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170502_JDCS_18권-2호_제출


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Transcription:

OLED 주요기술특허동향분석 2008 년 9 월 26 일 특허청디스플레이심사팀

목차 목차 1 3 제 1 장분석대상 2 제 2 장분석개요 3 제 3 장특허동향분석 4 제 4 장결론 -2-

분석대상 분석대상기술개요 유연기판기술 유연기판재료기술 하드코팅기술 ( 보호막 ) 차단막기술 ( 배리어 ) 유기박막 / 화소형성기술 대면적증착기술 (FMM) : 증착기, 마스크 Laser 방식 : 전사, 승화 Printing 기술 : solution 재료 소자구조기술 고전력 / 저전압기술 : 내부효율개선 ( 소자구조개선 ), 발광재료개선, 외부효율개선 대면적컬러구현기술 : RGB(W) 방식, 색변환방식, 백색 + 컬라필터방식 -3-

분석대상 기술체계도 구분대분류중분류소분류세부분류 (or 코멘트 ) 제 1 기술 유연기판기술 유연기판 차단막코팅 하드코팅 유연기판 차단막코팅 하드코팅 내부효율개선 ( 소자구조개선 ) 고효율 / 저전압구동소자 발광재료개선 제 2 기술 소자구조기술 외부효율개선 RGB(W) 방식 대면적컬러구현기술 색변환방식 백색 + 칼라필터방식 제 3 기술 유기박막 ( 화소 ) 형성기술 대면적증착기술 (FMM) Laser 방식 증착기마스크전사승화 선형 ( 점, 수직 ) 증착원 / 하향기상증착 얼라이너 / 마스크 ( 에칭 / 레이저 )/ 클램핑 LITI 등 RIST, LISP 등 Printing i 기술 Solution 재료 inkjet/nozzle/gravure/offset 적용재료기술 -4-

분석개요 특허분석개요 ( 분석대상및구간 ) 자료구분대상국가전체분석구간분석대상특허수 한국 1,101101 공개특허 ( 출원일기준 ) 일본 1,495 1989.01.01~2008. 7. 31 유럽 328 ( 특허출원일기준 ) 등록특허 ( 등록일기준 ) 미국 1,033 공개특허 ( 출원일기준 ) 합계 3,957 본 OLED 기술은 AMOLED 기술분야로한정 -5-

분석결과 ( 전체기술 ) 유효데이터 대분류중분류소분류 유효특허수 KR US JP EP 소계 유연기판재료유연기판재료 44 54 79 18 195 유연기판기술 가스배리어기술가스배리어기술 64 139 286 29 518 보호막기술보호막기술 25 12 60 2 99 내부효율개선 ( 소자구조개선 ) 132 209 186 95 622 고효율 / 저전압구동소자 발광재료개선 160 139 246 54 599 소자구조기술 외부효율개선 86 84 180 22 372 RGB(W) 방식 12 8 29 6 55 대면적컬러구현기술 색변환방식 20 12 27 6 65 유기박막 ( 화소 ) 형성기술 대면적증착기술 (FMM) Laser 방식 백색 + 칼라필터방식 51 74 126 8 259 증착기 227 46 53 19 345 마스크 77 16 80 3 176 전사 159 94 85 21 359 승화 24 30 33 14 101 Printing 기술 Solution 재료 47 135 77 35 294 합계 1,128 1,052 1,547 332 4,059-6-

전체연도별동향 (3 개기술통합 ) Eastman Kodak의 OLED 원천특허발표이후지속적으로출원증가 2000 년이후출원규모급격히증가 분석결과 ( 전체기술 ) 800 700 출원미공개특허존재 4000 3500 600 3000 500 2500 400 2000 300 누적 1500 200 1000 100 500 0 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 00 01 02 03 04 05 06 07 08 0-7-

국가 / 구간별기술의출원동향 (3 개기술통합 ) 분석결과 ( 전체기술 ) 본기술은최근급성장경향을보임 ( 최근 8년의출원비율이전체의 90% 이상차지 ) 점유율 : 일본 (38%), 한국 (28%), 미국 (26%) 한국은타국가대비출원증가비율이매우급증하는경향을보임 유럽, 328, 8% 한국, 1101, 28% 일본, 1495, 38% 미국, 1033, 26% 7 36 142 143 유럽 30 175 615 675 일본 12 83 399 539 미국 2 26 249 824 한국 89~93 94~98 99~03 04~08-8-

기술별 / 국가별특허동향 (3 개기술통합 ) 분석결과 ( 전체기술 ) 한국은유기박막형성기술과소자기술에서많은출원활동을보이고있음 일본은소자기술분야에서가장많은출원활동을보이고있음 미국은소자기술과유기박막형성기술에서출원활동을보이고있음 534 321 328 92 유기박막기술 461 526 794 191 소자기술 106 186 373 45 유연기판 한국미국일본유럽 -9-

다출원인현황 (3 개기술통합 ) 분석결과 ( 전체기술 ) 한국국적출원인의높은출원활동이돋보임 (Samsung SDI:1위, LG Display:5위 ) 기타국적주요출원인 : Eastman Kodak, Fuji Photo, Seiko Epson, DNP, Sony, Idemitsu Kosan, Princeton Univ., Canon, Sanyo, TDK etc. Samsung SDI(KR) TDK(JP) Eastman Kodak(US) Fuji Photo Film(JP) Seiko Epson(JP) LG Display(KR) DNP(JP) Sony(JP) Idemitsu Kosan(JP) Princeton Univ(US) Konica Minolta holdings(jp) Sumitomo Chem(JP) 3M(US) Fuji Electric(JP) Toppan Printing(JP) SEL(JP) Merck(DE) Canon(JP) Teijin(JP) Sanyo(JP) UDC(US) 0 100 200 300 400 500 600 0 50 100 150 200 유럽일본미국한국 -10-

연도별특허동향 ( 유연기판기술 ) Eastman Kodak의 OLED 원천특허발표이후지속적으로출원증가 2000 년이후유연기판기술분야출원건수급격히증가 분석결과 ( 제 1 기술 ) 120 100 80 출원미공개특허존재 800 700 600 500 60 400 40 20 누적 300 200 100 0 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 00 01 02 03 04 05 06 07 08 0-11-

기술의연도별특허동향 ( 유연기판기술 ) 분석결과 ( 제 1 기술 ) 가스배리어기술 ( 산소및수분차단막 ) 의비율이전체의 60% 이상차지 ( 재료 / 구조 / 공정 ) 가스배리어기술은유연디스플레이기술이부각되던 2000 년초반부터급증 90 80 70 보호막기술, 99, 12% 유연기판재료, 195, 24% 60 50 40 30 가스배리어기술, 518, 64% 20 10 0 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 00 01 02 03 04 05 06 07 08 유연기판재료가스배리어기술보호막기술 -12-

국가 / 구간별기술의출원동향 ( 유연기판기술 ) 분석결과 ( 제 1 기술 ) 최근급성장경향을보임 ( 최근 8년의출원비율이전체의 85% 이상차지 ) 점유율 : 일본 (53%), 미국 (26%) 한국은전체점유비율은낮지만최근 (4년) 증가비율이매우급증하는경향을보임 유럽, 45, 6% 한국, 106, 15% 미국, 186, 26% 일본, 373, 3, 53% 1 9 13 22 유럽 6 50 156 161 일본 4 14 76 92 미국 1 5 25 75 한국 89~93 94~98 99~03 04~08-13-

기술별 / 국가별특허동향 ( 유연기판기술 ) 분석결과 ( 제 1 기술 ) 일본의가스배리어기술의비율이전체의 55% 차지 ( 일본출원인의영향 ) 25 12 60 2 보호막기술 64 139 286 29 가스배리어기술 44 54 79 18 유연기판재료 한국미국일본유럽 -14-

다출원인현황 ( 유연기판기술 ) 분석결과 ( 제 1 기술 ) 유연기판기술전반적으로일본출원인이강세 : Fuji Photo, DNP, Teijin, etc. Fuji Photo Film(JP) DNP(JP) Teijin(JP) Toppan Printing(JP) GE(US) Sumitomo Bakelite(JP) Konica Minolta holdings(jp) Mitsubishi Gas Chem(JP) Seiko Epson(JP) 3M(US) Toyo Ink Mfg(JP) 0 10 20 30 40 50 60 70 유럽일본미국한국 -15-

분석결과 ( 제 1 기술 ) 기술별다출원인현황 ( 유연기판기술 : 유연기판재료 / 보호막기술 ) 유연기판재료기술의다출원인은 LG chem., GE, 3M을제외하면모두일본출원인임 보호막기술의다출원인도 3M, Merck OLED 등을제외하면모두일본출원임임 유연기판재료 보호막기술 Teijin(JP) Toppan Printing(JP) DNP(JP) DNP(JP) LG Chem(KR) Kimoto(JP) GE(US) Toyo Ink Mfg(JP) Teijin DuPont Films(JP) Fuji Photo Film(JP) Toppan Printing(JP) Sumitomo Bakelite(JP) Mitsubishi Gas Chem(JP) Teijin(JP) Nitto Denko(JP) Sumitomo Osaka Cement(JP) 3M(US) Merck OLED(DE) 3M(US) Cardinal IG(US) 0 5 10 15 20 25 0 5 10 15-16-

분석결과 ( 제 1 기술 ) 기술별다출원인현황 ( 유연기판기술 : 가스배리어기술 ) 가스배리어기술에서는일본출원인이강세 : Fuji photo, DNP, Konica, Sumitomo, etc. 기타국가주요출원인 : GE, LG Chem., UDC, AMAT, Vitex, 3M 가스배리어기술 Fuji Photo Film(JP) DNP(JP) Konica Minolta holdings(jp) Sumitomo Bakelite(JP) Mitsubishi Gas Chem(JP) Seiko Epson(JP) GE(US) Toppan Printing(JP) Teijin(JP) UDC(US) Pioneer (JP) Mitsubishi Plastics(JP) Sony(JP) Matsushita(JP) JSR(JP) Toyobo(JP) Applied Materials(US) Vitex Syst(US) Toyo Ink Mfg(JP) 3M(US) LG Chem(KR) Denso(JP) 0 10 20 30 40 50 60 70 0 5 10 15 20-17-

분석결과 ( 제 2 기술 ) 연도별특허동향 ( 소자기술 ) Eastman Kodak의 OLED 원천특허발표이후지속적으로출원증가 2000 년이후소자기술분야출원건수급격히증가 (2004 년최대출원 ) 450 2000 400 350 300 250 200 출원미공개특허존재 1800 1600 1400 1200 1000 800 150 100 누적 600 400 50 200 0 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 00 01 02 03 04 05 06 07 08 0-18-

기술의연도별특허동향 ( 소자기술 ) 분석결과 ( 제 2 기술 ) 소자기술은고전력 ( 효율 ) 및저전압구동소자기술의비율이 70% 차지 내부효율개선, 발광재료개선, 외부효율개선및백색+ 컬러필터기술출원이꾸준히증가함 150 120 대면적컬러구현기술 백색 + 컬러필터방식, 259, 13% 색변환방식, RGB(W) 방식, 65, 3% 55, 3% 내부효율개선, 622, 32% 90 외부효율개선, 372, 19% 고전력 / 저전압구동소자 60 발광재료개선, 599, 30% 30 0 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 00 01 02 03 04 05 06 07 08 내부효율개선 발광재료개선 외부효율개선 백색 + 컬러필터방식 색변환방식 RGB(W) 방식 -19-

국가 / 구간별기술의출원동향 ( 소자기술 ) 분석결과 ( 제 2 기술 ) 최근급성장경향을보임 ( 최근 8년의출원비율이전체의 90% 이상차지 ) 점유율 : 일본 (40%), 미국 (27%), 한국 (23%) 한국은전체점유비율이약간낮지만최근 (4년) 증가비율이매우급증하는경향을보임 유럽, 191, 10% 한국, 461, 23% 6 16 82 87 유럽 일본, 794, 40% 미국, 526, 27% 12 71 306 405 일본 6 44 168 308 미국 12 107 342 한국 89~93 94~98 99~03 04~08-20-

기술별 / 국가별특허동향 ( 소자기술 ) 분석결과 ( 제 2 기술 ) 일본은세부소자기술전반적으로출원규모가타국가에비해높은수준 각국가별로내부효율개선, 발광재료개선및외부효율개선등에서높은출원활동보임 12 8 29 6 RGB(W) 방식 20 12 27 6 색변환방식 51 74 126 8 백색 + 컬러필터방식 86 84 180 22 외부효율개선 160 139 246 54 발광재료개선 132 209 186 95 내부효율개선 한국미국일본유럽 -21-

다출원인현황 ( 소자기술 ) 분석결과 ( 제 2 기술 ) 소자기술전반적으로한국출원인의활동이돋보임 (1위: Samsung SDI, 3위 : LG Display) 기타국적출원인 : Eastman Kodak, Seiko Epson, Idemitsu Kosan, Princeton Univ., etc Samsung SDI(KR) Eastman Kodak(US) LG Display(KR) Seiko Epson(JP) Idemitsu Kosan(JP) Princeton Univ(US) Sanyo Electric(JP) TDK(JP) Fuji Electric(JP) Sony(JP) Fuji Photo Film(JP) SEL(JP) Konica Minolta holdings(jp) Canon(JP) DNP(JP) UDC(US) AU Optronics(TW) 0 50 100 150 200 250 유럽일본미국한국 LG 전자와 LG Philips 특허는 LG Display 로통합 -22-

기술별다출원인현황 ( 소자기술 ) 분석결과 ( 제 2 기술 ) 고전력 / 저전압구동소자기술 : 1~3위 (Samsung SDI, Eastman Kodak, LG Display) 대면적컬러구현기술 : 1~3 위 (Fuji Electric, Samsung SDI, Sanyo) Samsung SDI(KR) Eastman Kodak(US) LG Display(KR) Princeton Univ(US) Seiko Epson(JP) Idemitsu Kosan(JP) TDK(JP) Fuji Photo Film(JP) SEL(JP) Konica Minolta holdings(jp) Sony(JP) Canon(JP) Sanyo(JP) UDC(US) 고전력 / 저전압구동소자 Fuji Electric(JP) Samsung SDI(KR) Sanyo(JP) DNP(JP) Seiko Epson(JP) Eastman Kodak(US) Idemitsu Kosan(JP) LG Display(KR) TDK(JP) Sony(JP) Samsung Electronics(KR) Univision Tech(TW) Hitachi Displays(JP) Toppan Printing(JP) 대면적컬러구현기술 0 50 100 150 200 0 5 10 15 20 25 30 35 40 45-23-

분석결과 ( 제 2 기술 ) 기술별다출원인현황 ( 소자기술 : 고전력 / 저전압구동소자 ) 내부효율 ( 소자구조 ) 개선 : 다출원 1~3위 (Eastman Kodak, Samsung SDI, TDK) 발광재료개선 : 다출원 1~3 위 (Samsung SDI, Idemitsu Kosan, Fuji photo) 외부효율개선 : 다출원 1~3위 (Seiko Epson, Eastman Kodak, Samsung SDI) 내부효율개선 발광재료개선 외부효율개선 Eastman Kodak(US) Samsung SDI(KR) TDK(JP) LG Display(KR) Samsung SDI(KR) Idemitsu Kosan(JP) Fuji Photo Film(JP) Konica Minolta holdings(jp) Seiko Epson(JP) Eastman Kodak(US) Samsung SDI(KR) Sony(JP) Princeton Univ(US) SEL(JP) Princeton Univ(US) LG Display(KR) Hitachi(JP) Sanyo(JP) Seiko Epson(JP) JSR(JP) NEC(JP) Idemitsu Kosan(JP) Showa Denko(JP) Matsushita Electric(JP) Sony(JP) Canon(JP) Fuji Electric(JP) Fuji Photo Film(JP) Sanyo(JP) UDC(US) The Univ of Southern California(US) LG Display(KR) Samsung Electronics(KR) 0 20 40 60 80 100 0 20 40 60 80 100 0 20 40 60-24-

분석결과 ( 제 2 기술 ) 기술별다출원인현황 ( 소자기술 : 대면적컬러구현기술 ) RGB(W) 방식 : 다출원 1~3위 (Samsung SDI, Eastman Kodak, Sanyo) 색변환방식 : 다출원 1~3 위 (Idemitsu Kosan, DNP, Samsung SDI) 백색 + 컬러필터 : 다출원 1~3위 (Fuji Electric, Sanyo, Samsung SDI) RGB(W) 방식 색변환방식 백색 + 컬러필터방식 Samsung SDI(KR) Idemitsu Kosan(JP) Fuji Electric(JP) Seiko Epson(JP) DNP(JP) Sanyo(JP) Sanyo(JP) Samsung SDI(KR) Samsung SDI(KR) Samsung Electronics(KR) LG Display(KR) Eastman Kodak(US) LG Display(KR) Univision Tech(TW) Sony(JP) Fuji Electric(JP) Sony(JP) DNP(JP) TDK(JP) Seiko Epson(JP) Eastman Kodak(US) Sanyo(JP) Toppan Printing(JP) Futaba(JP) TDK(JP) LG Display(KR) Philips(NL) Hitachi Displays(JP) emagin(us) Seiko Epson(JP) Samsung Electronics(KR) Sony(JP) 0 2 4 6 8 10 0 2 4 6 8 10 12 14 0 10 20 30 40-25-

연도별특허동향 ( 유기박막 / 화소형성기술 ) 특허의출원동향이 2000 년을전후로급격히증가함 분석결과 ( 제 3 기술 ) 250 1400 출원미공개특허존재 1200 200 150 누적합계 1000 800 100 600 50 400 200 0 89 91 93 95 97 99 01 03 05 07 0-26-

분석결과 ( 제 3 기술 ) 기술의연도별특허동향 ( 유기박막 / 화소형성기술 ) 전사기술과증착기기술의비중이제일높으며, 2004년부터급격히증가하고있음 Printing solution( 재료 ) 기술은 2002 년을정점으로출원비율이감소하고있음 120 Printing solution 공정승화, 101, 레이저 (inkjet, 8% 100 offset, gravure), 294, 23% 전사, 359, 80 28% 60 40 증착기, 345, 27% 증착기술 마스크, 176, 14% 20 0 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 00 01 02 03 04 05 06 07 08 레이저승화레이저전사증착기술마스크증착기술증착기 Printing solution 공정 (inkjet, offset, gravure) -27-

분석결과 ( 제 3 기술 ) 국가 / 구간별기술의출원동향 ( 유기박막 / 화소형성기술 ) 최근급성장경향을보임 ( 최근 4년의출원비율이전체의 50% 이상차지 ) 점유율 : 한국 (42%), 일본 (26%), 미국 (25%) 한국은전체점유비율이매우높고, 또한최근최근 (4년) 증가비율이매우급증함 일본, 328, 26% 유럽, 92, 7% 한국, 534, 42% 미국, 321, 25% 1 9 117 407 한국 2 25 155 139 미국 12 54 153 109 일본 11 47 34 유럽 89~9393 94~9898 99~03 04~0808-28-

분석결과 ( 제 3 기술 ) 기술별 / 국가별특허동향 ( 유기박막 / 화소형성기술 ) 한국은전사기술및증착기기술분야의출원활동이매우높음 미국은전사기술과 Printing solution( 재료 ) 기술분야의출원활동이높음 일본은전분야에서고른출원활동보임 160 98 86 22 24 30 33 14 전사 승화 레이저 230 46 53 21 78 16 80 3 증착기 마스크 증착기술 50 139 79 37 solution 공정 (inkjet, offset, gravure) 한국미국일본유럽 -29-

다출원인현황 ( 유기박막 / 화소형성기술 ) 분석결과 ( 제 3 기술 ) 유기박막 / 화소형성기술에서 Samsung SDI의출원활동이독보적임 ( 기술 / 사업선도기업 ) 기타국적주요출원인 : Idemitsu Kosan, Sumitomo chem., LG Display, Sony, 3M, Merck Samsung SDI(KR) Eastman Kodak(US) Sumitomo Chem(JP) LG Display(KR) Sony(JP) Ulvac(JP) Fuji Photo Film(JP) ANS(KR) Samsung Electronics(KR) JSR(JP) 3M(US) DNP(JP) Merck(DE) Showa Denko(JP) Semes(KR) 에이디피엔지니어링 (KR) Canon(JP) 야스 (KR) Toppan Printing(JP) NEC(JP) Sharp(JP) Matsushita(JP) Toshiba(JP) 주성엔지니어링 (KR) Dupont(US) 선익시스템 (KR) 두산메카텍 (KR) 0 100 200 300 400 0 5 10 15 20 유럽일본미국한국 -30-

기술별다출원인현황 ( 유기박막 / 화소형성기술 ) 분석결과 ( 제 3 기술 ) 레이저전사 / 승화기술 : 다출원 1~4위 (Samsung SDI, Eastman Kodak, 3M, Sony) 증착기술 : 다출원 1~4 위 (Samsung SDI, LG Display, Semes, Toppan Printing) Printing Solution( 재료 ) 기술 : 다출원 1~4위 (Sumitomo Chem, Merck, DuPont, S_SDI) 레이저 증착기술 Printing Samsung SDI(KR) Eastman Kodak(US) 3M(US) Sony(JP) Sharp(JP) Samsung SDI(KR) LG Display(KR) Semes(KR) Toppan Printing(JP) 두산메카텍 (KR) Toshiba(JP) Sony(JP) Canon(JP) Sumitomo Chem(JP) Merck(DE) Dupont(US) Samsung SDI(KR) Fuji Photo Film(JP) Canon(JP) Dupont(US) DNP(JP) Fuji Electric(JP) NEC(JP) Epson(JP) Samsung Electronics(KR) Toppan Printing(JP) 승화 전사 Ulvac(JP) Eastman Kodak(US) ANS(KR) Applied Materials(US) 에이디피엔지니어링 (KR) 알파플러스 (KR) 야스 (KR) SEL(JP) Matsushita(JP) Epson(JP) 주성엔지니어링 (KR) 마스크 증착기 JSR(JP) Showa Denko(JP) Dow Global Tech(US) Elecon(US) TDK(JP) GIST(KR) DNP(JP) Samsung Electronics(KR) solution 공정 (inkjet, offset, gravure) 0 50 100 150 200 250 300 0 20 40 60 80 100 120 0 20 40 60 80-31-

결론 결론 (1/2) 전체동향 E. Kodak의 OLED 원천특허발표이후지속적으로출원증가 ( 2000년이후출원규모급증 ) AMOLED(3개대기술 ) 은최근급성장경향을보임 ( 최근 8년출원비율 : 전체의 90% 이상 ) 국가별특허점유율 일본 (38%), 한국 (28%), 미국 (26%) 으로한국이 2위차지 국가별출원동향 한국 : 국가대비한국의출원증가비율이매우급증하는경향을보임기술별출원동향 : 유기박막형성및소자기술에서많은출원활동을보이고있음 일본의기술별출원동향 : 일본은소자기술분야에서많은특허활동을보임 미국의기술별출원동향 : 미국은소자기술과유기박막형성기술에서특허활동을보임 출원인별동향 한국의주요출원인 : Samsung SDI( 전체출원1위 ), LG Display( 전체출원 3위 ) 임 기타국적의주요출원인 : Eastman Kodak, Fuji Photo, Seiko Epson, DNP, Sony, Idemitsu Kosan, Princeton Univ., Canon, Sanyo, TDK etc. -32-

결론 결론 (2/2) 기술분야별현황 유연기판기술 : 국가 ( 일본, 미국 ), 출원인 ( 일본국적의출원인 ), 기술 ( 배리어기술 ) 의출원활동이매우높음 소자기술 : 국가 ( 일본, 미국 ), 출원인 ( 한국, 미국및일본국적의출원인 ), 기술 ( 내부효율개선, 발광재료개선, 외부효율개선기술 ) 의출원활동이높음 유기박막 / 화소형성기술 : 국가 ( 한국, 일본 ), 출원인 ( 한국, 미국및일본국적의출원인 ), 기술 ( 증착기기술, 전사관련기술 ) 의출원활동이높음 -33-

감사합니다 -34-