나노종합기술원장비별이용료기준표 이용료는장비이용료와재료비를합산한금액입니다. 장비이용료는공정조건에따라서차이가발생할수있습니다. ( ) 장비번연구장비장비이용료기준분야호장비명공정조건 ( or 모델명 ) 이용자직접진행 NNFC 담당자진행 Semi Auto E-Be

가. 회사의 법적, 상업적 명칭 당사의 명칭은 주성엔지니어링 주식회사라고 표기합니다. 또한 영문으로는 JUSUNG Engineering Co., Ltd. 라 표기합니다. 나. 설립일자 및 존속기간 당사는 반도체, FPD, 태양전지, 신재생에너지, LED 및 OLED 제

분 기 보 고 서 (제 18 기) 사업연도 2012년 01월 01일 2012년 03월 31일 부터 까지 금융위원회 한국거래소 귀중 2012 년 5 월 15 일 회 사 명 : 주성엔지니어링(주) 대 표 이 사 : 황 철 주 본 점 소 재 지 : 경기도 광주시 오포읍 능평리 49 (전 화) 031-760-7000 (홈페이지) http://www.jseng.com

Contents SKKU OASIS' News 03 인사말 04 사진으로 읽는 뉴스 SKKU RIS-RIC의 2014년 08 방문을 환영합니다! 10 인물포커스 반도체&MEMS팀 김윤식 팀장 14 참여기관 탐방 반월도금사업협동조합 Cover Story 5월 15일(목)

성균관대학교 스마트부품 도금산업 고부가가치화 지원사업단(RIS) 정보통신용 신기능성 소재 및 공정연구센터(RIC) SKKU OASIS' News 2014년 6월, Vol.13_No. 발행일 2014년 6월 발행인 서수정 발행처 성균관대학교 RIS-RIC (경기도 수원시 장안구 서부로 2066 제1종합연구동 4층) TEL 031-290-5640 FAX 031-290-5644

NNFC 분석 / 특성평가장비의구성 구조 & 표면분석 Mechanical & Bio 분석 Electrical 특성측정 In-Line 측정 불량분석 RE 분석 FE-(S)TEM Cs-corrected STEM 3D FE-STEM In-situ TEM FE-SEM DB-F

Electron Microscope J.M. Yang, NNFC NNFC 분석 / 특성평가범위 업무범위 l NNFC 특성평가 나노단위미세구조분석및표면분석 기술및제품개발참여 불량원인분석 리버스엔지니어링 반도체소자의공정평가 나노단위박막및소재의전기적, 기계적 특성분석및평가 연구, 개발 재료 평가기술개발 평가분석 분석지원업무 생산품 특허 & 신뢰성 리버스엔지니어링분석

DISPLAY CLASS Electronic Information Displays CRT Flat Panel Display Projection Emissive Display Non Emissive Display Cathode Ray Tube Light Valve FED

2002. 4. 4. DISPLAY CLASS Electronic Information Displays CRT Flat Panel Display Projection Emissive Display Non Emissive Display Cathode Ray Tube Light Valve FED VFD PDP OLED ELD LED LCD ECD DMD DC Type

2019 년차세대디스플레이연구센터 공정및사용료 ( 안 ) ~ 차세대디스플레이연구센터 -

2019 년차세대디스플레이연구센터 공정및사용료 ( 안 ) 2019.01.01 ~ 12.31 - 차세대디스플레이연구센터 - - 차례 - Ⅰ. 일반적요율원칙 Ⅱ. 공정, 장비이용요율및분석료 1. 공정및장비이용요율 가 ) 15 X 15 cm 2 급자동화공정나 ) 15 X 15 cm 2 급 LC 셀제작공정다 ) Organic 증착공정라 ) 단위공정 2. 측정, 시뮬레이션및공정개발요율

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Synthesis and structural analysis of nano-semiconductor material 2005 2 Synthesis and structural analysis of nano-semiconductor material 2005 2 . 2005 2 (1) MOCVD ZnO (2) MOCVD gallium oxide < gallium

Contents Why YEST? Chapter 01_ Investment Highlights Chapter 02_ Growth Strategy Chapter 03_ Financial Highlights Appendix

Youngin Equipment Solution Technology Contents Why YEST? Chapter 01_ Investment Highlights Chapter 02_ Growth Strategy Chapter 03_ Financial Highlights Appendix Why YEST? 01, YEST 38.3%, YEST 580 2015

Vertical Probe Card Technology Pin Technology 1) Probe Pin Testable Pitch:03 (Matrix) Minimum Pin Length:2.67 High Speed Test Application:Test Socket

Vertical Probe Card for Wafer Test Vertical Probe Card Technology Pin Technology 1) Probe Pin Testable Pitch:03 (Matrix) Minimum Pin Length:2.67 High Speed Test Application:Test Socket Life Time: 500000

00....

Fig. 1 2.5%. 51.5%, 46.0%,.. /, Table 1 (U.V.; Ultraviolet 10-400 nm)/ (NIR; Near Infrared 700 nm - 5 µm) ( TiO 2, WO 3, ZnO, CeO, ATO, Sb 2O 3-ZnO, ITO.) (400 nm - 780 nm). /. Fig. 1.. 23 Table 1. / /

(72) 발명자 김창욱 경기 용인시 기흥구 공세로 150-20, (공세동) 박준석 경기 용인시 기흥구 공세로 150-20, (공세동) - 2 -

(19) 대한민국특허청(KR) (12) 공개특허공보(A) (11) 공개번호 10-2014-0034606 (43) 공개일자 2014년03월20일 (51) 국제특허분류(Int. Cl.) H01M 4/525 (2010.01) H01M 4/505 (2010.01) H01M 4/48 (2010.01) H01M 4/131 (2010.01) (21) 출원번호 10-2012-0101151

실적 및 전망 09년 하반 PECVD 고객 다변화에 따른 실적개선 10년 태양광 R&D 장비 매출을 반으로 본격적인 상업생산 시작 1. 09년 3Q 실적 동사는 09년 3Q에 매출과 영업이익으로 각각 142 억원(YoY 16.7%, QoQ 142%), 6 억원(흑전환)

KRP Report (3회차) GOLDEN BRIDGE Research - 스몰켑 - Not Rated 테스 (095610) 공정미세화 추세의 수혜, 태양광 장비의 매출 가시화로 견조한 성장 작성일: 2009.11.18 발간일: 2009.11.19 3Q 실적 동사의 3분에 매출과 영업이익은 각각 141.5 억원(QoQ 142%), 6 억원(흑전)이다. 목표가

Microsoft Word - 류제현.doc;_기업분석_20050426_57.doc

Research Center 2005.4.26 에이디피 (079950) 2005년, 두 마리 토끼를 잡는다 Analyst 류제현 (02) 3774-1418 jayryu@miraeasset.com Initiate BUY Target Price 13,600원 Price(4/25) 9,840원 6개월 목표주가 13,600원, BUY 의견으로 Initiate 목표주가

대표이사등의 확인, 서명 I. 회사의 개요 1. 회사의 개요 가. 회사의 법적, 상업적 명칭 당사의 명칭은 '엘아이지에이디피주식회사'('LIG에이디피주식회사'라 칭하며), 영문으 로는 'LIG ADP Co.,Ltd.'(약호 LIG ADP)라 표기합니다. 나. 설립일자

사 업 보 고 서 (제 10 기) 사업연도 2010년 01월 01일 2010년 12월 31일 부터 까지 금융위원회 한국거래소 귀중 2011년 3월 31일 회 사 명 : 엘아이지에이디피주식회사 대 표 이 사 : 허광호 본 점 소 재 지 : 경기도 성남시 상대원동 333-5 (전 화) 031-778-1114 (홈페이지) http://www.ligadp.com 작

PowerPoint 프레젠테이션

교육문의 : 031-546-6245( 수원 ), 054-479-2185( 구미 ), 052-217-2640( 울산 ) 일월화수목금토 1 2 3 4 5 6 7 나노내부결정분석 8 9 10 11 12 13 14 나노박막증착공정 15 16 17 18 19 20 21 나노표면특성분석 나노결정물질구조및성분분석기술 22 23 24 25 26 27 28 29 30 나노광소자공정

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Dry etch 1. Wet etch and dry etch 2. Wet etch and dry etch의장. 단점 3. Dry etch의종류 4. Plasma etch의특성 5. Dry etch에서고려하여야할점 6. Film etch 6.1 Si etch 6.2 SiO 2 etch 6.3 Si 3 N 4 etch 6.4 Al etch 6.5 Silicide

<4D F736F F F696E74202D20B3AAB3EBC8ADC7D0B0F8C1A4202DB3AAB3EBB1E2BCFA2E BC8A3C8AF20B8F0B5E55D>

NANOTECHNOLOGY 2008. 3. 13 ( 목 ) 이길선 나노기술 (Nano Technology) 나노미터 (1nm = 1x10-9 m : 10억분의 1미터 ) 크기의물질을조작하고제어하는기술 나노 : 그리스어로난쟁이를의미함 지구 백두산 사람핀머리적혈구 DNA 원자 10 3 km km m ( 백만 ) ( 천 ) (1) mm (1/ 천 ) μm (1/

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1. Sputter Film 형성 2. Gate Al 공정 3. S/D Al, Mo 공정 4. Cu 배선 5. 투명전도막 1 1) Gate 배선재료요구특성 Gate 배선물질로서요구되는특성과사용예는다음과같다. 구분재료의요구특성사용 Metal Gate 전극및배선 Glass와의밀착력우수 (Adhesion) Etching 가공성우수 배선저항이작을것 TCO (IZO

Microsoft PowerPoint - dev6_TCAD.ppt [호환 모드]

TCAD: SUPREM, PISCES 김영석 충북대학교전자정보대학 2012.9.1 Email: kimys@cbu.ac.kr k 전자정보대학김영석 1 TCAD TCAD(Technology Computer Aided Design, Technology CAD) Electronic design automation Process CAD Models process steps

구리 전해도금 후 열처리에 따른 미세구조의 변화와 관련된 Electromigration 신뢰성에 관한 연구

工學碩士學位論文 Electromigration-resistance related microstructural change with rapid thermal annealing of electroplated copper films 2005 年 2 月 仁荷大學校大學院 金屬工學科 朴賢皒 - 1 - 工學碩士學位論文 Electromigration-resistance related

[ 화학 ] 과학고 R&E 결과보고서 나노입자의표면증강을이용한 태양전지의효율증가 연구기간 : ~ 연구책임자 : 김주래 ( 서울과학고물리화학과 ) 지도교사 : 참여학생 : 원승환 ( 서울과학고 2학년 ) 이윤재 ( 서울과학고 2학년 ) 임종

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슬라이드 1

GaN 기판제작공정 시스넥스기술연구소 박기연 내 용 1. 시스넥스및 HVPE 장비소개 2.GaN 기판제작개요 3. GaN Epi 공정 (HVPE 방법 ) 4. GaN LLO 공정 5. GaN polishing 공정 시스넥스소개 (4-1) 회사연혁및사업분야 2000. 05 회사설립 2001. 05 6x2 GaN MOCVD 개발 ( 국내및중국납품 ) 2004.

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OLED OLED OLED Interlayer λ OLED OLED PM OLED α PM OLED Getter Cover glass Substrate Organic film structure Light emission Anode Sealant ~10VDC Glass Substrate Column: Data line Row: Scan line Metal

장비명 GC/MS/MS (QQQ가스크로마토질량분석기) P-GC-MS ( 열분해가스크로마토질량분석기 ) FT-IR ( 적외선분광분석기 ) FT-Raman( laser 파장 :1064nm) ( 라만분광분석기 ) Dispersive-Raman ( laser 파장 :532,6

유기분석실사용료안내 장비명 교내교외 1H (15분/ 시료당 ) 18,000 30,000 C / N / P (30분/ 시료당 ) 30,000 50,000 초과 30분당 5,000 10,000 Cryo-NMR 700MHz 13C Overnight (12시간) 155,000 258,000 2D 외 ( 기본 / 시료당 ) 60,000 100,000 ( 핵자기공명분광기

제 07 장 Al and Cu Metallization.hwp

제 7장 Al/Cu Metallization 1. Introduction 중요 이슈 Interconnects - Typical current density ~10 5 A/cm 2 - Wires introduce parasitic resistance and capacitance: RC time delay Inter-Metal Dielectric - Prefer

CERIUM OXIDE Code CeO CeO 2-035A CeO 2-035B CeO REO % CeO 2 /REO % La 2 O 3 /REO %

희토류 SPEC CERIUM OXIDE Code CeO 2-040 CeO 2-035A CeO 2-035B CeO 2-025 REO % 99 99 98 97.5 CeO 2 /REO % 99.99 99.98 99.95 99.50 La 2 O 3 /REO % 0.004 0.01 0.03 0.1 0.01 (1) Pr 6 O 11 /REO % 0.003 0.004 0.015

( Full Automatic Printer ) 작용업종 : Tube Light ( 형광등 1.2m / 2.4m) 가로등조명. 인테리어산업용조명 Loader 1.2m Stencil Solder LED LD812V Reflow 8 to 10 Hot Air Convecti

Autotronik-SMT GmbH LED Assembly 위한장비구성도 Printer LED Pick & Place Reflow V-Cutting Model 1 1.2m Tube LED " 양산 " 장비 Full Vision Auto Printer 1.2m LED Pick & Place LED Reflow 10 Zone LED Multi V-Cutting

2015 년도반도체장비 재료성능평가사업공고품목및사양 ( 10, 14, 5 ) Photo/PR KrF LED WEE 노광장비 Reticle particle 검사Unit ARF i NTD BARC KrF Positive PR Etch TSV Gas Chiller 냉매 Di

2015 년도반도체장비 재료성능평가사업공고품목및사양 ( 10, 14, 5 ) PhotoPR KrF LED WEE 노광장비 Reticle particle 검사Unit ARF i NTD BARC KrF Positive PR Etch TSV Gas Chiller 냉매 Diff SiC Susceptor SiC Pre Heat Ring Multi Point OES 고온용

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Characterization Technology and Reliability (Recent Technology for the Characterization of Nanomaterials by Electron Microscopy) jdyun@kyungnam.ac.kr....,...,,,,,,,,,,...... 1980 (STM) (AFM).,,. 1,2) 2000

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(Microsoft Word - 150316_\271\335\265\265\303\274_\300\314\264\326\303\326\301\276.docx)

산업분석 반도체/디스플레이 이베스트투자증권 어규진입니다. 작년부터 반도체/디스플레이 업황이 뜨겁습니다. Gate 가 부족하기 때문이죠. 반도체와 디스플레이의 수급이 타이트하다는 의미입니다. 과거 반도체/디스플레이 1 차 업황호조가 공격적인 투자집행에 따른 대규모 라인증설 때문이었다면, 금번 2 차 업황호조는 대규모 투자에 따른 과다경쟁 없이도 공정의 미세화,

Business Area 레이저 미세가공 서비스 범위 (주)코썸사이언스 레이저 미세가공 서비스 Mass Production ü 10년 이상 축적된 독자적이고 전문화된 레이저 응용기술을 보유하고 있어 다양한 application 제공. ü샘플의 thermal expans

레이저 미세가공 서비스 Business Area 레이저 미세가공 서비스 범위 (주)코썸사이언스 레이저 미세가공 서비스 Mass Production ü 10년 이상 축적된 독자적이고 전문화된 레이저 응용기술을 보유하고 있어 다양한 application 제공. ü샘플의 thermal expansion 극소화로 최대의 가공 정밀도와 정확한 테스트 결과 제공. Small

4.fm

Journal of the Korean Ceramic Society Vol. 46, No. 1, pp. 30~34, 2009. Optimization of Glass Wafer Dicing Process using Sand Blast Won Seo, Young-mo Koo*, Jae-Woong Ko**, and Gusung Kim Department of Electronic

Slide 1

레이저미세가공서비스 Business Area 레이저미세가공서비스범위 ( 주 ) 코썸사이언스레이저미세가공서비스 10 년이상축적된독자적이고전문화된레이저응용기술을보유하고있어다양한 application 제공. 샘플의 thermal expansion 극소화로최대의가공정밀도와정확한테스트결과제공. Small volume Order Mass production Laser

72.fm

Journal of the Korean Ceramic Society Vol. 45, No. 8, pp. 472~476, 2008. Multi-layered Coating Deposited on PEMFC (Proton Exchange Membrane Fuel Cell) Bipolar Plates Young-Hoon Yun, Hoon-Taek Chung, In-Su

2011-12월-내지-2

[Track 3] 첨단시공 및 엔지니어링 기술 이상헌 삼성물산ㄜ 건설부문 장비기술연구소 수석 신도형 인하대학교 토목공학과 교수 권순욱 성균관대학교 건축공학과 교수 한승우 인하대학교 건축학부 건설경영 교수 [초청논문] Track 3 : 첨단시공 및 엔지니어링 기술 1) 논문제목 : Applying HDS Technology in revamping refinery

Alloy Group Material Al 1000,,, Cu Mg 2000 ( 2219 ) Rivet, Mn 3000 Al,,, Si 4000 Mg 5000 Mg Si 6000, Zn 7000, Mg Table 2 Al (%

http://wwwtechnonetcokr (Aluminum & Aluminum BasedAlloy) : LG 1 Aluminum Table 1, 2 1000 7000 4 Al 990% Al 1XXX AlCu 2XXX AlMn 3XXX AlSi 4XXX AlMg 5XXX AlMgSi 6XXX AlZn(Mg, Cu) 7XXX 8XXX ( ) 9XXX Fig 1

16(5)-03(56).fm

Journal of Korean Powder Metallurgy Institute DOI: 10.4150/KPMI.2009.16.5.316 ƒ w Fe œ w Cu wy SPS (I) I. ƒ wy y Á xá½ Á½ *Á½{ a w œw, a w» gœ Production of Fe Amorphous Powders by Gas-atomization Process

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20, 30, 40 20, 30, 40 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 3.1 6.3 9.4 12.6 15.7 18.8 22.0 25.1 28.3 31.4 2.4 4.7 7.1 9.4 11.8 14.1 16.5 18.8 21.2 23.6 7.1 14.1 21.2 28.3 35.3 42.4 49.5 56.5 63.6 70.7 5.9 11.9 17.8 23.7

태양광 기업들 '떠난다' vs '기회다' 명암 시장은 재편 중 2013.06.02 2일 업계에 따르면 최근 태양광 사업에서 손을 떼거나 휴업을 결정하는 기업들이 늘고 있다. LG실트론은 지난달 22일 열린 이사회에서 150MW급 태양광 웨이퍼 사업을 정리하기로 했다.

차세대 반도체 공정, 노광에서 식각 증착 등으로 무게 이동 핀펫(FinFET) 3차원(3D) 낸드플래시 등 차세대 반도체 시장을 놓고 국내 장비 업체들의 기대감이 커지고 있다. 그동안 반도체 미세공정을 주도한 핵심 장비는 노광기였으나, 해외 선두 장비 업체들이 극자외선(EUV) 등 차세대 노광기 개발에 한계를 보이면서 반도체 업체들은 최근 화학 증기증착(CVD)

융합WEEKTIP-2016-2-4data_up

2016 FEBRUARY vol.08 08 융합 OLED 봉지기술 (Encapuslation ) 의 현황과 전망 김의권 융합연구정책센터 발행일 2016. 02. 29 발행처 융합정책연구센터 융합 2016 FEBRUARY vol.08 OLED 봉지기술(Encapuslation )의 현황과 전망 김의권 융합연구정책센터 개요 봉지기술은 적용분야와 관계없이 OLED

HWP Document

25장 포토마스크용 광학박막의 계측 25 포토마스크용 광학박막의 계측 Ebru Apak 목차 25.1 서언 25.2 광학적 기법 25.2.1 빛의 반사 25.2.1.1 광선과 단일간섭의 상호작용 25.2.1.2 프레넬 방정식 25.2.1.3 광선과 다중간섭의 상호작용 25.2.2 타원편광 분광(SE) 25.2.3 반사광 분광 25.3 소재의 광학적 성질들 25.3.1

Vol. 234 2012. August 04 28 38 54 KCC Inside Special Theme KCC Life KCC News 04 KCC 하이라이트Ⅰ KCC 울산 신공장 준공식 거행 06 KCC 하이라이트Ⅱ 김천공장 통전식 및 안전 기원제 실시 08 KCC

www.kccworld.co.kr 08 2012. August vol. 234 KCC Inside_ KCC 하이라이트Ⅰ KCC 울산 신공장 준공식 거행 Special Theme_ Essay 편한 마음으로 여름을 이기자 KCC Life_ 책과 함께Ⅰ 스티븐 호킹의 시간의 역사 & 위대한 설계 KCC News_ KCC News KCC건설 News Vol. 234

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목 차 신성장동력장비 개발로드맵 C O N T E N T S 개 요 ⅰ 1. 추진 배경 및 목적 ⅲ 2. 추진 경위 ⅳ 3. 추진 방향 ⅴ 4. 로드맵의 구성 ⅵ 5. 전략품목 목록 ⅶ 참여전문가 ⅹ 1 반도체장비 개발로드맵 제1장 반도체장비 개발로드맵 개요 3 1. 반도체장비의 개념 3 2. 반도체장비 개발로드맵 작성 범위 8 제2장 반도체장비 산업환경 분석

COMPANY INITIATION

(3649) 27 411 COMPANY INITIATION 2) 3772-1594 2) 3772-1514 david.min@goodi.com mhyun@goodi.com KOSPI : 1499.16p KOSDAQ : 674.41p : 224.2 : 5 : 9. : 6.5 (72.5%) 52 / : 24,95 /12,8 (6 ) : 128,134 (6 ) :

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Industry Brief Analyst 지목현 (6309-4650) mokhyun.ji@meritz.co.kr 가전전자부품/디스플레이 2012. 11.28 Overweight Top pick LG디스플레이(034220) Buy, TP 40,000원 산화물TFT, 2013년 디스플레이의 뜨거운 감자 2013년 산화물TFT는 태블릿 중심으로 본격적인 적용 확대

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14.fm

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2005 1 Creating the future of Display and Energy Samsung SDI 2005 420 2005 1 05 1 ( ) 22,449 18,634-17.0% - 392 (%) (- 1.7%) 156 (0.8%) N/A - 480 (%) (- 2.1%) 414 (2.2%) N/A 342 (%) (1.5%) 541 (2.9%)

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- i - - ii - - iii - - iv - - v - - vi - Photograph of miniature SiC p-n and Schottky diode detector Photograph SiC chip mounted on a standard electrical package Photograph of SiC neutron detector with

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디스플레이제조장비및시장동향 한국정보디스플레이학회장비연구회 권상직 경원대학교전자 전기정보공학부교수 Display Class DISPLAY 소개 Electronic Information Displays CRT Flat Panel Display Projection Emissive Display Non Emissive Display Cathode Ray Tube Light

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제 2 장 Chemical Vapor Deposition (CVD, 화학기상증착 ) 1. Introduction (1) 실리콘소자제조에사용되는박막의종류및용도 분류 막의종류 증착기술 용도 열산화막게이트산화막 Oxidation (SiO 2 ) Isolation CVD-Si

제 2 장 Chemical Vapor Deposition (CVD, 화학기상증착 ) 1. Introduction (1) 실리콘소자제조에사용되는박막의종류및용도 분류 막의종류 증착기술 용도 열산화막게이트산화막 Oxidation (SiO 2 ) Isolation CVD-SiO 2 APCVD, LPCVD ILD, Passivation 이온주입 Mask 실리콘 ILD,

表紙（化学）

수험 번호 성 명 2013년 일본 공과대학 학부 유학생 파견 선발 시험 화 학 (90분 100점) 주 의 1 시험시작의 지시가 있을 때까지 열지 마시오. 2 해답은 해답용지의 지정된 난 안에 알아보기 쉽게 기입하시오. 3 해답에 한글이 포함되면 채점되지 않습니다. 필요한 경우, 아래의 값을 사용하시오. 원자량 H 1.0, C 12, N 14, O 16, Cu

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국내외연구발전동향 I 기술분류국외기술현황국내개발현황 국외대비 수준 (%) (± 표준편차 ) 1) 진단및정제 주요연구 : 나노입자조영제, 나노선센서, 나노바이오칩, 나노입자를이용한정밀진단기술 Lab-On-a-Chip 등. 산업화 : 성장기, 일부기술상용화, 다수의벤쳐기업창업. 주요연구 : 나노입자조영제, 나노선센서, 나노바이오칩, Lab-On-a-Chip, 등나노바이오분야중가장활발한연구

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Wet etching of magnetic thin films 2003 2 ( ) Wet etching of magnetic thin films 2003 2 20032 Wet etching of magnetic thin films by Submitted to the faculty of in partial fulfillment of the requirements

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Journal of Korean Powder Metallurgy Institute DOI: 10.4150/KPMI.2009.16.5.326 ƒ w Fe œ w Cu wy SPS (II) II. w SPS p ½ *Á½ Á½{ a Á½ š b w œw, a w» gœ, b y œ Production of Fe Amorphous Powders by Gas-Atomization

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C 0.0.2 ma Cr 14.5~16.5 Co 2.5 max Iron 4~7 Mn 1 max Mo 15 ~ 17 Ni Balance P 0.03 max Si 0.08 max S 0.03 max W 3 ~ 4.5 V 0.35 max 8.89g/cm 3 Multipurpose corrosion resistance of NickelMolybdenumChrome.

1. 교육목표 1) LED 산업의현장중심적실무능력함양 2) LED 산업신규인력의선실무지식습득 3) LED 제조공정실습을통한신기술개발 GaP & GaN LED 제조공정단기간교육 ( 이론 : 4 시간, 실습 12 시간 ) 제 1 강 Epitaxy (pn junction)

2012 Educational Program for LED Manufacturing Practice LED 제조공정실무 2012. 05. 31-06. 02 김선태 한밭대학교정보전자부품소재연구소 1. 교육목표 1) LED 산업의현장중심적실무능력함양 2) LED 산업신규인력의선실무지식습득 3) LED 제조공정실습을통한신기술개발 GaP & GaN LED 제조공정단기간교육

디스플레이산업 중국 LCD 의영향력확대는현재진행형 Industry Comment LCD 설비증설에있어서중국의독주를예상 년이후에도 8 세대 /10 세대신규라인가동및투자를통해생산능력지속확대전망. 또한글로벌세트업체내중국 LCD 패널의존도상승도

중국 LCD 의영향력확대는현재진행형 Industry Comment 2017. 12. 1 LCD 설비증설에있어서중국의독주를예상. 2018 년이후에도 8 세대 /10 세대신규라인가동및투자를통해생산능력지속확대전망. 또한글로벌세트업체내중국 LCD 패널의존도상승도중국 LCD 패널업체시장지위강화로이어질전망 중국의 8 세대이상 LCD 생산시설투자는지속될전망 중국패널업체들의

I. 회사의 개요 1. 회사의 개요 1. 연결대상 종속회사 개황(연결재무제표를 작성하는 주권상장법인이 사업보고서, 분기ㆍ 반기보고서를 제출하는 경우에 한함) 상호 설립일 주소 주요사업 직전사업연도말 자산총액 지배관계 근거 주요종속 회사 여부 (주)이수엑사보드 2004년

분 기 보 고 서 (제 40 기) 사업연도 2011년 01월 01일 2011년 09월 30일 부터 까지 금융위원회 한국거래소 귀중 2011년 11월 14일 회 사 명 : (주)이수페타시스 대 표 이 사 : 홍정봉 본 점 소 재 지 : 대구광역시 달성군 논공읍 본리리 29-54 (전 화) 053-610-0300 (홈페이지) http://www.petasys.com

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Back Metal 면이 Drain 인 Vertical channel MOSFET 의 Wafer Test 에서 Chuck 을사용하지않는 RDSON 측정방법 동부하이텍검사팀김여황 I RDSON II Conventional Method III New Method IV Verification (Rdson) V Normal Test Item VI Conclusion

Creation of Colloidal Periodic Structure

레이저의주요응용분야 레이저상호작용 - Material processing( 레이저가공및처리 ) - Laser induced fusion( 레이저핵융합 ) - Biomedical optics( 의광학 ) - Laser spectroscopy( 레이저분광학 ) - Military ( 군사 / 무기 ) - Environment ( 환경 / 오염 ) 레이저정보 -

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양성자가속기연구센터 양성자가속기 개발 및 운영현황 DOI: 10.3938/PhiT.25.001 권혁중 김한성 Development and Operational Status of the Proton Linear Accelerator at the KOMAC Hyeok-Jung KWON and Han-Sung KIM A 100-MeV proton linear accelerator

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Lecture 10 Microfabrication Pattern Transfer (III) Wet Etching - Isotropic Wet Chemical Etching - Selected Wet Etchants and Selectivity - Surface Micromachining Material Systems - Design of Surface Micromachining

Microsoft PowerPoint - 조달 제안서_20120731 [호환 모드]

www.uhitech.co.kr Total Visual Solution Company Uhwan I-Tech, Inc. Copyrightc 2011 Uhwan I-Tech, Inc. All rights reserved 주소 : 서울특별시 강남구 역삼동 733-19 Tel : 02) 555-8868 Fax : 02) 555-8878 담당: 추성욱차장 전화 :

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CLEBO PM-10S / PM-10HT Megapixel Speed Dome Camera 2/39 3/39 4/39 5/39 6/39 7/39 8/39 ON ON 1 2 3 4 5 6 7 8 9/39 ON ON 1 2 3 4 10/39 ON ON 1 2 3 4 11/39 12/39 13/39 14/39 15/39 Meg gapixel Speed Dome Camera

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한국플렉스 Company Profile 0. Contents 1. Company Overview 2. History of Growth 3. Organizational Structure 4. Products 5. Delivery 6. Technology Roadmap 7. Capacity 8. Production or Reliability Facility 9.

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교육문의 : 한국나노기술원 031-546-6413/6245 1. 나노박막기술 훈련기간 2일 (16시간)/5회 훈련장소 한국나노기술원 ( 수원 ) 훈련인원 15명정원 ( 선착순 ) Tel : 031-546-6245 / Fax : 031-546-6700 E-mail : hrd@kanc.re.kr 주소 : 16229 경기도수원시영통구광교로 109 ( 이의동, 한국나노기술원

입도 분석기 나노 입도 및 제타 전위 측정기 Particle Size Analyzer Nano Particle Size & Zetapotential Analyzer Microtrac S3500 Series Microtrac Nanotracwave Microtrac의 대

DREAM Analysis Catalogue Particle Size Analyzer Scanning Electron Microscope Dispersion Stability Analyzer Particle Charge Titration Analyzer Surface Area & Pore Size Analyzer Rheometer/Viscometer/Densimeter

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Development of High-efficiency Thermoelectric Devices Using Nanowires Jong Wook Roh and Woo Young Lee Department of Materials Science and Engineering, Yonsei University 1. 21.. (,,,, ). (thermoelectric

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연료전지 자동차 산업발전 시나리오 미래형 친환경 자동차 핵심부품기술 발전전략 세미나 ¾ 전기 자동차 시범 운행 단계에서 투자 규모 축소 ¾ 하이브리드 자동차 양산 진입, 시장 확대 단계 ¾ 연료전지 자동차 기술 검증 후, 시범 운행 단계로 진입 Insight (Honda) 양산 Civic (Honda) Prius (Toyota) 소량 생산 or 시범 운행 Proto

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ICP/MS 를이용한고분자유기화합물의 direct 분석법 2015 년 10 월 16 일 제이케이씨 Classification of contamination Metals Ions Organics Particles Contamination effects on device Generation of contamination Deterioration of device

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, PC, TV 100, LG 50%. (CRT) 2000 (LCD) (PDP) LCD PDP LCD 70%. LCD (TFT), 3. 2010 (OLED) LCD. 8, TFT. TFT 0.5 cm 2 /Vs,. 1990. (low temperature poly silicon, LTPS) 80 cm 2 /Vs IC. LPTS /, TFT. 2004 InGaZnO

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G r e e t i n g Small & Medium Business Corporation 중소기업진흥공단 연수사업에 지속적인 애정과 관심을 보여주시는 중소기업 임직원분들께 진심어린 감사의 말씀을 드립니다 중소기업진흥공단은 우리나라 기업체 수의 99.9%, 고용의 87.7%를 차지하며 국가산업의 기반을 이루고 있는 중소기업의 체질을 개선 하고 글로벌 경쟁력을

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World Top 10 by 2030 CONTENTS CONTENTS 02 03 PRESIDENT S MESSAGE 04 05 VISION GOALS VISION GOALS STRATEGIES 06 07 HISTORY 2007 2008 2009 2010 2011 08 09 UNIST POWER 10 11 MPI USTC UNIST UCI UTD U-M GT

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/ KEIT PD / KEIT PD / SUMMARY,, 13 300, 15 341, 17 367 5.2% 13 6,000 2%, 90%,,,,,,, ㆍ ㆍ,,, KEIT PD Issue Report PD ISSUE REPORT OCTOBER 2015 VOL 15-10 1. (AC DC, DC AC), (, ),, MOSFET, IGBT(Insulated Gate

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통권 제101호(2007년 10월호) 특허가족 건강길라잡이(비만 시리즈4) 특허가족 건강길라잡이 (비만 시리즈 4) 변리사 김 일 성 킴스국제특허법률사무소 2. 비만과 영양소 4. 무기질(Minerals) 무기질은 단백질, 당질, 지질들과 달리 에너지를 낼 수 없고, 비타민류와 달리 조리과정에서 파괴되지 않는다. 그러나 물에 용해되므로 조리 중의 용액을 버리

-시방서 목차- 1. 공 사 개 요 1 2. 총 칙 2 제 1 장. 가 설 공 사 8 제 2 장. 목 공 사 9 제 3 장. 수 장 공 사 10 제 4 장. 창 호 공 사 21 제 5 장. 유 리 공 사 27 제 6 장. 도 장 공 사 34 제 7 장. 철 거 공 사

대청호자연생태관 복합체험시설 활용 리모델링공사 시 방 서 ( 건 축 ) 2016. 05 -시방서 목차- 1. 공 사 개 요 1 2. 총 칙 2 제 1 장. 가 설 공 사 8 제 2 장. 목 공 사 9 제 3 장. 수 장 공 사 10 제 4 장. 창 호 공 사 21 제 5 장. 유 리 공 사 27 제 6 장. 도 장 공 사 34 제 7 장. 철 거 공 사 55

A C O N T E N T S A-132

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참여정부 정책보고서 2-07 차세대 성장동력산업 육성 - 미래산업 창출을 위한 블루오션 전략 - 2008 작성중인 초안자료 안보전략비서관: 박 선 원 행정관: 김 호 홍 외교부 북핵외교기획단 북핵정책과 : 손 창 호 발 간 사 참여정부가 혁신과 통합을 표방하며 출범한 지 5년, 이제 그 성과와 한계에 대한 스스로의 평가를 국민들 앞에 내놓을

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I. 회사의 개요 1. 회사의 개요 (1) 회사의 법적ㆍ상업적 명칭 당사의 명칭은 주식회사 이그잭스라고 표기합니다. 영문으로는 exax Inc.라 표기합니다. (2) 설립일자 당사는 1999년 장("KOSDAQ")에 상장하였습니다. 12월 22일에 설립되었으며, 200

반 기 보 고 서 (제 13 기) 사업연도 2011년 01월 01일 2011년 06월 30일 부터 까지 금융위원회 한국거래소 귀중 2011년 08월 16일 회 사 명 : (주)이그잭스 대 표 이 사 : 조근호 본 점 소 재 지 : 경상북도 구미시 공단동 310 (전 화) 054-461-7395 (홈페이지) http://www.exax.co.kr 작 성 책 임

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LSNzine Quarterly magazine 2013 AUTUMN Vol.09 2013 Autumn Dream Walker 꿈은 똑똑한 뇌가 아닌 성실한 두 발로 평생 키워가는 것입니다. 실행력이야말로 꿈을 현실로 만드는 실체라고 할 수 있지요. 어느새 꿈은 막연한 환상이 아닌 곧 마주할 미래의 나로 다가올 거예요. 드림워커 로 불릴 당신의 미래를 만날

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제품연구개발프로세스혁신을 위한 SMARTEAM 적용사례 주식회사동진쎄미켐 경영전략팀 김국태과장 발표순서 1. 회사현황 2. PDM 도입배경 3. 프로젝트일정 4. 전자재료제품개발정보특성 5. PDM 구축기능 5-1. 프로젝트관리 5-2. 업무산출물관리 5-3. ITEM/BOM 관리 5-4. Workflow/ 변경점관리 6. PDM 구축의미 1. 회사현황 Founder

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차 례 Ⅰ. 에너지관리 1. 홈에너지닥터를 이용해 연 1회 에너지진단을 받자 1 2. 에너지 가계부를 쓰자 1 3. 에너지효율 1등급 가전제품을 사용하자 6 4. 대기전력 마크가 부착된 가전제품을 사용하자 8 확인학습 9 Ⅱ. 신재생 에너지 5. 소형 풍력발전시스템을 설치하자 13 6. 태양열 시스템을 설치하자 16 7. 태양광 시스템을 설치하자 19 8.

ISSN 2288-5447 www.wiset.re.kr WISET DIRECTORY 04 WISET이 추천하는 일하기 좋은 알짜기업 국내 유일 핵융합 연구 기관 차세대 에너지원 개발 선도 스마트폰, 반도체 스마트한 세상, 우리 부품은 필수 키움증권부터 알바인까지 30년에 걸쳐 사업 다각화 미아, 이산가족, 전사자 DNA로 가족 찾아줘요 핵에너지 상용화 선도

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Sector update Korea / Handsets 21 March 2016 OVERWEIGHT Stocks under coverage Company Rating Price Target price, Analyst 3774 3831 jinho.cho@miraeasset.com See the last page of this report for important

I. 회사의 개요 1. 회사의 개요 가. 연결대상 종속회사 개황(연결재무제표를 작성하는 주권상장법인이 사업보고서, 분기 ㆍ반기보고서를 제출하는 경우에 한함) 자본시장과 금융투자업에 관한 법률 시행령 부칙 <제20947호> 제23조에따라 2012년 1월 1일 이후 최초로

반 기 보 고 서 (제 31 기) 사업연도 2012년 01월 01일 2012년 06월 30일 부터 까지 금융위원회 한국거래소 귀중 2012년 8월 14일 회 사 명 : 엠케이전자(주) 대 표 이 사 : 최 윤 성 본 점 소 재 지 : 경기도 용인시 처인구 포곡읍 금어리 316-2 (전 화)031-330-1900 (홈페이지) http://www.mke.co.kr