자, 광학, 촉매등의여러분야에서각광받고있는은나노입자의제조에는활용분야에따라여러가지방법이있다. 앞서분류한환원제첨가유무에따른제조법 5가지에대해각기술적특징별로주요선행기술을특허와비특허문헌분석을통해요약제시한다. 주요선행기술은특허문헌과비특허문헌으로나뉘며특허문헌분석은윈텔립스 (WINTELIPS) 에근거하였고, 비특허문헌은 SCI급논문에서발췌하여분석하였다. ( 기술별분류 ) 은나노입자의제조방법을기술적특징에따라크게화학환원법, 열분해법, 초음파법, 가 스증발응축법, 에너지조사법으로분류하였다. 각제조방법별로개념및정의, 기술의특 징, 대표공정, 주요선행기술을 5 건까지제시하였다. (1. 화학환원법 ) 화학환원법은화학반응을이용하여핵생성시킨후원하는크기까지성장시켜나노분말을제조하는방법이다. 주로은나노입자의원료가되는은염을용해한수용액에분산제, 소포제, 환원제등을함께첨가하여환원제에의한은의환원작용을유도하여미세한나노입자를얻는방법이다. 80

82 ( 기술의특징 ) 액상법에의한환원반응에서는은의이온상태가매우불안정하여입자의형상과크기가불규칙한입자를만들기쉬우므로, 입자의형상과크기가제어된은나노입자를제조하기위해서는환원제를첨가하는등환원속도를제어해주어야할필요가있다. 하지만이러한방법은그과정이복잡하며, 여러가지재료가다량사용되기때문에부산물이다량발생될뿐만아니라고비용이며비효율적이라는단점이있다. ( 대표공정 ) 81

83 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 ( 주요선행기술제시 5 개 ) 우수한점 기술을분석함에앞서기술의분류를제시하고, 특허문헌과비특허문헌을조합하여기술의의미를파악하였다. 또한, 특허문헌과비특허문헌을조사한각각의 DB 근거를명시하여자료의신뢰성을확보하였다. 기술을대분류, 중분류, 소분류로명확하게나누어분류하고, 그분류된기술영역간에상위개념과하위개념을한눈에파악할수있도록도시하였다. 전체적으로거시적시점에서기술의틀을파악한후, 각각의소분류기술별로개념및정의를설명하고구체적기술의특징을제공한후, 대표공정을순서도를사용해쉽게파악되도록제시하였다. 보완할점 82

84 주요선행기술 5개의정보에대해문제에서요구한대로순서대로나열하였으나, 5개선행기술을한눈에비교할수있는간략한표가첨부되었으면더좋은보고서가될수있었을것이다. 개별선행기술에대한정보에는발명의명칭, 출원번호, 출원인, 요약, 대표청구항및도면을포함시키고있다. 다만, 제시된정보만으로는패밀리특허가있는지여부, 출원일이언제이고현재상태가등록된상태인지소멸된상태인지여부, 등록되었다면존속기간이얼마나남아있는특허인지여부등이파악되지않는문제가있다. 더불어주요선행기술각각에대해이특허를주요선행기술로선정한작성자가파악한이유를간략하게라도기재하였으면, 해당특허가각각의기술분야에서어떠한의미에서주요특허인것인지이해할수있었을것이다. 특허문헌을기술소분류별로 5개씩제시하였는데한국특허문헌에한정하여제시한것은대단히아쉬운부분이다. 우리나라만이연구개발에투자하는기술영역이아니라면, 미국또는일본특허청의주요특허문헌이있을것이고그또한검토하고주요선행기술로선정할필요가있다. 추가적인 TIPS 상기선행기술개요표에는출원국을표시하는칸이없어한국에서의출원번호인지미국또는일본에서의출원번호인지파악할길이없다. 따라서출원국적을표시하는란을따로만들어서기재하는것이좋지만, 따로기재란을만들지않고한국에서의출원번호를기재할경우 KR 와같이기재하는방법도있다. 미국의경우 US, 일본의경우 JP, 유럽의경우 EP 기호를적고그뒤에출원번호, 공개번호또는등록번호를기재하는것이바람직하다. 83

85 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 (3) 선행기술조사보고서작성및기술간유사도 (X, Y) 판단 예시답안의예 (P.35) ( 유사특허제시및유사도판단 ) 84

86 우수한점 발명별로출원번호, 출원일, 발명의명칭등의서지적정보를잘포함하고있다. 특허기술의핵심내용인요약 / 대표도 / 주요청구항등에대해포함하고있고, 발명의설명에해당하는중요한부분 ( 실시예등 ) 또한발췌하여식별번호와함께기재하고있다. 선행문헌으로판단되는이유를구체적으로기재하였으며그내용안에제안주제와유사점이있는부분과차이점이있는부분을구별하여서술하였다. 최종적으로관련도를 X-Y-A 의등급을이용하여판단의근거와함께기재한점에서높은점수를받을수있다. 보완할점 등록된기술인지, 심사과정에서거절된기술인지, 등록후소멸되어자유기술이된기술인지및어느나라특허청에출원된특허인지를명확히파악할수없다. 대부분의선행기술들을한국문헌으로만포함한점에서감점요인이있다. 선행문헌으로판단되는이유에제안기술과의유사점및차이점을명확히구분지어서술하였으면보다명확한선행문헌의특징이드러날수있을것이다. 추가적인 TIPS 특허적인관점에서선행기술을조사하고결과보고서를작성할때, 보다명확하게양기술간의관련성을제시하기위해서는기술분야의동일여부, 목적의특이성, 구성의곤란성및효과의현저성측면을각각판단해볼때어떠한특징들간에제안기술과선행기술간의유사점또는차이점이존재또는부존재한다고서술하는것이바람직하다. 보다품질이높은보고서를작성하기위해서는구성요소대비표를이용하는것이바람직하다. 85

87 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 발명의특허성을확보하는데있어서가장크게문제되는것은특허적관점에서의진보성 ( 특허법제29조제 2항 ) 인데, 이러한발명의진보성이란, 종래의선행기술에비해본특허발명이얼마나진보한발명으로독점권을허여받을수있는지를의미한다. 진보성을판단하는데있어서의가장중요한요소는목적, 효과상의차이보다도 ( 삭제 ) 구성의곤란성에중점을두고판단하는것이원칙이다. 따라서본발명이선행기술과얼마나유사한발명인지, 유사하여출원을진행할경우특허를받을수있는지를판단함에있어가장중요한것은선행기술과제안주제와의각구성간의유사성여부이다. 즉, 선행기술과유사성또는차이성을주장함에있어서, 가장신뢰성있고유용한수단은제안주제의세부구성요소들과선행문헌에개시된발명간의세부구성요소들과직접적으로표를통해비교를하는것이다. 86

88 (4) 등록가능성판단및청구항보정안작성 등록가능성에대한판단및청구항보정안을작성하는기술은특허법에대한전문지식을갖춘변리사들에게도항상어려운작업이다. 본과제를수행하는참가자들에게있어서, 이분야는가장어려운과업에해당하는, 특허법에대한전반적인이해가수반되는전문성이있어야올바른답안을도출할수있는분야에해당한다. 따라서본가이드북에서는특허법의등록가능성을판단하는법규들전체를설명할수는없고, 예시답안에기초하여간략한해석만을덧붙이는것으로한다. 예시답안의예 (P.53~P.59) ( 제안주제의거절이유판단 ) 제안주제 (KR ) 의출원등록이거절된이유를세가지로판단하였다. 첫번째선행문헌과의비교에서신규성이결여된다는점이다. 두번째, 불완전한명세서내용이다. 세번째, 실시예와도면의신뢰도가낮다는점이다. 가. 신규성결여 제안주제는제안주제의출원전에공개된 KR 에개시된발명과실질적으로동일하므로신규성이결여된다. KR 은제안주제와동일하게은염이첨가된알코올또는알코올수용액에방사선을조사함에관한것이고, 은염이첨가된알코올혹은알코올수용액을준비하는단계, 방사선을조사하는단계, 청구항에제시한은염, 수용액종류까지포함하는점에서제안주제와유사하다. 87

89 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 나. 불완전한명세서내용 [0006] 그러나상기방법에의하면나노입자를얻을수있는것이아니라, 나노입자가코팅된기판을얻을수밖에없으므로상술한여러가지용도에나노입자를사용하는것이곤란해진다. 즉, 상기문헌에서와같이불균일핵생성 (non-homogeneous nucleation) 을이용할경우에는입자의환원은용이해질수있으나, 나노입자를별도로분리하는것이극히곤란하기때문에나노입자는균일핵생성 (homogeneous nucleation) 방법으로제조하는것이바람직하다. [0015] 본발명자들은종래기술의문제점을해결하기위하여깊이연구하던중, 은나노입자를독립적으로형성하기위해서는균일핵생성방법을사용하되, 이를보다용이하게하기위하여은염을알코올이함유된수용액또는알코올용매에첨가한후상기은염이첨가된용액에적정한에너지의방사선을조사하면미세한나노크기의은입자를얻을수있음을발견하고본발명에이르게되었다. ( 불완전한명세서판단의이유 ) 균일핵생성 (Homogeneous nucleation) 이란주어진부피의액상이 Tm 이하에서 T 만큼 과냉각되었을때, 몇몇원자가모이게되어고상의작은구를만들게될때안정한핵이생성 88

90 되는과정을말한다. 균일핵생성은액체융체에서핵생성을위하여금속자체가원자들을공급할때발생한다. 이때의금속은순수금속을말한다. 순수액체금속이그평형응고온도아래로충분히냉각될때, 원자들의상호결합에의하여균일핵이생성된다. 일반적으로균일핵생성은상당한과냉도를요구한다. Tm 이하의온도에서는고상의자유에너지가액상의자유에너지보다낮기때문에 DGv는양 (+) 의값을가지게되어작은부피의고상이형성될때자유에너지변화가음 (-) 의값을갖는데기여한다. 그러나작은고상이생성될때고상 / 액상계면이새로이형성되기때문에양의값의자유에너지변화가있게된다. 고상 / 액상계면에의한과잉자유에너지는입자의형상을적절히조절함으로써하므로써최소화될수있다. 만일 gsi 이등방성이라면즉모든방향으로일정하다면, 이최소의과잉에너지를갖는형상은반지름 r인구의형태가된다. 따라서이경우식 (1.1) 은다음과같이된다. DG = -4/3pr3DGv + 4pr2g...(1.1) 핵생성초기에는자유에너지가증가하다가 r 이 r* 에도달후자유에너지는감소한다. r* 보 다작은입자는용해또는소멸되어버리고, r* 보다큰입자를핵을생성하게된다. 하지만 r* 에도달하기위해서는자유에너지증가를이겨내야하므로확률적으로굉장히적은확률 89

91 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 이다. 결론적으로, 현실에서는순수금속과순수액상이아니므로, 또 gsi이등방성이아니므로균일핵생성이일어나기어렵다. 제안주제의경우과냉각을하지도않았으므로균일핵생성이일어나기는더더욱어렵다. 따라서제안주제의명세서에기재된은나노입자를독립적으로형성하기위해서균일핵생성방법을사용한다는점은현실적으로불가능하므로불완전한명세서라고할수있다. 다. 낮은신뢰도 1) 실시예와도면의내용 [0033] 하기표 1 에기재된각조건으로은염수용액을제조한후방사선의일종인전자빔 을조사하여나노입자를얻을수있다. 2) 판단의이유 표를살펴보면실시예1 ~ 실시예25 까지알코올의조성과양은일정하고전자빔의에너지, 전류, 선량만다름을확인할수있다. 하지만에너지, 전류, 선량을정하는데있어서일정한기준이있지않고상당히랜덤하다. 따라서실시예의신뢰도가높지않다고판단한다. 또한, 도면의경우, 도 1에서도 26까지의모든도면의스케일바가일정하지않아비교하는데어려움이있고이역시마찬가지로신뢰도높지않다고판단한다. 90

92 우수한점 ( 신규성판단 ) 나름대로특허법의법리인신규성 ( 특허법제29조제 1항 ) 의실질적동일성판단방법을이용하여구성요소별로대비표를제시하고양자간에실질적동일성 9) 이있어특허성이없음을주장하고있다. 이러한논지로뒷받침되는주장은실제특허법적으로양자간에실질적동일성이얼마나있는지여부를떠나서, 굉장히논리적이고합리적인주장을하고있는것으로파악될수있다. ( 불완전한명세서기재판단 ) 통상적으로특허법상명세서의기재가완전치못할때명세서의불완전한기재를이유로기재불비 ( 특허법제42조제 3항및제4항등 ) 거절이유가발생할수있다. 작성자가제시한불완전한명세서의주장또한, 과학적지식에입각하여명세서에기재된과학적정보가실시불가능한기재라고주장하고있는것으로서, 실제작성자의과학적주장이정확한지는별론으로, 특허법적관점으로볼때특허성이부정될수있는논리적인주장에해당하는것이다. 보완할점 특허의권리범위를정하는것은어디까지나청구범위의내용이다. 따라서청구범위를제외한명세서의내용은특허청구범위를뒷받침하는범위에서만그의미를가질수있다. 청구범위를제외한명세서의발명의설명부분에기재된내용은실제실시가불가능한기재가포함될수도있고, 논리적으로연결되지않는문장이포함될수도있다. 그럼에도불구하고청구범위에적힌내용이명세서의다른내용에기반하여해당분야의기술자에게용이하게실시할수있을정도로이해가된다면해당특허는명확하게기재가된것으로취급하는것이특허법적인관점이다. 9) 실질적동일성이란, 특허법적으로 동일 을설명하는개념으로, 물리적으로동일한것을의미하는것이아니라, 기술적사상에기반하여, 실질적으로동일성의범위에있는것이라고인정할수있는정도를의미하며, 이러한동일성을판단하는기준은다양한학설이존재하지만, 판례는, 발명의동일성은두발명의기술적구성이동일한가여부에의하되발명의효과도참작하여판단한다 라고하고있다. 91

93 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 본과제의경우명세서의배경기술의내용, 발명의실시를위한구체적내용등청구범위가아닌기술의설명부분에지나치게주목하고있다. 특허성여부를판단함에있어서는, 명세서의발명의설명부분에주목하여집중할것이아니라, 특허청구범위에기재된내용이논리적으로타당성이있는지, 명세서의발명의설명부분에기재된내용으로부터용이하게실시할수있도록명확하게기재가되어있는지에주목하는것이바람직한것이다. 추가적인 TIPS ( 특허법조문의명기 ) 특허법적으로특허가등록을받지못하고거절된다함은, 특허법법조문상으로한정열거적인거절이유항목에해당함을의미한다. 신규성의경우특허법제29조제 1항, 명세서기재불비 ( 불명확한기재 ) 의경우특허법제42조제 3항또는제4항등의법조문을병기하였을경우, 좀더전문성있는보고서의형식을취할수있을것이다. 92

94 제 5 장 예시답안분석및평가 2 ( 특허전략수립 ) 93

95 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 Ⅳ-2. 특허전략수립부문예시답안분석및평가 1. 개요 본단원에서는기존에출제된특허전략수립부문의예시문제와그에대해연도별로선정된우수답안의예시를보면서, 각영역에대한우수한점및보완할점을확인하면서, 더나은결과물을도출하기위한추가적인 Tip을제공하는것을목표로한다. 본단원에서인용하고있는우수답안들은홈페이지에서전문을확인할수있으며, 이교안의설명내용과우수답안을비교분석해보면, 특허전략수립부문의과업을수행함에있어서보다나은결과물을도출해낼수있는방법을획득할수있을것이다. 94

96 2. 예시답안 1 스마트접합제 ( 접착제 )(2013_C1) 자연계에존재하는많은생물이나자연현상을이용하는연구가예전부터이어져왔으며, 최근에연꽃잎, 도마뱀, 혹은소금쟁이등이보이는순수에대한발수현상의관찰이진행되고있으며, 최근에이를흉내내어비슷한구조물을만들려는시도가활발히연구되고있다. 즉, 도마뱀이나많은곤충들같이벽면을오르내리거나경사가급한곳을오르내리고, 혹은소금쟁이가물위를걷는모습을통해서, 그러한동물들의발바닥의생김새에많은관심을가지게되었다. 기존의연구자들에의하면여러계층구조를가진발바닥섬모구조가있으며이러한구조가소수성성질을가질뿐만아니라벽등에서지지할수있는충분한접합력 (adhesion) 을발생할수있는성질을가진구조인것이다. 또한, 벽이나천장위에서떨어지지않고걸어서움직일수있도록접합력을구조적으로약화시킬수있는구조가중요한부분으로여겨지고있다. 즉이들곤충이나도마뱀등의발바닥의섬모구조들은필요에의해서자의적으로접합력을강하게 (robust) 유지하거나혹은약하게 (weak) 하는기능을가지고있다. 이러한스마트접합력 (smart adhesion) 을가지는표면소재를개발하기위해도마뱀의발바닥섬모구조를따라하는등많은연구가진행되고있다. < 가이드라인 > 년이후등의자연계에존재하는많은생물이나자연현상을이용하는연구 ( 구조또는형상 ) 가적용된접합 ( 접착, 점착 ) 기술과관련된한국, 미국, 일본유럽특허를검색하여선행기술을조사하고그에따른세부기술별로특허및기술동향을분류하시오. 2. 상기분류된기술분야중 ( 스마트접합제 ( 또는접착제 ), smart adhesive) 에대한핵심특허를선별해분석 (1번문항에포함될수있음 ) 하고향후기술개발및응용에있어서핵심이될수있는특허를확보하기위한전략을제시하시오 (* 참조특허 : 한국등록특허 를참조하시오.) * 2 번을 1 번보다비중을더많이포함시켜서진행 95

97 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 (1) 주요특허, 핵심특허도출및도출이유제시 예시답안의예 (P.17~P.34) ( 핵심선행기술문헌의선정기준 ) 에서일부발췌 또한핵심선행기술문헌선별을위해위의참조등록특허검토과정에서알게된 Advanced Materials 논문저널에 2007년게재된 Bioinspired Surface with Switchable Adhesion ( 이하 기준문헌 2 )' 과한국과학기술연구원의한국등록특허 ( 출원번호 ( 이하 기준문헌 3 ), 이온빔을이용한폴리머표면형상의제어방법및이에의해제조된표면에잔물결패턴이형성된폴리머와, 그응용들 ) 를추가적으로검토하였다. 기준문헌 2와기준문헌 3의경우기준문헌 1의특허등록을위한심사과정에서, 기준문헌 2와 3의조합으로기준문헌 1의내용은용이하게발명될수있다는측면에서진보성문제가제시된바있고, 기준문헌 1이출원후보정과정에서일부청구항의병합및삭제가이루어졌다. Advanced Materials 에 2007 년게재된논문에포함된주요도면 ( 기준문헌 2) 96

98 한국등록특허 의발명에포함된주요도면 ( 기준문헌 3) 핵심선행기술문헌선정에있어, 특허문헌의경우피인용지수 (Cites per patent, CPP) 와시장확보지수 (Patent family size, PFS) 를고려하는것은객관적으로중요하다. CPP 지수는피인용회수를사용하는지표로대상특허가출원된시점보다늦게출원된특허가대상특허를어느정도인용하였는가를파악하여특허의질과기술적영향및중요성을살펴볼수있고, PFS지수는해당특허의국가적보호범위를나타내는지수로시장성과밀접한관련이있기때문이다. 또한논문의경우얼마만큼인용 (Citation) 이되었는가가객관적으로중요하다고할수있다. 하지만본논문에서검색된스마트접착기술과관련된선행기술문헌은특허의경우피인용횟수가 34건인 KIMBERLY-CLARK 의 US 특허와 27건인 'The Regents of the Unversity of the California' 의 US 특허를제외하고는 10건이상의피인용횟수를갖는특허가없었다. 그리고논문의경우최근 3년동안의논문을대상으로했기때문에인용 (Citation) 회수가높은편이아니었다. 따라서핵심선행기술문헌평가에널리통용되는객관적인지표를도입하기보다는기준문헌 1, 2, 3 및현재생체모방기술분야의흐름을파악하여새로운핵심선행기술문헌선정기준을마련하였다. 기준문헌 1 의내용인 이온빔을이용한기울어진마이크로기둥배열의제작, 기준문헌 2 의내용인 열역학적인방법에근거한형상기억마이크로기둥을이용한 On/Off 부착방식, 기준문헌 3 의내용인 이온빔의입사각조절을 통한표면의제어기술 을토대로위의 3 가지기술중어느한가지분야와도중복되지 않는신규성 / 진보성을보유한문헌 ( 혹은본기술문헌공개시점이전에공개된문헌 ) 을선별 97

99 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 하였다. 또한마이크로수준에머물러있는위의 3가지기술수준을서브마이크로레벨 ( 나노수준혹은이하 ) 에서구현한문헌이나마이크로레벨이지만위의기준문헌 1, 2보다접촉면적을증가시킬수있는문헌을우선적으로선별하였다. 이에부가적으로 1가지물질 ( 폴리머등 ) 로만이루어져있어제작방식이까다롭지않은문헌, 기존의 Si wafer와 photoresist 를이용한폴리머가공방식의소프트리소그래피를이용하지않는새로운방식의문헌, 기준문헌 1의응용분야와같은건식접착 (dry adhesion) 이나벽을기어오를수있는로봇개발, 반도체라인에서웨이퍼정렬기등과같은산업분야에서이용될수있는문헌의경우에는선정에있어가점을부여하였다. 98

100 ( 핵심선행기술문헌의선정 ) 선행기술문헌 No. 1 - 등록특허문헌발명의명칭접착력의제어가가능한방향성접착구조물및그제조방법 출원번호 ( 출원일 ) KR (2007년 3월 15일 ) PCT 출원번호 WO 우선권주장번호 출원인 ( 국적 ) 이진 (US) - (4 건이본특허를우선권으로 ) 피인용횟수 - 패밀리특허건수 17 발명의초록 대표도면 본발명은접착력의제어가가능한방향성 (directional) 접착구조및상기접착구조를제조하는제조방법에관한것으로서, 폴리머로이루어지는베이스와베이스에일체로형성되는섬모 ( 纖毛 ) 로구성되는반복적사용과접착력을방향에따라제어할수있는접착구조및이를제조하는방법에관한것이다. 본발명의접착구조는폴리머재질로이루어지는베이스 ; 와상기베이스에일체로형성되는소정길이의다수의섬모 ; 로구성되며, 상기섬모는베이스에수직인축에서소정각도를가지고일정방향으로경사져형성되는것을특징으로한다. 본발명의접착구조에있어서접착력의근원은반데르발스힘 (Van der waals force) 이며, 접착면이소정각도로기울어진경사면으로형성되어있어서, 경사면의접착면적을넓히기위해접선력 (tangential force) 을증가시키면접착면적이넓어져접착력 (adhesion force) 도함께증가하게되고, 접선력을작게하면접착면적이줄어들어접착력이감소하게된다. 따라서본발명의접착구조는접착력의제어가가능한방향성접착구조를형성한다. 본발명의접착구조에의해, 반복적으로사용이가능하므로반영구적인사용이가능하다는효과를가진다. 또한, 이물질이부착되는경우라도쉽게이물질을제거할수있고, 재사용이가능하다는이점을가진다. 또한접착력이일정방향으로만발생하므로, 접착력의제어가가능하다는이점을가진다. 또한, 본발명의접착구조는전기력이나자기력에영향을받지않으므로진공상태에서도동일한접착력을가진다는가장큰이점을가진다. 따라서본발명의접착구조는다양한분야에활용도가높은매우유익한발명이다. 선행기술문헌선정기준 주요선정기준 부가선정기준 (1) 기준문헌 1, 2, 3과의중복여부 X (2) 매크로 / 마이크로 / 나노레벨 마이크로 ( 기준문헌 1과다른형상 ) (1) 1가지물질 ( 폴리머등 ) 이용여부 O (2) 기존소프트리소그래피방식이용여부 O (3) 기준문헌 1 과의같은응용분야여부 O 99

101 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 우수한점 핵심선행기술문헌을선정하기위한기준을명확하게확립하고설명하였다. 대단히훌륭한점은그중요특허를선정하기위한기준을종래의특허평가지수에서단순히가져오지않고, 기술분야를고려하여독창적으로확립한점이다. 또한, 주요선정기준과부가선정기준으로기준들의항목을분류하고각각의기준에선행기술문헌이해당되는지여부를 O/X로정확하게표현한점도높이평가받을만하다. 현재특허업계에서도다양한평가방법을동원해서특허의가치를서열화하는작업들이다양하게수행되고있지만, 어느하나확고한툴로서확립된것은없다. 기술분야및평가목적에따라중요하게판단될가치가다르고, 그평가기준또한시대의변화에따라시시각각달라지기때문이다. 미국에서평가한특허지수를우리나라의특허시장에그대로적용하면, 시장환경이상이하여어색한결과가도출되는경우가있는것도같은까닭이다. 따라서핵심선행기술문헌을선정하고해당기술영역에서의중요성을판단하는방식은조사자입장에서여러가지평가지수를조합하는방식으로다양하게제안할수있는것이다. 즉, 본보고서와같이기술분야의특성을고려하여명확한기준을확립하고, 그기준을확립하게된과정을설명하는방식으로기재한다면대단히설득력있는보고서가될수있는것이다. 보완할점 특허문헌의요약서 10) ( 초록, abstract) 부분은등록특허의권리범위에영향을미치는 영역이아니며, 등록과정에서심사의대상에도해당하지않는다. 말그대로단순한참 고용기재사항정도에해당하는영역이다. 따라서특허문헌들의핵심을판단할때요약 10) 특허법제 43 조요약서 : 요약서는기술정보로서의용도로사용되는것이며, 특허발명의보호범위를정하는데에는사용할수없다. 100

102 서의내용보다는대표청구항을중심으로판단할수있으면좋을것이다. 실제해당특 허를침해하는지여부의판단, 회피설계방안에대한연구는모두등록된청구항중 권리범위가가장넓은대표청구항 ( 독립항 ) 을중심으로이루어지기때문이다. 패밀리특허 11) 는단순히숫자로기재해두었는데, 하나의나라에여러개로분할되어출원되었는지, 실제로다수국가에출원된것인지확인이어렵다. 예를들어미국출원의경우에는하나의특허로인정받는영역이국내출원과조금상이하고비용상의문제로인해, 국내의하나의출원이많은수로분할되어진행되기도한다. 따라서패밀리특허수옆에패밀리출원된국가들을함께표시해두면더좋은기재방법이될수있다. 추가적인 TIPS 위의답안의설명에보면 위의 3가지기술중어느한가지분야와도중복되지않는신규성 / 진보성을보유한문헌 이라는표현이있는데, 신규성 / 진보성이있다는것은특정기술의기술의목적, 구성, 효과를해당기술분야의공지기술들과비교하여심사관이최종적으로판단해서특허법적으로내린결정을의미하는것이다. 따라서신규성 / 진보성을보유했다고단정적으로기재하면어딘가어색한표현이되어버릴수있다. 즉, 어느특정한문헌이 종래의선행기술들과실질적동일성의영역에포함되지않고 ( 신규성 ), 해당기술분야의통상의기술자라고하더라도종래의선행기술들로부터용이하게도출불가능한수준의영역 ( 진보성 ) 에있는차별성이있는기술이라고판단된다 고기재하는것이정확한표현이될것이다. 11) 패밀리특허란특정의특허출원과관련된모든특허를의미한다, 속지주의의원칙상특허는각국가별로등록을받아야각각의국가에서권리가발생함이원칙이다. 본가이드북에서의패밀리특허는동일한발명에기초한특허문헌이세계각국가로각각출원된특허들을일컫는용어로사용된다. 101

103 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 (2) 기술발전흐름도작성및기술개발동향설명 예시답안의예 (P.4) 스마트접착기술관련선행기술문헌검토결과를토대로다음과같이 4가지세부기술군으로분류할수있다. 1) 접착부위미세구조의크기, 2) 접촉력향상을위한미세구조의형상, 3) 접착력의 On/Off 방식, 4) 미세구조의패터닝기술군으로나눌수있고, 접착부위미세구조의크기의경우 2000년대초기에매크로수준을시작으로 2000년대중반을거치면서마이크로수준으로 1000배이상감소시켜접촉표면적으로극대화시켰고, 최근에는대부분나노수준혹은마이크로 / 나노하이브리드수준의기술이개발되고있다. 접촉력형향상을위한미세구조형상의경우에는 2000년대초반건식접착 (dry adhesion) 을위한자연현상의관찰에따른구조모사가주를이루었다. 이시기에는대부분이대칭적부착 (isotropic adhesion) 이었지만, 2000년대중반에이르러서는마이크로 / 나노기술수준이높아짐에따라실제생물체에존재하는 2차원상에서비대칭적부착 (anisotropic adhesion) 을구현하려는움직임이많아졌고, 최근에는계층적 (hierarchical) 구조나주름 (lamellar) 구조와같은 3차원구조를모사하려는기술들이많이개발되고있다. 다음으로접착력의 On/Off 방식의경우, 초기에는반데르발스힘을이용한자연현상에초점을두고있었지만, 2000대중반을거쳐최근에이를수록, 열을이용한형상기억폴리머, 자기장조절, 표면의물리적힘의조절, 진공조절및표면기능화를통한여러가지방식의접착기술이도입되고있다. 마지막으로미세구조의패터닝기술군으로는종래존재하던기술인초기 AFM을이용한패터닝및리소그래피를시작으로발전되기시작하였으며, 2000년초기에는대부분실리콘웨이퍼에광감제 (photoresist) 를이용하여마이크로혹은나노구조를패터닝하는소프트리소그래피가주를이루고있다. 최근의대부분의기술들도실리콘웨이퍼혹은 PDMS와같은고분자물질을주형으로소프트리소그래피를통해이루어지고있으며, 계층구조나주름구조를위한부분적인경화나부분적인소프트리소그래피기술이주를이루고있다. 102

104 ( 스마트접착관련기술의세분화및시간에따른기술흐름모식도 ) 또한핵심선행기술문헌의특징을살펴보면아래그림에나타낸바와같이마이크로 (micro) 스케일에서나노 (nano) 스케일혹은마이크로 / 나노하이브리드 (micro/nano hybrid) 스케일로기술흐름을보이고있다. 접착부위의구조역시대칭적구조 (isotropic) 에서비대칭적 (anisotropic) 구조로기술흐름을보이고있으며, 부가적으로실제게개코도마뱀, 물고기가갖는구조와같은접착구조를구현하기위해계층이나주름을도입하기위해 3차원적모델링으로기술흐름을보이고있다. 103

105 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 ( 스마트접착관련핵심선행기술문헌의기술동향 ) 104

106 우수한점 기술을 4가지세부기술군으로명확하게분류하고, 각각의구조의경우기술의발전이어떠한방향으로진행되었는지를시계열적으로설명하였다. 또한, 이를주요도면과함께시간흐름에따른그림으로표현함으로써한눈에기술의발전흐름을파악할수있도록기술발전흐름도를잘표현하였다. 기술흐름도의각도면아래에는특허문헌또는비특허문헌의번호를표시하여, 중요 한기술의발전흐름이특허또는논문에어떻게반영되었는지를명확하게파악할수 있다. 수많은특허문헌및비특허문헌사이에서각기술들을정해둔틀안으로분류하고, 각기술분류영역들에해당하는문헌들을분석하여전체적인기술변화의흐름을잡아내는것은결코용이한작업이아니다. 그럼에도불구하고, 위의보고서는한눈에그흐름을파악할수있도록기술의포인트를잘잡아내고기술개발흐름도를잘제시하여높은평가를받을수있다. 보완할점 각특허문헌및비특허문헌의시계열적인배치를특허문헌및비특허문헌을검색하며분류해둔기술분류영역에따라배열하였으면읽는사람입장에서더명확하게이해할수있는기술흐름도가되었으리라생각한다. 또한, 각특허문헌및비특허문헌의문헌번호외에도제목, 출원인 ( 게재자 ) 등서지적정보에대한간략한내용을포함하였다면한눈에기술의트렌드가어떻게변화했는지파악할수있는더좋은기술흐름도가되지않았을까생각한다. 아래에는위의기술흐름도와비교할만한자료로서, 예시답안 -2의보고서에포함된기술흐름도를첨부한다. 105

107 캠퍼스특허전략유니버시아드실전가이드북 ( 기술흐름도의일예 ): 예시답안 2 추가적인 TIPS 기술흐름도상에제시된주요특허들의인용 / 피인용횟수나패밀리특허수등을함께 기재할수있다면, 기재된특허가해당기술영역에서어느정도로중요한선도기술인 지를한눈에파악하는데도움이될수있을것이다. 106