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Transcription:

LCD (Liquid Crystal Display) OLED (Organic Light Emitting Diode) TV,,. 1) OLED LCD OLED LCD Fig. 1. OLED TV 2013 LG 55 OLED TV. SID (Society of Information Display) OLED (Fig. 2). OLED LCD, TFT. TFT 3. LCD (a-si), (p-si), (Oxide). (a-si) TFTLCD.,., (1 cm 2 /V S) 2,3) 4), OLED. (p-si) TFT. Fig. 1. OLED. 26

Fig. 2. SID 2013 () : LG Display UHD OLED Curved TV () : Samsung Display UHD OLED TV.. 100,. 5),, ( ).,..,.. (Fig. 3),.,., (E g > 3eV). 2004 Hosono et al. In-Ga-Zn-O 6). (Fig. 4)., 2p state. ns state, ns,.,, ns., InGaZnO. 7) Nomura et Fig. 3.. 27

Fig. 4. () :, () :. 6) al. ZnO, Ga 2O 3, In 2O 33. Fig. 5. Fig. 5 hall,. Fig. 5 In Zn.., Ga Ga,., Ga-O In-O Zn-O Fig. 5.. 8). 8), Ga. trade off.,. In, Ga, Ge, Ag, Au. In, Cd, Hg, Ti, Pb., Cu, Ag, Au., In Ga. 9-15) Fig. 6. In Ga Zr 9), Hf 10), La 11), Si 12), Mg 13), Sn 14), Al 15). OLED. LG OLED TV Sharp, AUO TFT OLED TV.,, 28

Fig. 6. ( :, : In Ga ).. TFT., LTPS (Low-Temperature Poly-Silicon)., OLED TFT. OLED TFTLCD (Switching) (Driving) On/Off. OLED TFT. OLED 2T1C (2 1 )., (Fig. 7) 17), 5~6 1~2.. OLED...,, (60 Hz 120, 240 Hz, : 1 On ). TFT.,, TFT TV 30 cm 2 /Vs. TFT, TFT OLED (Mobility, µ). LCD.., OLED. LCD,. 16)., Fig. 7. OLED (, 5T2C). 17) 29

. Oh et al. 18) IZO. In (In : 0.52 0.85, 7.2 cm 2 /Vs 41.0 cm 2 /Vs, 0.42 V/decade 0.20 V/decade)., -7.9 V (NBIS, V GS = V th-15 V, V DS = 10 V, = 2000, : 1.5 mw/cm 2, : ~ 600 nm).,. 19) Kim et al. 19) HIZO, IZO. HIZO, IZO. 10) IZO,. 18) HIZO/IZO. 43.24 cm 2 /Vs. Fig. 8 IZO HIZO/IZO NBIS NBIS., (Polycrystalline). 20) Indium-Tin-Oxide IZGO (> 20 cm 2 /Vs). 21) (2.5 atm, 5 atm). Kim et al. 22) ZnO. ZnO, Off. 17), ZnON. Fig. 9 ()ZnO 3.2 ev (Vacancy)... 23) ZnO ZnO (Valence band)..,. ZnON V DS = 10 V40 cm 2 /Vs.,. 40 cm 2 /Vs. (Conduction band),. Fig. 8. () : IZO NBITS. () : HIZO/IZO NBITS. ( : : 3 VG = -20V, VD = 10V, : 120lux, : 60C). 19) 30

Fig. 9. () : ZnO ZnON. () ZnO, ZnON, In2O3, Zn2O3 E-k. 20) Fig. 9(), ZnON ZnO. TFT. TFT. OLED TFT. OLED TFT LCD TFT. Fig. 10 OLED LCD. Fig. 10LCD TFT 1 1 (Capacitor). 1 TFT. LCD, On Off. LCD TFT Off., OLED TFT 2 1., TFT LCD, TFT (Driving)., Off, On. TFT 0.1 V, OLED 20%. 16)... Fig. 11,. (H 2O, O 2, H 2 ). Fig. 10. LCD OLED. 31

Fig. 11. /. Fig. 12. / (O2, H2O). 24) Fig. 12 24) + (+ 30 V),, ( O 2) (O 2(g)+e - O - 2(s)).,., O 2,., - (- 30 V),, H 2O. (H 2O (g)+h + H 2O + (s)),, H 2O... (Hole trapping).. 23),.,. 25) Yang et al. 25) Al-Sn-Zn-In-O (A)(B). Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PEALD) 40 nm. 250C. Fig. 13A B. 10000, -20 V. A 31.4 cm 2 /Vs, 0.63 V, 0.14 V/decade, B A 0.77 V, 0.09 V/decade. (a) (b),,., (c) (d),. 0.72 V, 11.5 V..,. 32

Fig. 14.. Fig. 13. (a) : (NBS, Negative Bias Stress) A (b) : B NBS (c) : (NBIS) (d) : B NBIS. 25) (Bias Stress), (Temperature Stress), (Illumination Stress)......,. Fig. 14..,,., NBS (Negative Bias Stress), PBS (Positive Bias Stress). NBTS (Negative Bias Temperature Stress), PBTS (Positive Bias Temperature Stress). NBIS (Negativ Bias Illumination Stress), PBIS (Positive Bias Illumination Stress), NBITS (Negative Bias Illumination Temperature Stress), PBITS (Positive Bias Illumination Temperature Stress). 24, 26). Cross et al. 26) ZnO. p ZnO rf -30 V 1. 15. Fig. 15(). (Degradation).,. Liu et al. 24) IZO 33

Fig. 15. () : ZnO NBS ( : 1, : 15). 26) () : IZO NBS ( : 210-5 torr, : 3). 24). 210-5 torr, +30 V/-30 V 3. Fig. 15()... (BIS). Shin et al. 23) ZnO NBIS. On (+ 10 V ), Off (- 10 V ) 12, (peak) 540 nm, 515 nm 555 nm 0 1m W/cm 2. Fig. 16 ZnO. ZnO n On, Off., On, Off... ZnO n ZnO On (Major Carrier), (Minor Carrier). Off,. Fig. 16. (a): On/ (b) : On/ (c) : Off/ (d) : Off/. 23) 34

On.,. On., Off,,. Chowdhury et al. 27) IGZO -. IZGO.,. (NBTS). Park et al. 28) GIZO NBTS PBTS. GIZO Ga 2O 3/In 2O 3/ZnO 1:1:1. SiO x 200 nm SiO x 100 nm. Fig. 17 GIZO PBTS NBTS. 11000. 60C, PBTS +20 V, NBTS -10 V. 10.1 V.,.,. Kwon et al. 29) GIZO (Fig. 18). ES (Etch Stopper) BCE (Back Channel Etch). Etch Stopper ES, BCE. ES SiO x 200 nmpecvd (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition), SiO x 200 nm PECVD. GIZO 70 nm. Fig. 19NBITS. 3 V GS= -20 V, V DS= 10 V, 180 lm/m 2. Fig. 19 () BCE, () ES., Etch Stopper. ES - 3.5 V, ES -0.8 V.. Kim et al. 30) (SiO x, SiON x, SiO x /SiON x) NBITS, Lee et al. 31) NBTIS. Fig. 17. () : GIZO NBTS () : GIZO PBTS. 28) (VG = -10V/+20V, VD = 10.1V, : 11000). Fig. 18. () : BCE TFT () : ES TFT. 29) 35

Fig. 19. () : BCE(Back-Channel Ecth) GIZO NBITS. () : ES(Etch-Stopper) GIZO NBITS. 30) AMOLED.,.. AMOLED,. 1. H. Ohshima and D-L Ting, Turning Points in Mobile Display Development, SID Symp. Dig. Tech. Pap., 42 [1] 97-100 (2011). 2. F. R. Libsch and J. Kanicki, Bias Stress Induced Stretched Exponential Time Dependence of Charge Injection and Trapping in Amorphous Thin Film Transistors, Appl. Phys. Lett., 62 [11] 1286 (1993). 3. M. J. Powell, Charge Trapping Instabilities in Amorphous Silicon-silicon Nitride Thin-film Transistors, Appl. Phys. Lett., 43 [6] 597 (1983). 4. S. C. Deane, R. B. Wehrspohn, and M. J. Powell, Unification of the Time and Temperature Dependence of Dangling-bond-defect Creation and Removal in Amorphous-silicon Thin-film Transistors, Phys. Rev. B, 58 [19] 12625-28 (1998). 5. P. Gaucci, L. Mariucci, A. Pecora, G. Fortunato, and F. Templier, Electrical Stability in Self-aligned P-channel Polysilicon Thin Film Transistors, Thin Solid Films, 515 [19] 7571-75 (2007). 6. K. Hosono, H. Ohta, A. Takagi, T. Kamiya, M. Hirano, and H. Hosono, Room-temperature Fabrication of Transparent Flexible Thin-film Transistors Using Amorphous Oxide Semiconductors, Nature, 432 7016 488-92 (2004). 7. K. Nomura, A. Takagi, T. Kamiya, H. Ohta, M. Hirano, and H. Hosono, Amophous Oxid Semiconductors for High-Performance Flexible Thin-Film Transistors, Jpn. J. Appl. Phys., 45 [5S] 4303-08 (2006). 8. T. kamiya K. Nomura, and H. Hosono, Electronic Structures Above Mobility Edges in Crystalline and Amorphous In-Ga-Zn-O: Percolation Conduction Examined by Analytical Model, J. Disp. Technol., 5 [12] 462 (2009). 9. J. S. Park, K. S. Kim, Y. G. Park, Y. G. Mo, H. D. Kim, and J. K. Jeong, Novel ZrInZnO Thin-film Transistor with Excellent Stability, Adv. Mater., 21 [3] 329-33 (2009). 10. C. J. Kim, S. Kim, J. H. Lee, J. S. Park, S. Kim, J. Park, E. Lee, J. Lee, Y. Park, J. H. Kim, S. T. Shin, and U. I. Chung, Amorphous Hafnium-indium-zinc Oxide Semiconductor Thin Film Transistors, Appl. Phys. Lett., 95 [25] 252103 (2009). 11. D. N. Kim, D. L. Kim, G. H. Kim, S. J. Kim, Y. S. Rim, W. H. Jeong, and H. J. Kim, The Effect of La in InZnO Systems for Solution-processed Amorphous Oxide Thin-film Transistors, Appl. Phys. Lett., 97 [19] 192105 (2010). 12. E. Chong, Y. S. Chun, and S. Y. Lee, Amorphous Silicon-indium-zinc Oxide Semiconductor Thin Film Transistors Processed Below 150 C, Appl. Phys. Lett., 97 [10] 102102 (2010). 13. G. H. Kim, W. H. Jeong, B. D. Ahn, H. S. Shin, H. J. Kim, H. J. Kim, M. K. Ryu, K. B. Park, J. B. Seon, and S. Y. Lee, Investigation of the Effects of Mg Incorporation into InZnO for High-performance and High-stability Solution-processed Thin Film Transistors, Appl. Phys. Lett., 96 [16] 163506 (2010). 14. E. M. C. Fortunato, L. M. N. Pereira, P. M. C. Barquinha, A. M. B. do Rogo, G. Goncalves, A. Vila, J. R. Morante, and R. F. P. Martins High Mobility Indium Free Amorphous Oxide Thin Film Transistors, Appl. Phys. Lett., 92 [22] 222103 (2008). 15. D. H. Cho, S. Yang, C. Byun, J. Shin, M. K. Ryu, S. H. K. Park, C. S. Hwang, S. M. Chung, W. S. 36

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