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[ 화학 ] 과학고 R&E 결과보고서 나노입자의표면증강을이용한 태양전지의효율증가 연구기간 : ~ 연구책임자 : 김주래 ( 서울과학고물리화학과 ) 지도교사 : 참여학생 : 원승환 ( 서울과학고 2학년 ) 이윤재 ( 서울과학고 2학년 ) 임종

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그래핀과나노패터닝 중앙대학교화학신소재공학부 김수영 그래핀의우수한전하수송특성에도불구하고그래핀의밴드갭이 kt 이상이되 지못하여전기소자로의적용이제한되고있다. [1] 즉그래핀이도체의성질을띄 기에반도체로사용하기에제한이따르는단점이있다. 이러한문제점을해결하고 자 quantum co

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한국전지학회 춘계학술대회 Contents 기조강연 LI GU 06 초강연 김동욱 09 안재평 10 정창훈 11 이규태 12 문준영 13 한병찬 14 최원창 15 박철호 16 안동준 17 최남순 18 김일태 19 포스터 강준섭 23 윤영준 24 도수정 25 강준희 26

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THE JOURNAL OF KOREAN INSTITUTE OF ELECTROMAGNETIC ENGINEERING AND SCIENCE. vol. 29, no. 10, Oct ,,. 0.5 %.., cm mm FR4 (ε r =4.4)

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패션 전문가 293명 대상 앙케트+전문기자단 선정 Fashionbiz CEO Managing Director Creative Director Independent Designer

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탄소연속섬유복합체 제조기술 본분석물은교육과학기술부과학기술진흥기금을지원받아작성되었습니다.

개최요강

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박선영무선충전-내지

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목원 한국화- 북경전을 준비하며 지난해부터 시작 된 한국의 목원대학교 한국화 전공의 해외미술체험은 제자와 스승의 동행 속에서 미술가로 성장하는 학생들의 지식에 샘을 채워주는 장학사업으로 진행되고 있으며, 한국의 우수한 창작인력 양성을 위해, 배움을 서로 나누는 스승들의

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목 차 회사현황 1. 회사개요 2. 회사연혁 3. 회사업무영역/업무현황 4. 등록면허보유현황 5. 상훈현황 6. 기술자보유현황 7. 시스템보유현황 주요기술자별 약력 1. 대표이사 2. 임원짂 조직 및 용도별 수행실적 1. 조직 2. 용도별 수행실적


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중국보고1권(요약OK) 1~22

영상문화 호 될 수 없는 복잡한 문제이다 하지만 그 비극적 사건의 원인 가운데 하나가 마호메트를 조롱하고 풍자한 초상화 이미지로 발단이 되었다는 점을 무시하 기는 어려울 것이다 이 문제를 표현의 자유와 그 한계라는 주제와 결부시켜 법리적 윤리적 정치적 해석을 시도하는

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그래핀투명전극 - OLED 전극활용 중앙대학교화학신소재공학부 김수영 인터넷의급속한발달로다양한형태의정보전달이가능해지고있으며, 이를구현해줄수있는디스플레이분야는매우중요한위치를차지하고있다. 최근몇년간 Liquid Crystal Display(LCD) 기술과 Plasma Dis

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발간등록번호

Introduction to plasma

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264 축되어 있으나, 과거의 경우 결측치가 있거나 폐기물 발생 량 집계방법이 용적기준에서 중량기준으로 변경되어 자료 를 활용하는데 제한이 있었다. 또한 1995년부터 쓰레기 종 량제가 도입되어 생활폐기물 발생량이 이를 기점으로 크 게 줄어들었다. 그러므로 1996년부

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Transcription:

자기조립나노패터닝 - 콜로이드입자의자기조립을이용한나노패터닝 ( 콜로이드리소그래피 ) 자기조립은원가간공유결합혹은분자상호인력에의하여자발적으로나노구조를형성하여특정구조를이루어이들이새로운물성을발휘하는현상으로대표적으로양친성분자 ( 블록공중합체, 양친성계면활성제 ), DNA를포함하는바이오물질, 자기조립막 (Self-Assembled Monolayer), 나노및마이크로입자등이이런현상을나타낸다. 이들기술은모두 Bottomup방식의패터닝기술에해당되며기존리소그래피공정으로수행하기어려운나노급의패터닝이가능하다는장점이있다. 더구나, 공정이간단하고특별히고가의장비가필요하지않기때문에공정비용이저렴하며대면적패터닝이가능하다는장점이있다. 하지만, 이들방법은결함 (defect) 조절과원하는모양의패턴을공정자가임의대로자유롭게조절하기힘들다는단점을공통적으로가지고있다. 따라서, 이들문제를해결하는것이이분야의연구를소자및상용화를위해서반드시필요하다고할수있다. 최근에는, 광식각및멤스공정등의 top-down 방식과의접목을통해서이들문제를해결하고자노력하는시도들이행해지고있으며몇몇방법들은가능성있는방법을기대를모으고있다. 가장최근의예로, 블록공중합체를 top-down방식의 advanced lithography공정을통해서다양한모양으로패터닝한연구가국내연구진과함께소개된바있다. (Paul F. Nealey group, Science, 2005, 308, 1442). 아래그림참조

Science, 2005, 308, 1442

본고에서는이들중에서먼저콜로이드자기조립을이용한패터닝 ( 일명 : Nanosphere lithography or Colloidal lithography) 에대해서소개하고자한다. 가장활발하게연구하고있는그룹은프린스턴대학의 van Duyne group으로수백나노미터의폴리머와실리카입자를이용해서규칙적인자기조립패턴을만들고이것을이용해서사이사이에메탈금속을패터닝해서이를바이오센서에응용하는연구까지현재진행되고있다. J. Phys.Chem. B. 2001, 5599 J. Phys.Chem. B. 2002, 1898 그외다른이들현상을이용해서메탈입자혹은카본나노튜브 (fiber) 등을패터닝하는가능성을 보여주었고하버드의 Whiteside 그룹에서는 (Appl. Phys. Lett., 2001,78, 2273) 입자를마이크로 렌즈로사용해서리소그래피에활용하는가능성을보여준예도있다.

Nano Lett, 2003, 3(1), 13 Adv. Mater. 2002, 14, 930 Appl. Phys. Lett., 2001,78, 2273. J. Micromech. Microeng. 2002,12

또한, 이들입자패턴닝을식각공정과접목시키면아래와같은임프린트용나노급마스터 제작이가능하다. Chem.Mater. 2003,15, 2917 Adv.Mater. 2003,15,1065 앞에서소개하였듯이이들자기조립패턴을원하는위치에원하는모양으로패터닝하기위해서는미리식각된마이크로패턴이필요하고이를위한패터닝방법으로앞절에서설명한 PDMS를이용한소프트리소그래피가유용하게사용될수있다. 아래는그실예로소프트리소그래피를이용한패턴에입자자기조립스템프를제조하고패터닝에활용한예다. (Dae- Geun Choi et al., Chemistry of Materials, 16(18), 3410-3413 (2004), Chemistry of Materials, 15, 4169-4171 (2003)).

Chemistry of Materials, 16(18), 3410-3413 (2004)

Chemistry of Materials, 15, 4169-4171 (2003)

또한최근에는콜로이드입자의자기조립층을반응성이온식각공정을이용하게되면여러가지모양의패턴으로패턴모양의조절이가능하고이를통한독립적인자성메탈 dot들의제조가가능하다는사실이보고된바있다. (Dae-Geun Choi et al., Particle Arrays with Patterned Pores by Nanomachining with Colloidal Masks, J. Am. Chem. Soc., 127(6), 1636-1637 (2005).; Nanopatterned Magnetic Metal Dots via Colloidal Lithography with Reactive Ion Etching, Chemistry of Materials, 16(22), 4208-4211 (2004).; Colloidal Lithography Patterning via Reactive Ion Etching", J. Am. Chem. Soc. 126, 7019-7025 (2004)). 요약하면, 최근까지콜로이드자기조립을이용한나노패터닝은공정의편리성으로인하여학계의많은관심을받고있는분야이며이를이용한바이오센서, 바이오물질분리, 자성메모리등많은응용성이기대되고있다. 하지만, 궁극적으로산업체에응용되어지기까지는디펙트문제를비롯한해결해야할문제점들이아직존재하고있는것도사실이다. 보다자세한내용및관심있는분들은문서끝의참고문헌을참조하면실험방법을포함한보다자세한내용을볼수있을것이며이분야의연구에도움이되리라생각한다.

J. Am. Chem. Soc. 126, 7019-7025 (2004)

Chemistry of Materials, 16(22), 4208-4211 (2004) J. Am. Chem. Soc., 127(6), 1636-1637 (2005)

참고문헌 1. Chen, X.; Chen, Z.; Fu, N.; Lu, G.; Yang, B. Adv. Mater. 2003, 15, 1413. 2. Dae-Geun Choi, Hyung Kyun Yu, Se Gyu Jang and Seung-Man Yang, "Arrays of Binary and Ternary Particles and their Replica Pores on Patterned Microchannels", Chemistry of Materials, 15, 4169-4171 (2003) 3. Dae-Geun Choi, Hyung Kyun Yu, Se Gyu Jang and Seung-Man Yang, "Colloidal Lithography Patterning via Reactive Ion Etching", J. Am. Chem. Soc. 126, 7019-7025 (2004). 4. Dae-Geun Choi, Sarah Kim, Eeungsug Lee and Seung-Man Yang, Particle Arrays with Patterned Pores by Nanomachining with Colloidal Masks, J. Am. Chem. Soc., 127(6), 1636-1637 (2005). (February 16, 2005) 5. Dae-Geun Choi, Sarah Kim, Se Gyu Jang, S.-M. Yang, Jong-Ryul Jeong and Sung-Chul Shin, Nanopatterned Magnetic Metal Dots via Colloidal Lithography with Reactive Ion Etching, Chemistry of Materials, 16(22), 4208-4211 (2004). 6. Dae-Geun Choi, Se Gyu Jang, Hyung Kyun Yu and Seung-Man Yang, "Two- Dimensional Polymer Nanopattern by Using Particle-Assisted Soft Lithography", Chemistry of Materials, 16(18), 3410-3413 (2004). 7. Haes, A. J.; Hall, W. P.; Chang, L.; Klein, W. L.; Van Duyne, R. P. Nano Lett., 2004, 4, 1029. 8. Haynes, C. L.; McFarland, A. D.; Smith, M. T.; Hulteen, J. C. ; Van Duyne, R. P. J. Phys. Chem. B, 2002, 106, 1898. 9. Haynes, C. L.; Van Duyne, R. P. J. Phys. Chem. B 2001, 105, 5599.

10. Huang, Z. P.; Carnahan, D. L.; Rybcynski, J.; Giersig, M.; Sennett, M.; Wang, D. Z.; Wen, J. G.; Kempa K.; Ren, Z. F. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 460. 11. Kosiorek, A.; Kandulski, W.; Chudzinski, P.; Kempa, K.; Giersig, M. Nano Lett., 2004, 4, 1359. 12. Tada, T.; Hamoudi, A.; Kanayama,T.; Koga, T. K. Appl. Phys. Lett., 1997, 70, 2538 13. Valsesia, A.; Colpo, P.; Silvan, M. M.; Meziani, T.; Ceccone, G.; Rossi, F. Nano Lett., 2004, 4, 1047. 14. Wu, M.-H.; Whitesides, G. M. Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 2273. 15. Xia, Y.; Tien, J.; Qin, D.; Whitesides, G. M. Langmuir 1996, 12, 4033. 16. Yan, F.; Goedel, W. A. Adv. Mater. 2004, 16, 911.