나노종합기술원장비별이용료기준표 이용료는장비이용료와재료비를합산한금액입니다. 장비이용료는공정조건에따라서차이가발생할수있습니다. (2018. 4. 1) 장비번연구장비장비이용료기준호장비명공정조건 ( or 모델명 ) 이용자직접진행 NNFC 담당자진행 Semi Auto E-Beam (ELS-7000) 1 E-beam System 450,000원 /60분 * 50,000원 /wf 2 KrF Scanner Auto E-Beam (JBX-9300FS) Nikon S-203B 600,000원 / 기본료 + 95,000원 /wf * Special 공정조건별도협의 ASML /700D 500,000원 / 기본료 + 80,000원 /wf (Exposure) * 개별공정진행시별도협의 (Coat/Expose/Develop 등 ) 3 I-Line Stepper Nikon i11d 350,000원 / 기본료 +50,000원 /wf * 선폭 0.5um 미만별도협의 Front-side without Align 150,000원 / 기본료 +30,000원 /wf 4 Contact Aligner Front-side with Align 150,000원 / 기본료 +50,000원 /wf Back-side with Align 150,000원 / 기본료 +70,000원 /wf 5 Track System PR Coating 100,000원 / 기본료 +15,000원 /wf Development 100,000원 / 기본료 +15,000원 /wf 리소 6 CD-SEM Hitachi 9260 240,000원 / 회 /60분 270,000원 / 회 /60분 7 Overlay Measurement ARCHER-10XT 30,000원 / 기본료 +50,000원 /wf 5"mask (3um이상 ~5um미만 ) 450,000원 / 장 5"mask (5um이상 ~) 300,000원 / 장 * 3um 미만별도협의 7"mask (3um이상 ~5um미만 ) 750,000원 / 장 * Wafer Direct Writing 별도협의 7"mask (5um이상 ~) 500,000원 / 장 * Align Key 삽입 : 50,000원 / 장 8 Mask Fabrication 9"mask (3um이상 ~5um미만 ) 1,000,000원 / 장 * Cad 비용 : 100,000원 / 장 9"mask (5um이상 ~) 650,000원 / 장 Mask Cleaner (Wet Bench) 30,000원 / 장 Mask Cleaner (Smart CubeⅡ) 50,000원 / 장 9 Particle Counter Archer 10XT 30,000원 / 기본료 +30,000원 /wf Oxide Etcher Non Pattern Etch 100,000원 / 기본료 +100,000원 /wf 10 Poly Etcher * Etch Depth 1um 초과별도협의 KrF/I-line/Aligner Pattern Etch 100,000원 / 기본료 +150,000원 /wf Metal Etcher * Special Material/Wafer, Plasma 내성평가별도협의 Polymer Etcher ArF/EB/Imprint Pattern Etch 100,000원 / 기본료 +200,000원 /wf 식각 Deep Si Etch : 50um 미만 200,000원 / 기본료 +100,000원 /wf * 100,000원 /100um 추가 11 Deep Si Etcher Deep Si Etch : 50~100um 이하 200,000원 / 기본료 +200,000원 /wf * 500um 초과, Normal Wafer 외별도협의 12 HF Vapor Etcher SPP SLE 100,000원 / 기본료 +150,000원 /wf * 진행시간 1시간초과별도협의 13 XeF2 Etcher SPP CVE 100,000원 / 기본료 +150,000원 /wf * XeF2 재료비 : 50,000원 /10분 * 진행시간 1시간초과별도협의 14 PR Stripper PR Strip 20,000원 / 기본료 +20,000원 /wf * 5분초과진행별도협의 15 Plasma Cleaner YES-G500 40,000원 /wf Non-Metallic 16 Oxidetion 및 Anneal Metallic * 두께 200nm, 1000, 5시간초과별도협의 Low Temp 불순물 P,As,B IMP : 15keV 초과 300,000원 / 조건 +100,000원 /wf * Dose량 5e15 초과별도협의 주입및 17 High Current Implant P,As,B IMP : 15keV 이하 400,000원 / 조건 +100,000원 /wf * Dose량 5e15 초과별도협의 열처리 P,As,B IMP : 5keV 이하 500,000원 / 조건 +100,000원 /wf * Dose량 5e15 초과별도협의 P,As,B IMP : 1.4MeV 초과 600,000원 / 조건 +100,000원 /wf * Dose량 5e15 초과별도협의 18 High Energy Implant P,As,B IMP : 1.4MeV 이하 500,000원 / 조건 +100,000원 /wf * Dose량 5e15 초과별도협의 P,As,B IMP : 300keV 이하 700,000원 / 조건 +100,000원 /wf * Dose량 5e15 초과별도협의 19 RTP Non-Metal / Metal 60,000원 /wf - 1 / 5 -
장비 박막세정및 CMP 번연구장비장비이용료기준호장비명공정조건 ( or 모델명 ) 이용자직접진행 NNFC 담당자진행 20 ALD Thermal-Al2O3/HfO2 100,000원 /wf * 두께 10nm 기준, 이상시 xn배 Amorphous Poly 560,000원 /lot Undoped Poly Si * 200nm~500nm : 20,000원 /100nm 추가 Doped Poly Si 630,000원 /lot * 500nm 이상 : 100,000원 /100nm 추가 21 LPCVD LP-Nitride * Amorphous Si : Poly Si 이용수가 + 100,000원 LP-TEOS Low Stress Nitride * 두께 200nm~500nm : 100,000원 /100nm 추가 * 두께 500nm 초과 xn배 Oxide, Ntride (NOVELLUS) 105,000원 /wf * 105,000원 /1.5um 추가 TEOS (AMAT-P5000) 105,000원 /wf * 105,000원 /1.5um 추가 22 PECVD BPSG (AMAT-P5000) 105,000원 /wf * 105,000원 /1.0um 추가, BSG/PSG/USG : 1um 이하 a-si (AMAT-P5000) 105,000원 /wf * 105,000원 /500nm 추가 MEMS PECVD 105,000원 /wf * 70,000원 /500nm 추가 * 350 미만, 1um 이상별도협의 23 CVD-W P-5000 110,000원 /wf NOVELLUS SPEED 24 HDP 105,000원 /wf * 105,000원 /1um 추가 JUSUNG TRUFIL-II Cobalt 100,000/ 기본료 +53,000원 /wf * 40,000원 /50nm MOCVD TiN 100,000/ 기본료 +53,000원 /wf * 10,000원 /10nm 25 Sputter(Endura-5500) IMP Ti 100,000/ 기본료 +53,000원 /wf * 2,000원 /100nm PVD Ti/TiN 100,000/ 기본료 +53,000원 /wf * 2,000원 /100nm AL 100,000/ 기본료 +53,000원 /wf * 2,000원 /100nm Ta 100,000/ 기본료 +53,000원 /wf * 10,000원 /10nm TaN 100,000/ 기본료 +53,000원 /wf * 10,000원 /10nm 26 Cu Sputter(Endura-5500) AL 100,000/ 기본료 +53,000원 /wf * 2,000원 /100nm Cu 100,000/ 기본료 +53,000원 /wf * 10,000원 /50nm PVD Ti/TiN 100,000/ 기본료 +53,000원 /wf * 2,000원 /100nm * 55,000원 /100nm 27 Multi Target Sputter SS0818 * Al, Ni, Cu, Ti, Cr : 10,000원 /100nm 100,000원 / 기본료 +30,000원 /layer * 상온기준 * Mo, W, Ta, ITO : 20,000원 /100nm * DC Sputter : 2um 이하기준 * 100,000원 /100 추가 * 기타재료비별도 * RF Sputter : 100nm 이하기준 * RF Sputter : 10,000원 /10nm 28 Evaporator E-Beam 200,000원 /layer * Al, Cu, Ti, Ni, Cr, Sn, Ag : 20,000원 /100nm * Au, Pt: 실비정산 * 4"/6"/8"/12" wf : 각각 16/8/4/4장기준 * 공정시간 2시간기준 29 Evaporator E-Beam 200,000원 /layer * Al, Cu, Ti, Ni, Cr, Sn, Ag : * 6"/8" wf : 각각 8/4장기준 20,000원 /100nm * 공정시간 2시간기준 * TO, TiO2, ZnO, SiO2, Al2O3 : 40,000원 /100nm * BOE : 254,000원 HWB-MCP8 * DHF : 4,000원 60,000원 /run/chemical * SPM : 63,000원 30 Wet Clean * KOH Wet Etch * APM : 8,000원 - Dip : 60,000원 /30분 * H3PO4 : 272,000원 GMW-05 - Punching Hole : 1,100,000원 /run * KOH : 200,000원 * Solvent : 301,000원 * 기타 Chemical : 별도협의 CMP 146,000원 /wf * 1um 이하연마량기준 31 CMP CMP(Cu) 146,000원 /wf * Cu, Barrier Metal : 25,000원 * 1um 초과 : 146,000원 /um 추가 CMP(STI/ILD/IMD/Cu) 50,000원 /wf 100,000원 /wf * R&D용장비 - 2 / 5 -
장비번연구장비장비이용료기준호장비명공정조건 ( or 모델명 ) 이용자직접진행 NNFC 담당자진행 32 Nano Second Laser Wafer Marking 100,000원 / 기본료 +20,000원 /wf * Marking은 Si Wafer만가능, Wafer Cutting 별도협의 33 Critaical Point Dryer Automegamdri-916B 70,000원 /60분 100,000원 / 기본료 +100,000원 /wf * 소자릴리즈비용미포함 Non-Pattern (Si Wafer) 100,000원 / 기본료 +20,000원 /wf 34 Dicing Sawing Non-Pattern (Glass, Qtz Wafer) 100,000원 / 기본료 +30,000원 /wf * 5,000원 /wf Pattern Wafer 100,000원 / 기본료 +40,000원 /wf Chip (5개/Loading 기준 ) 100,000원 / 기본료 +40,000원 /wf Dip-plater Non-Pattern (Si, Glass, Qtz Wafer) 35 Electroplating 패키징 36 37 Fusion Bonder/Hot Embossing Wafer Bonder (GEMINI) Pattern Wafer Chip (5개/Loading 기준 ) Cup-plater Thermal Bonding (Si, Glass) 100,000원 / 기본료 +60,000원 /wf 80,000원 /60분 * Cu, Ni, NiCo : 5,000원 /um Thermo-Compressive Bonding 240,000원 /wf Anodic Bonding 300,000원 /wf Wafer to Wafer Align Fusion Bonding Thermo-Compressive Bonding High vacuum Eutectic bonding 300,000원 / 기본료 +300,000원 /wf * Chip 정의 - 시편 Size 5x5mm 이하이며, 세부 Sawing 하는것 - Loading 횟수기준 * TSV 및두께 20μm초과별도협의 * 3시간기준 * 소재 CTE 정보별도협의 * Flat/Notch Align : Wafer Align 기본료적용 * Fusion/Thermo-Compressive Bonding : 3시간기준 300μm이상 100,000원 / 기본료 +50,000원 /wf * Bare silicon 기준 38 Back Grinder & Polisher(DGP8760) 300μm미만 200,000원 / 기본료 +100,000원 /wf * 1장기준, 매뉴얼공정 박막있을경우 (Ox, Nitride 등 ) 200,000원 / 기본료 +100,000원 /wf * 재료비 30,000원 /wf * 8장마다기본료추가 (8장기준 ) 39 Edge Grinder WBM210 80,000원 / 기본료 +30,000원 /wf 40 Tape Laminator DT-ECS-2030-SL 50,000원 / 기본료 * 30,000원 /wf 41 Tape Remover DT-TRT-304-SR 50,000원 / 기본료 * 30,000원 /wf 42 FE-SEM Sirion & Sirion-EDS (FEI), 50,000원 /60분 70,000원 /60분 * SE & BSE Imaging S-4800 (Hitachi) 80,000원 /60분 100,000원 /60분 * EDS Analysis 43 UHR FE-SEM SU8230 (Hitachi) 80,000원 /60분 * SE & BSE Imaging 100,000원 /60분 * EDS/EBSD Analysis 44 FE-TEM JEM-2100F HR (200keV) 100,000원 /60분 130,000원 /60분 * Imaging(BF, DF, HRTEM) & EDS Analysis Tecnai F30 S-Twin (300keV) 120,000원 /60분 150,000원 /60분 * Imaging(BF, DF, HRTEM) & EDS Analysis 45 FE-STEM (200keV) HD-2300A 90,000원 /60분 120,000원 /60분 * Imaging(BF, DF, HRSTEM, SEM) & EDS Analysis 46 In-situ TEM (300keV) JEM-3011 HR 70,000원 /60분 100,000원 /60분 * Imaging with Heating, Cooling, Gas Injection 47 TEM Sample Preparation PECS 20,000원 /60분 200,000원 / 시료 * Silicon Based Sampling 50,000원 /60분 320,000원 / 시료 * Non Silicon Based Sampling 특성분석 48 Cs-corrected STEM (200keV) ARM200 170,000원 /60분 200,000원 /60분 * TEM Analysis 220,000원 /60분 250,000원 /60분 * STEM, EDS, EELS Analysis 120,000원 /60분 150,000원 /60분 * Milling, Deposition, Imaging 49 Single-beam FIB FB-2100 270,000원 / 시료 300,000원 / 시료 * TEM Specimen Preparation (Si-base) 370,000원 / 시료 400,000원 / 시료 * TEM Specimen Preparation (Si-base 외 ) 500,000원 / 시료 * TEM Specimen Preparation (Plane View_Back Side) 100,000원 /30분 * Milling, Deposition, Imaging 170,000원 /60분 200,000원 /60분 * Milling, Deposition, Imaging 50 Dual-beam FIB Helios 600, 270,000원 / 시료 300,000원 / 시료 * TEM Specimen Preparation (Si-base) Nova 200 370,000원 / 시료 400,000원 / 시료 * TEM Specimen Preparation (Si-base 외 ) 500,000원 / 시료 * TEM Specimen Preparation (Plane View_Back Side) 1,000,000원 / 시료 * 500,000원 * APT Specimen Preparation (3~5ea 기준 ) - 3 / 5 -
장비특성분석 번연구장비장비이용료기준호장비명공정조건 ( or 모델명 ) 이용자직접진행 NNFC 담당자진행 15,000원 /30분 30,000원 /30분 * Topography Imaging(AFM) ( 캔틸레버미포함 ) 20,000원 /30분 35,000원 /30분 * SCM, EFM, MFM, I-AFM ( 캔틸레버미포함 ) 51 SPM XE-100/NX-10 (PSIA), Nanoman (Veeco) 30,000원 /60분 60,000원 /60분 * Topography Imaging(AFM) ( 캔틸레버미포함 ) 40,000원 /60분 70,000원 /60분 * SCM, EFM, MFM, I-AFM ( 캔틸레버미포함 ) 120,000원 / 시료 200,000원 / 시료 * SCM/SEM Sample Preparation 52 Magnetic Sector SIMS Cameca IMS 7f 200,000원 / 시료 /60분 * 부도체, Pattern, Low Energy 등 : 20,000원추가 53 Raman Spectrometer FEX 20,000원 /30분 35,000원 /30분 * Raman Spectroscopy & Raman Mapping 40,000원 /60분 70,000원 /60분 100,000원 / 시료 * Surface Analysis ( 원소추가시별도협의 ) 54 XPS K-Alpha+ 200,000원 / 시료 * Depth Profile ( 원소추가시별도협의 ) 150,000원 / 시료 * ARXPS ( 원소추가시별도협의 ) 55 XRD SmartLab (Rigaku) 30,000원 /30분 40,000원 /30분 56 X-ray Microscope X-TEK 50,000원 /30분 65,000원 /30분 57 Nano Indenter inano 50,000원 /60분 80,000원 /60분 * Hardness & Modulus 20,000원 /30분 35,000원 /30분 * MIR Spectroscopy 58 FT-IR Microscope IFS66v/S & Hyperion HP3000 30,000원 /30분 40,000원 /30분 * Hyperion ATR 40,000원 /60분 70,000원 /60분 * MIR Spectroscopy 250,000원 / 시료 * Top Metal Layer 추출용 SAMCO RIE-10NR 59 RIE 500,000원 / 시료 * Under Metal Layer추출용 RIE 10NR 130,000원 /60분 * 시편제작용 50,000원 / 시료 * Full Decap. 70,000원 / 시료 * Hole Decap. 100,000원 / 시료 * Special Decap. 60 Wet Station HKWS-001 100,000원 / 시료 * Top Metal Layer 제작 150,000원 / 시료 * Under Metal Layer 제작 200,000원 / 시료 * Poly Layer 제작 200,000원 / 시료 * Cross Section_Silicon 300,000원 / 시료 * Cross Section_Ceramic 61 Auto Stage Microscope Olympus MX51 + Dotslide 50,000원 / 시료 * Image 촬영 100,000원 /30분 * Layer 촬영 62 Manual Probe Station KIETHLY 4200SCS 70,000원 /60분 100,000원 /60분 63 Semi-auto Probe Station Agilent 4156C 70,000원 /60분 100,000원 /60분 64 Auto Probe Station Agilent 4070 500,000원 / 기본료 +30,000원 /60분 65 Vacuum Probe Station MEMS Sensor 특성평가 100,000원 /60분 * IR 분석시 100,000원 /60분추가 66 4_Point Probe CMT-SR2000 30,000원 / 기본료 +5,000원 /wf 60,000원 / 기본료 +5,000원 /wf * Rs Measurement (10장기준 ) 67 Surface Profiler DEKTAK8 40,000원 /wf 100,000원 /wf * Profile Measurement (10장기준 ) 68 Optical Profiler u-surf 40,000원 /wf 100,000원 /wf * Profile Measurement (10장기준 ) 30,000원 / 기본료 +10,000원 /wf 60,000원 / 기본료 +10,000원 /wf * Piece (1-point, 10장기준 ) 69 Spectroscopic Ellipsometer M2000D 50,000원 / 기본료 +10,000원 /wf 80,000원 / 기본료 +10,000원 /wf * Wafer (9-point, 10장기준 ) 150,000원 /wf * In-situ Cell 70 Spectroscopic Reflectormeter ST5000_AUTO200 30,000원 / 기본료 +5,000원 /wf 60,000원 / 기본료 +5,000원 /wf * 10장기준 71 Stress Measurement FMS 500TC 30,000원 / 기본료 + 5,000원 /wf 60,000원 / 기본료 + 5,000원 /wf * Normal Scan (10장기준 ) 180,000원 /wf * Thermal Scan (10장기준 ) 72 Auto Thickness Measurement 70,000원 / 기본료 +15,000원 /wf 100,000원 / 기본료 +15,000원 /wf * 평판 (9-point, 10장기준 ) SFX-100 System 100,000원 / 기본료 +20,000원 /wf 130,000원 / 기본료 +20,000원 /wf * 패턴 (9-point, 10장기준 ) - 4 / 5 -
장비 바이오 신소재 설계 번연구장비장비이용료기준호장비명공정조건 ( or 모델명 ) 이용자직접진행 NNFC 담당자진행 73 Parylene Coating PDS2010 250,000원 / 회 * 5,000원 /100nm * 2um 이상별도협의 74 BiO Bake Oven Bake Oven 30,000원 /60분 75 BiO Spin Coater Spin Coater 100,000원 / 기본료 +15,000원 /wf 76 Tilt Mask Aligner Normal Patterning 150,000원 / 기본료 +30,000원 /wf Tilt Patterning 200,000원 / 기본료 +50,000원 /wf 77 BiO Wet Station Wet Station 60,000원 /60분 78 Plastic Micro Injection Mold A270C 400-100 60,000원 /60분 79 Plastic Device System(CNC) Tinyrobo T60 100,000원 / 기본료 +30,000원 /60분 80 Plotting Cutting Graphtec FC4500 100,000원 / 기본료 +30,000원 /60분 81 Sonic Bonding Branson 2000X-aef 100,000원 / 기본료 +30,000원 /60분 82 Surface Plasmon Resornance BIOCORE 3000 50,000원 /60분 83 Confocal Microscope LSM510 META NLO 30,000원 /60분 84 Contact Angle Analyzer Phoenix 300 Plus 10,000원 /30분 85 LB Trough 1232D1_Shuttle 15,000원 /60분 40,000원 /60분 86 Micromeritics BET ASAP 2020M+C 50,000원 /60분 100,000원 /wf * 비표면적측정 150,000원 /wf * 비표면적 +Pore Size 측정 87 Nano Cluster & Generator NanoSys500 130,000원 /60분 88 Glove Box MB 150-G-II 30,000원 /60분 40,000원 /60분 89 Particle Size Analyzer Zetasizer Nano ZS 25,000원 /60분 50,000원 /60분 * Size: 2,000원 / 시료, Zeta: 32,000원 / 시료 * Glass cell 별도협의 90 Vacuum Oven OV-11 40,000원 /60분 91 Single Photon Detector EOS 210 CS 50,000원 /60분 92 Small Media Mill DMQ-05 30,000원 /60분 40,000원 /60분 93 High P/High T Multiple Reactor Mo.5000 35,000원 /60분 65,000원 /60분 94 Centrifuge Supra 22K 20,000원 / 시료 40,000원 / 시료 * Tube : 25,000원 / 개 * 특수목적대용량 (1L) 95 신소재 Wet Station Cleaning (Acid, base, organic) 20,000원 /60분 40,000원 /60분 Electroplating(Au, Cu, Ni etc.) 100,000원 / 기본료 +60,000원 /wf 100,000원 / 기본료 +120,000원 /wf 96 Wearable Materials Process & Fabrication of wearable film 100,000원 / 기본료 +50,000원 /60분 Assessment Beding & Streching 100,000원 / 기본료 +50,000원 /60분 * Wearable Test 97 2D Materials Process ICP-CVD 500,000원 / 회 700,000원 / 회 * N2, H2, Ar, C2H2 gas, 그래핀성장및어닐링 Induction furnace 300,000원 / 회 400,000원 / 회 * CH4, Ar, H2 gas, 그래핀성장및어닐링 98 Linux server Layout, Simulation 100,000원 /60분 99 Cadence Virtuoso 50,000원 /60분 100 Coventorware SEmulatior3D (MEMS 설계툴 ) 10,000원 /60분 30,000원 /60분 * Layout, Modeling, 해석 : 100,000원 /60분 - 5 / 5 -