1975 Mitsubishi Chemical Corporation DIAION,,, Leading Maker,,,, LCD, Mitsubishi Chemical Corporation DIAION,,,, Brand, 13 ) Plant User Needs )

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1 이온교환수지 목록표 Ion Exchange Resin Product List 판매원 : 경기도 성남시 분당구 구미동18 시그마2빌딩 D-303 Tel ( 代 ) Fax wwwionteccokr ion@ionteccokt 제조원 : 미쓰비시케미칼 삼양사

2 1975 Mitsubishi Chemical Corporation DIAION,,, Leading Maker,,,, LCD, Mitsubishi Chemical Corporation DIAION,,,, Brand, 13 ) Plant User Needs ) ST Stage 2 nd Stage Operating Capacity Calculation Process 3 rd Stage Process,,, Total Solution - Water Block Demineralizer - Packed Bed Demineralizer - Mixed Bed Demineralizer - Activated Carbon Media Tower - Softener - Feroxer(for Removing Fe, Mn) - Ultra Pure Water System - Pharmaceutical Demineralizer - Chromatography Separation - Starch Sugar Refining - Glycerin Refining - Amino acid Purification :, TEL) , ) robin_hong@samyangcom Sample :, TEL) , ) jhshim@samyangcom Sample :, TEL) , ) ixresin@ixresincom - 2 -

3 (Contents) 1 Gel (Strongly Acidic Cation Exchange Resin Gel Type) SCR Series Porous (Strongly Acidic Cation Exchange Resin Porous Type) CMP Series Gel (Strongly Basic Anion Exchange Resin Gel Type) SAR Series Porous (Strongly Basic Anion Exchange Resin Porous Type) AMP Series , (Weakly Acidic Cation, Weakly Basic Anion Exchange Resin High Porous Type) WK, AW, WA Series (Strongly Acidic Cation Exchange Resin for Catalyst) SPC Series , (Uniform Particle Sized Resin, Resin for Layered Bed) UPS, LB (Specialty Resin for Various Uses) SM210, KH (Chelating Resin) CR, Eporous Series (Ion Exchange Resin For Ultra Pure Water) UPW Resin , (Filter Media for Iron & Manganese Removal) FEROX, RFC , (Inert Resin) RMZ-3, TR70, PS (Synthetic Adsorbent) HP, SP Series (Resins for Chromatographic Separation) UBK Series (Appendix),, page 5page 6page 7page 8page 9page 10page 12page 13page 14page 19page 19page 20page 22page 24page ), DIAION (Nomenclature of, DIAION) SCR Series : S(Strong), C(Cation), R(Resin) CMP Series : C(Cation), M(Macro) P(Porous) WK Series : W(Weak), K(Cation) SAR Series : S(Strong), A(Anion), R(Resin) AMP Series : A(Anion), M(Macro) P(Porous) AW, WA Series : A(Anion), W(Weak) MB : PSA(Polystyrene Sulfonic Acid, ) (Ex SAR10MB, SAR20MB, ) L : Large, 0312 L-Type (Ex SCR-BL, SAR20L, CMP28L, ) H, OH :, H, OH (Ex SCR-BH, SAR10OH, ) - 3 -

4 (Strongly Acidic Cation Exchange Resin Gel Type) (SCR series) Gel Type (Grade) SCR04 SCR-B SCR10 SCR12 (Matrix) (Functional group) (Ionic Form) (Specific Gravity) (Shipping Weight, g/) (Moisture Retention) (Total Capacity, eq/) (Effective Size, mm) (Uniformity Coefficient) (Operating Temp) ph (Operating ph Range) (Maximum Swelling, Na H ) DVB% ( ) PolystyreneDVB(Divinylbenzene) -SO 3 (Sulfonate) Na (on 1,180 < 5%, through 300 < 1%) % 80% 76% 60% 4% 8% 10% 12% (8%) (Remarks) Styrene Gel Type,,,,,, SCR-B : Gel Type,,,, Amino, SCR04 : Bisphenol-A, SCR10 : Condensate Polisher SCR12 : - 4 -

5 (Strongly Acidic Cation Exchange Resin Porous Type) (CMP series) Porous Type (Grade) CMP08 CMP12 CMP16 CMP20 CMP28 (Matrix) PolystyreneDVB (Functional group) (Ionic Form) (Specific Gravity) (Shipping Weight, g/) (Moisture Retention) (Total Capacity, eq/) (Effective Size, mm) (Uniformity Coefficient) (Operating Temp) ph (Operating ph Range) (Maximum Swelling, Na H ) DVB% ( ) -SO 3 (Sulfonate) Na (on 1,180 < 5%, through 300 < 1%) % 95% 80% 78% 58% 4% 6% 8% 10% 14% (8%) (Remarks) Styrene Porous Type,,,, Macropore Gel Type Macropore Gel Type g Gel type CMP08 : Porous Type, CMP16 : Porous Type,, CMP28 : Porous Type, Condensate Polisher - 5 -

6 (Strongly Basic Anion Exchange Resin Gel Type) (SAR series) (Type1) (Type2) (Grade) SAR10 SAR11 SAR12 SAR20 SAR21 (Matrix) PolystyreneDVB PolystyreneDVB (Functional group) (Ionic Form) (Specific Gravity) (Shipping Weight, g/) (Moisture Retention) (Total Capacity, eq/) (Effective Size, mm) (Uniformity Coefficient) (Operating Temp) ph (Operating ph Range) (Maximum Swelling, Cl OH ) (Remarks) -N (CH 3 ) 3 Cl (Trimethylammonium) Cl -N (CH 3 ) 2 C 2 H 4 OH Cl (Dimethylethanolammonium) Cl (on 1,180 < 5%, through 300 < 1%) 60 (OH ) 80 (Cl ) (OH ) 60 (Cl ) % 346% 244% 116% 180% Styrene Gel type Styrene Gel type SiO 2, SiO 2 SAR10 : SiO 2 SAR20 : MBP (),, Amino SAR11 : SAR21 : SiO 2 Glutamine Amino SAR12 : SiO 2-6 -

7 (Strongly Basic Anion Exchange Resin Porous Type) (AMP series) (Type1) (Type2) (Grade) AMP14 AMP16 AMP18 TRILIE AMP24 AMP26 AMP28 (Matrix) PolystyreneDVB PolystyreneDVB (Functional group) (Ionic Form) (Specific Gravity) (Shipping Weight, g/) (Moisture Retention) (Total Capacity, eq/) (Effective Size, mm) (Uniformity Coefficient) (Operating Temp) ph (Operating ph Range) (Maximum Swelling, Cl OH ) DVB% ( ) (Remarks) -N (CH 3 ) 3 Cl (Trimethylammonium) Cl -N (CH 3 ) 2 C 2 H 4 OH Cl (Dimethylethanolammonium) Cl (on 1,180 < 5%, through 300 < 1%) 70 (OH ) 90 (Cl ) (OH ) 70 (Cl ) % 230% 187% 138% 131% 117% 4% 6% 8% 4% 6% 8% Styrene Porous Type, Macropore Gel type,, SiO 2 Macropore Gel Type g, Gel Type AMP14 : Styrene Porous Type AMP24 : Styrene Porous Type,,,,, AMP16 : AMP26 : Condensate Polisher,,, Amino,,, Organic Scavenger AMP28 : Styrene Porous Type AMP18 : SiO 2 MBP,, - 7 -

8 (Weakly Acidic Cation, Weakly Basic Anion Exchange Resin High Porous Type) (WK, AW, WA series) (Grade) DIAION WK10 DIAION WK11 DIAION WK60L DIAION WA10 (WA11) DIAION WA20 AW90 (Matrix) (Functional group) (Ionic Form) (Specific Gravity) (Shipping Weight, g/) (Moisture Retention) (Total Capacity, eq/) (Effective Size, mm) (Uniformity Coefficient) (Operating Temp) ph (Operating ph Range) (Maximum Swelling) (H Na ) (OH Cl ) (Remarks) PolymethacrylateDVB -COOH (Carboxylic acid) H Polyacrylate DVB Polyacrylate DVB -(CH 2 ) n N(CH 3 ) 2 (Tertiary Amine) 105 (106) 650 (675) 6369 (5763) PolystyreneDVB -CH 2 NH(CH 2 CH 2 NH) n H(CH 2 ) 2 NH 2 (Secondary Amine) Free base -(CH 2 ) n N(CH 3 ) 2 (Tertiary Amine) (on 1,180 < 5%, through 300 < 1%) (on 1,180 < 5%, through 300 < 1%) 60 (OH ) % 400% 500% 200% (200%) 100 (OH ) 300% 250% DIAION WK10 : Porous Type DIAION WA10 : DIAION WK11 WK10, WK11,,, Dextrose Beet Sugar Formalin DIAION WA20 : DIAION WK60L : High Porous Type, AW90 :,, Dextrose, Beet Sugar,, Formalin, Organic Scavenger - 8 -

9 (Strongly Acidic Cation Exchange Resin for Catalyst) (SPC series) (Grade) SPC160H SPC180H SPC320H SPC400H SPC600H (Matrix) PolystyreneDVB (Functional group) (Ionic Form) (Shipping Weight, g/) (Moisture Retention) (Total Capacity, eq/) (Effective Size, mm) (Uniformity Coefficient) (Operating Temp) ph (Operating ph Range) (Maximum Swelling, Na H ) (Remarks) -SO 3 (Sulfonate) H (H Conversion rate 995% ) (on 1,180 < 5%, through 300 < 1%) % 80% 40% 100% 120% Styrene Porous Type CMP-Series (Porosity) Polymer Flexibility SPC160H Styrene Porous Type,,, CMP16 ESTER (Tetrahydrofuran) SPC180H Styrene Porous Type Ester (1,4 Butanediol, MMA), MTBE/TAME Etherification, Alkylation SPC320H Styrene Porous Type Cu, V 2 O 5 SPC400H Styrene Porous Type EHA(Ethylhexylacrylate) - 9 -

10 (Uniform Particle Sized Resin, Resin for Layered Bed) (UPS, LB series) (Grade) MC-1 MA-1 MA-2 AW90LB KA18LB (Matrix) PolystyreneDVB PolystyreneDVB (Functional group) (Ionic Form) (Specific Gravity) (Shipping Weight, g/) (Moisture Retention) (Total Capacity, eq/) (Uniformity Coefficient) (Operating Temp) ph (Operating ph Range) (Maximum Swelling) (Na H ) (Cl OH ) (Remarks) -SO 3 (Sulfonate) -N (CH 3 ) 3 Cl (Trimethylammonium) -N (CH 3 ) 2 OH (Dimethylam-monium) -N (CH 3 ) 3 Cl (Trimethylammonium) Na Cl Cl OH Cl (OH ) 100 (Cl ) 35 (OH ) 70 (Cl ) 0506 ( % ) (OH ) 80 (Cl ) % 240% 140% 300% (OH Cl ) -N (CH 3 ) 2 C 2 H 4 OH Cl (Dimethylethanolammonium) MC-1 AW90LB Gel Type Styrene- Porous Divinylbenzene Type , AW90LB, KA18LB MA-1 Gel Type Styrene- SiO 2 % Divinylbenzene Trimethyl ammonium Water Block System Cl SiO 2 MBP,, Amino KA18LB MA-2 Gel Type Styrene- Gel Type Divinylbenzene Dimethylethanol ammonium 0612 TR Cl ILITE AW90LB Polishing Water Block System Performance Leakage SiO 2 Performance Packed Bed System 240%

11 (Particle Size Distribution & Applications) Removal Conventional Resin L(Large) type Resin Uniform Particle Sized Resin 03 12mm mm 16, 14 Water blocking Upflow system 0506 mm(90% ) 11 Packed bed system SAR-B SAR-BL MC1 SAR12 SAR12L - SAR10 SAR10L MA1 SAR20 SAR20L MA2 Middle distributor Service Regeneration Freeboard Ion exchange resin Freeboard Ion exchange resin Ion exchange resin Freeboard Freeboard Ion exchange resin Co-current regeneration system Counter-current regeneration system (Water blocking) Counter-current regeneration system (Upflow system) Packed bed Counter-current regeneration system

12 (Specialty Resin for Various Uses) (SM, KH series & Others) (Grade) SM210 KH80 ASR16 NAC4 AMP26 (Matrix) PolystyreneDVB PolystyreneDVB PolystyreneDVB PolystyreneDVB (Functional group) (Ionic Form) (Shipping Weight, g/) (Moisture Retention) (Total Capacity, eq/) (Effective Size, mm) (Uniformity Coefficient) (Operating Temp) ph (Operating ph Range) (Maximum Swelling) (Na H ) (Cl OH ) (Remarks) Mixed Resin -SO 3 (Sulfonate) -N (CH 3 ) 3 Cl (Trimethylammonium) -SO 3 (Sulfonate) -N (CH 3 ) 2 C 2 H 4 OH Cl (Dimethylethanolammonium) H / OH Na Cl Na Cl : 1) eq/ : 2) (on 1,180 < 5%, through 300 < 1%) 70 (OH ) 90 (Cl ) (OH ) 70 (Cl ) % 230% 80% 131% SM210 ASR16 NAC-4 H Styrene DVB(Divinyl benzene) OH, Gel Type, Type Gel Type,,,, Wire-cutting Polisher, R/O Polisher, (DVB%) Polisher, KH80 Porous Type1 AMP-26, Macroporous Type Styrene-Divinylbenzene KH80 4 (Bad Life Time Odor) Premium Grade Porosity Organic Scavenger,, (1) - Na%=20%, : CaCO 3 400ppm + NaCl 100ppm, Flow rate : SV12, : 30 (2) 1)

13 (Chelating Resin) (CR, Eporous series) CR series Eporous series (Grade) DIAION CR11 DIAION CR20 DIAION CRB02 Eporous MX-8C Eporous Z-7 Eporous K-1(3) (Matrix) PolystyreneDVB Epoxy Resin (Functional group) CH 2 COONa -CH 2 N - CH 2 NH(C 2 H 4 NH) n H -(CH) 4 OHCH 2 OH CH 2 COONa Iminoacetate Polyamine Glucamine Imino Group Carboxylic Acid Imino Group Carboxylic Acid Imino Group Carboxylic Acid (Ionic Form) (Shipping Weight, g/) (Moisture Retention) (Total Capacity) (Effective Size, mm) (Uniformity Coefficient) (Operating Temp) ph (Operating ph Range) Na OH OH Ca 2 Na Al 3 (Na ) (725) Cu 2 05 (ph45, mmol/) Ca (meq/) Cu 2 04 (ph40, mmol/) Acid 06 (meq/) 06mol Cd 2 /- Resin g Hg /-Resin 4060 (3555) 11g F /-Resin (130g BF 4 /-R) (050) (on 1,180 < 5%, through 300 < 1%) 80 (H ) 120 (Na ) (OH ) 100 (OH ) 0320(95%) (48) (Maximum Swelling) 300% (H Na ) 60% (OH Zn 2 ) - (Remarks) DIAION CR11 : Styrene Porous Type Eporous MX8C : (Cd, Pb, Zn, Cu, Ni, Cr, Chelation ), 2 (Zn, Cu, Ca, Fe,) ph Eporous Z-7 : (Hg) CR11 1 ph 2 01ppb 1 2 (NaOH) 2, DIAION CR20 : Styrene High Porous Type Eporous K-1 : (F ) Eporous K-3 : BF 4 BF 4 DIAION CRB02 : (Boric Acid) Eporous K-6 :

14 (Ion Exchange Resin For Ultra Pure Water) (UPW Resin) (Matrix) (Functional group) 1 TOC DIAION SKF110 PolystyreneDVB -SO 3 (Sulfonate) DIAION SKF110H (Ionic Form) Na H H (%, Conversion Rate) > 95 > 95 (Total Capacity, eq/) > 20 > 19 (Moisture Retention) (>1,180 ) < 5% (>300 ) < 1% (>1,180 ) < 5% (>300 ) < 1% (Effective Size, mm) > 04 > 04 (Uniformity Coefficient) < 16 < 16 (Analytical Conditions) Regn, HCl=200g/-R Rinse, SV=30, 3hr Rinse, SV=30, 3hr TOC(ppb) < 50 < 50 (Remarks) TOC DIAION SKF110 TOC 50ppb

15 (Ion Exchange Resin For Ultra Pure Water) (UPW Resin) (Matrix) (Functional group) 1 TOC DIAION SAF12A DIAION SAF12AOH DIAION SAF10DL DIAION WA30C PolystyreneDVB -N (CH 3 ) 3 Cl (Trimethylammonium) -N (CH 3 ) 2 OH (Dimethylammonium) (Ionic Form) Cl OH Cl Free Base OH (%, Conversion Rate) > 90 > 90 > 90 > 95 (Total Capacity, eq/) > 12 > 09 > 13 > 15 (Moisture Retention) (>1,180 ) < 5% (>300 ) < 1% (>1,180 ) < 5% (>425 ) < 5% (>1,180 ) < 5% (>300 ) < 1% (Effective Size, mm) > 04 > 04 > 04 > 04 (Uniformity Coefficient) < 16 < 16 < 16 < 16 (Analytical Conditions) Rinse, SV=30, 3hr Regn, NaOH=200g/-R Rinse, SV=30, 3hr Rinse, SV=30, 3hr TOC(ppb) < 50 < 50 < 50 < 50 (Remarks) 1 (Single Bed) 2 (Dual Layered Bed) DIAION SAF12A TOC DIAION SAF12AOH DIAION SAF12A DIAION SAF10DL( )DIAION WA30C( ) (Dual Layered Bed) TOC

16 (Ion Exchange Resin For Ultra Pure Water) (UPW Resin) (Matrix) (Functional group) 1 (1 ST Polishing) DIAION SKNUP DIAION SANUP DIAION SMNUP -SO 3 (Sulfonate) PolystyreneDVB -N (CH 3 ) 3 Cl (Trimethylammonium) SKNUP, SANUP Mixed Resin (Ionic Form) H OH H / OH H, OH (%, Conversion Rate) > 990 > (Total Capacity, eq/) > 17 > 09 - (Moisture Retention) (>1,180 ) < 5% (>300 ) < 1% (>1,180 ) < 5% (>300 ) < 1% (>1,180 ) < 5% (>300 ) < 1% (Effective Size, mm) > 04 > 04 > 04 (Uniformity Coefficient) < 16 < 16 < 16 (Analytical Conditions) SKNUP, SANUP 1:1, 15,SV 123, 30min Service 15, SV 123, 30min Service Resistivity( ) > 15 > 15 > 15 TOC(ppb) - - Graph (Remarks) 1 TOC 2 10 DIAION SMNUP, SMT100 TOC 8 6 TOC ppb 4 DIAION SMNUP Condition Feed Water Quality Resistivity 182M cm TOC : 05 ppb Resin Volume : 500 Flow Rate : SV= DIAION SMT Service in hours

17 (Ion Exchange Resin For Ultra Pure Water) (UPW Resin) (Matrix) (Functional group) 2 (2 ND Polishing) DIAION SKT10L DIAION SAT10L DIAION SMT100L -SO 3 (Sulfonate) PolystyreneDVB -N (CH 3 ) 3 Cl (Trimethylammonium) SKT10L, SAT10L Mixed Resin (Ionic Form) H OH H / OH H, OH (%, Conversion Rate) > 999 > 90, Cl% < 10 - (Total Capacity, eq/) > 19 > 09 - (Moisture Retention) (>1,180 ) < 5% (>425 ) < 1% (>1,180 ) < 5% (>425 ) < 1% (>1,180 ) < 5% (>425 ) < 1% (Effective Size, mm) > 04 > 04 > 04 (Uniformity Coefficient) < 16 < 16 < 16 (Analytical Conditions) Single Bed 15, SV 30, 3hr Service 15, SV 30, 3hr Service Resistivity( ) > 12 > 15 > 18 TOC(ppb) < 20 < 20 < 10 Na(ppt) < 05 < 05 ND Cl(ppt) < 05 < 05 ND (Remarks) 2 Final Polishing TOC Metal

18 (Ion Exchange Resin For LCD Application) (UP Series) (Matrix) (Functional group) LCD TOC UPC100LH UPA100LOH UPM100L -SO 3 (Sulfonate) PolystyreneDVB -N (CH 3 ) 3 Cl (Trimethylammonium) UPC100LH, UPA100LOH Mixed Resin (Ionic Form) H OH H / OH H, OH (%, Conversion Rate) > 999 > 90, Cl% < 10 - (Total Capacity, eq/) > 19 > 09 - (Moisture Retention) (>1,180 ) < 5% (>425 ) < 1% (>1,180 ) < 5% (>425 ) < 1% (>1,180 ) < 5% (>425 ) < 1% (Effective Size, mm) > 04 > 04 > 04 (Uniformity Coefficient) < 15 < 15 < 15 (Analytical Conditions) UPC100LH, UPA100LOH 1:1, 15, 15,SV 123, 30min Service SV 123, 30min Service Resistivity( ) > 15 > 15 > 15 TOC(ppb) < 100 < 100 < 100 (Remarks) LCD 1 TOC 100ppb UPC100LH UPA100LOH UPM100L DIAION SMT100L

19 (Filter Media for Iron & Manganese Removal) (FEROX, RFC40) (Grade) FEROX (Grade) RFC-40 (Matrix) Chamotte (Appearance) (Specific Gravity) (Uniformity Coefficient) (Ingredients) NaCl 90% Sodium Succinate 3% Sodium Citrate 3% Sodium Phosphorate 3% (Fe), (Mn) 15g Fe/ (Softening) (Inert Resin) (RMZ-3, TR70, PS20) 1 (Grade) RMZ-3 (Grade) TR70 DIAION PS20 (Matrix) Zeolite (Matrix) Polyethylene PolystyreneDVB (Shipping Weight, g/) 500 (Shipping Weight, g/) ( ) ( 04, 13 ) (gas Na/) 1519 (Operating Temp) (Na, K) ph (H 2 SO 4 ) Cost 1 Styrene, Up-Flow Up-Flow,,,

20 (Synthetic Adsorbent) (HP, SP Series) Styrene Type Chemically Modified Styrene Type MethacrylateType (Grade) DIAION HP20 SEPABEADS SP825 SEPABEADS SP850 SEPABEADS SP700 SEPABEADS SP207 DIAION HP2MG CH 2 CH 2 (Chemical Structure) CH 2 CHCH 2 CH CH 2 CHCH 2 CH CH 2 CCH 2 C CO COOCH 2 O CH 2 CH Br CH 2 CH (CH 2 ) 2 O (Shipping Weight, g/) (Moisture Retention) (Effective Size, mm) (Uniformity Coefficient) (Specific Surface Area) (/g) (Pore Volume, /g) % % 600 1,000 1,000 1, (Pore Radius, ) (Remarks) DIAION HP20, HP21 Styrene (> 1,000mw),, (ex Cepha-C),,, DIAION SP825, SP850 HP20 (1,000mw),,, DIAION SP700 SP Series,,, DIAION SP207 Styrene (Bromine) (Hydrophobicity) Styrene 12 DIAION HP2MG Matrix 10,000 BET

21 (The Selection of Synthetic Adsorbent and Method of Use) (Aromatic Type) : HP Series (Pore) (Elution) (Aromatic Chemically modified Type) : SP200 Series (Aromatic Type) : SP800 Series (Specific surface area) HP Series sharp (Elution) (Methacrylic Type) : HPMG Series (Matrix) Adsorption Washing Elution Regeneration

22 (Resins for Chromatographic Separation) (UBK Series) UBK Series HP, SP20SS (Grade) DIAION UBK530 DIAION UBK550 DIAION UBK555 DIAION HP20SS SEPABEADS SP20SS (Matrix) PolystyreneDVB PolystyreneDVB (Functional group) (Ionic Form) (Shipping Weight, g/) (Moisture Retention) (Total Capacity, eq/) -SO 3 (Sulfonate) - Na Na Ca % % % % % % % % (Remarks) DIAION UBK Series, UBK Fructose/Glucose, Sucrose DIAION HP20SS, SEPABEADS SP20SS HP20SS HP SP20SS HP20SS

23 (Typical Corn Sugar Refining Process) Starch sources(corn, tapioca, ) Emulsion of starch Enzyme liquefaction Saccharification Intermediate concentration(evaporation) activated carbon Filtration 1 st Ion exchanger(2b2t+mb for glucose) SCR-B AW90 Countercurrent Cocurrent ph 56 5 / ph / AMP24 CMP18 ph 46 2 / Bx 3540 CV Max 005 Glucose, GGl lluuccoossee, Maltose,,, Maal llt toossee, Corn,, CCoor rnn syrup ssyyr ruupp Evaporation Isomeration Activated carbon 2 nd 2Ion nd Ion exchanger(2b2t+mb for for fructose) SCR-B AW90 Countercurrent Cocurrent ph 56 5 / ph / AMP24 CMP18 ph 46 2 / Bx 45 CV Max 005 HFS HHFFSS 42% 4422% Evaporation Fructose/glucose separation (8090% Glucose) DIAION UBK555 HFS 55% Mixing (9097% fructose) 3 rd Ion exchanger(mb for High fructose) AW90 AMP24 CMP18 ph 46 2 / Bx 40 CV Max 005 HFS HHFFSS 9097% % Evaporation

24 (Cautions on Use of Ion Exchange Resins) (Handling),, (Ex ) (Storage) (Degradation) 0 (Disposal) SO X, NO X, CO X (Pretreatment Before Initial Use) Test Method (Loading) Column (Preparation of Regenerant) 35% HCl, 95% NaOH 1mol 35% HCl Volume 11, 95% NaOH 40g 1l (Injection of Regenerant) Down flow( ) SV(Space Velocity) (/hr) () SV4 SV4 100% 80% 1mol ( HCl, NaOH) 5 10BV(Bed Volume) H, OH 80% 1mol ( HCl, NaOH) 5BV (Rinse) SV Commercial Plant Method Plant Manual, Process,,, ProcessColumn,

25 (The Method of Charging to the Vessel) (Single Bed) 1/3 LV 6 15m/h 15 1m Sample (Double Regeneration) (Mixed Bed) (Mixed Bed), (Single Bed) Collector 2Type Level 1 Collector Collector 2, Collector Collector NaOH (Na, Na) Collector ( 5cm) (2 ) Collector Polisher (H) Collector, Collector Collector Collector

26 (The Method of Storage) Factor 50% (Osmotic Shock), (: Porous Type ) H-Type Na Ca Type, Cycle H Type Na Ca Type H Type Na Type OH Type (Styrene, Acrylic,, ) Cl Type Cl Type 40, ( ) Spray ( ) 12Bag H OH Cl Cl 10% NaCl, 1/ 2 1 / 10% NaCl

27 (Applications of Ion Exchange Resin) Water Treatment System Application Process Ion Exchange Resin Domestic Softening KH80, SCR-B Softening SCR-B, DIAION WK60L Water Block System SCR-B, SAR20, SAR10 Packed Bed System MC1, MA2, MA1 Demineralization Layered Bed System SCR-B, AW90LB, KA18LB Mixed Bed Polishing System SCR-B, SAR10MB, MC1, MA1 Low TOC System DIAION SKF110, SAF12A, WA30C, RDA02 DIAION SKF110, SAF12A, WA30C, RDA02 Primary System Ultra Pure Water DIAION SKNUP, SANUP, SMNUP Secondary System DIAION SKT10, SAT10, SMT100 Condensate Polishing CMP28L, PS20, AMP16L Organic Scavenger AMP14 Cartridge Polishing SM210 Special Application Application Process Ion Exchange Resin Adipic acid CMP20, CMP28, SPC320H Alcohols SCR-B, SAR10, AW90 Amino acid, SCR-B, NAC4, AW90, AMP26 Boric acid DIAION CRB02 Brine 2 DIAION CR11 Caprolactam SCR-B, SAR10 Casein CMP28, CMP20 Catalysis SPC Series Cephalosporine, SCR-B, AW90, DIAION HPA25, HP Series, SP Series Chromates AMP28, AW90 Citric acid, CMP28, CMP20, AW90 Cobalt DIAION WA20, WA21, CR20 Colloidal Silica CMP28, WK60L Copper, CMP28, WK60L Electroplating effluents (recycling) CMP18, CMP20, AW90 Enzymes, DIAION HPA25, CR20 Formaldehyde, DIAION WA20, AW90, SAR12, CMP20 Gelatine CMP16, CMP28, AW90 Glucose CMP18, CMP28, AW90 Glucose-Fructose DIAION UBK555 Glycerine, CMP16, CMP18, AW90, AMP26, PA308 Lysine, SCR-B, DIAION SKL10 Mercury Eporous Z-7 Monosodium glutamate AW90, AMP26 Nucleic Acid, AMP26, NAC4, SAR21 Phenol AW90, DIAION HP Series Silver, gold SAR11, SAR10 Sorbitol CMP18, CMP28, AW90, AMP24 Sucrose + SCR-B Sugar Refining AMP14, SAR11 Sugar Refining DIAION UBK530 Xylitol SCR-B, AW90, WK60L, AMP26

Subject : 귀사의 일익번창하심을 진심으로 기원합니다.

Subject : 귀사의 일익번창하심을 진심으로 기원합니다. 1. 18 D-303 Tel : () 031-711-1560 Fax : 031-711-1563 www.iontec.co.kr e-mail : ion@iontec.co.kr (organic reaction). (esterification) (hydrolysis of ester). Porous type (alkylation) system. ( gel type ).

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