2019 년차세대디스플레이연구센터 공정및사용료 ( 안 ) ~ 차세대디스플레이연구센터 -

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실적 및 전망 09년 하반 PECVD 고객 다변화에 따른 실적개선 10년 태양광 R&D 장비 매출을 반으로 본격적인 상업생산 시작 1. 09년 3Q 실적 동사는 09년 3Q에 매출과 영업이익으로 각각 142 억원(YoY 16.7%, QoQ 142%), 6 억원(흑전환)

가. 회사의 법적, 상업적 명칭 당사의 명칭은 주성엔지니어링 주식회사라고 표기합니다. 또한 영문으로는 JUSUNG Engineering Co., Ltd. 라 표기합니다. 나. 설립일자 및 존속기간 당사는 반도체, FPD, 태양전지, 신재생에너지, LED 및 OLED 제

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디스플레이산업 중국 LCD 의영향력확대는현재진행형 Industry Comment LCD 설비증설에있어서중국의독주를예상 년이후에도 8 세대 /10 세대신규라인가동및투자를통해생산능력지속확대전망. 또한글로벌세트업체내중국 LCD 패널의존도상승도

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03-1영역형( )

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(2) 설립일자 당사는 1999년 장("KOSDAQ")에 상장하였습니다. 12월 22일에 설립되었으며, 2002년 6월 25일에 한국거래소 코스닥시 (3) 본사의 주소, 전화번호, 홈페이지 주소 가. 본사의 주소 : 경상북도 구미시 공단동 310 나. 전화번호 : 05

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드림 워커 꿈은 내가 만든 일종의 스승이자 또 하나의 분신이다. 가장 나답게 성장한 미래의 나 인 셈이다. 꿈 은 모든 부분에서 나보다 낫다. 통찰력도 조금 더 있고, 인내력도, 나를 이끌어 갈 만한 리더십도 있다. 꿈 은 내 안의 가장 성실한 또 다른 나이기 때문이다

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Disclaimer 본자료는기관투자가와일반투자자들을대상으로실시되는 PRESENTATION에서의정보제공을목적으로 브이원텍 ( 이하 회사 ) 에의해작성되었으며이의반출, 복사또는타인에대한재배포는금지됨을알려드리는바입니다. 본 PRESENTATION에의참석은위와같은제한사항의준수

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1. 교육목표 1) LED 산업의현장중심적실무능력함양 2) LED 산업신규인력의선실무지식습득 3) LED 제조공정실습을통한신기술개발 GaP & GaN LED 제조공정단기간교육 ( 이론 : 4 시간, 실습 12 시간 ) 제 1 강 Epitaxy (pn junction)

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Introduction Capillarity( ) (flow ceased) Capillary effect ( ) surface and colloid science, coalescence process,

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2019 년차세대디스플레이연구센터 공정및사용료 ( 안 ) 2019.01.01 ~ 12.31 - 차세대디스플레이연구센터 -

- 차례 - Ⅰ. 일반적요율원칙 Ⅱ. 공정, 장비이용요율및분석료 1. 공정및장비이용요율 가 ) 15 X 15 cm 2 급자동화공정나 ) 15 X 15 cm 2 급 LC 셀제작공정다 ) Organic 증착공정라 ) 단위공정 2. 측정, 시뮬레이션및공정개발요율

Ⅰ. 일반적요율원칙 정보디스플레이학과경희대내타대학 국공립연구소및기업체 ( 기준수가 ) 요율원칙 기준수가의 50 % 기준수가의 65 % 기준수가의 80 % 100 % 클린룸사용료 각팀당 1 인 1 회 (2 시간미만 ) : 10,000 원 비고 : 별도의허가없이원칙적으로출입을불허함. 증착공정할인 (8 장기준 ) Manual 공정할인 Array 공정할인 할인관련 동일조건증착공정시 (Auto 공정진행에한함 ) 동일조건공정시 (Manual 공정진행에한함, e.g. Photo-lithography) 동일 Array 제작시 샘플수 (x) Array 수 (x) 1. 증착할인과 Manual 공정할인은중복가능 2. Array : 소자로볼수있는모든장치들 x < 3 - x = 3 10 % x = 4 20 % x = 5 30 % x = 6 40 % x = 7 50 % x = 8 60 % x < 10 10 % 10 x < 20 20 % 20 x < 30 30 % x < 5 총견적의 15 % 5 x < 10 총견적의 20 % 3. Array 샘플할인은증착할인및 Manual 공정할인과중복불가능 10 x 총견적의 25 % 예 ) Array 단가 500 만원 x 5 개 = 2,500 만원 x 0.8 = 2,000 만원 공정준수사항 1. 기판 : 0.7T 미만, 15cm x 15cm 미만의기판 2. 총견적은, 1 회증착요율 x 샘플수 x 할인율 3. 고난이도, 고신뢰도의공정은공정개발비부과 ( 협의 ) 4. 공정완료기한 : 최대 2주 ( 실험실상황고려한사전협의필요 ) 15X15cm 2 glass (0.5t) ADRC 교내 타대학 기업체 Clean Glass 15,000/ 장 19,500/ 장 24,000/ 장 30,000/ 장 Guide glass 37,500/ 장 52,000/ 장 60,000/ 장 75,000/ 장 * 기타공정문의 ( 담당자 : 김효민박사 adrc2000@tft.khu.ac.kr) - 1 -

Ⅱ. 공정, 장비이용요율및분석료 1. 공정장비요율 가 ) 15 X 15 cm 2 급자동화공정 공정명세부내역 ADRC 교내타대학기업체 a-si:h deposition SiNx deposition SiO2 deposition AKT p-5000 series PECVD (Max. 200 nm) 140,000/ 장 182,000/ 장 224,000/ 장 280,000/ 장 PIN (n+) depostion AKT p-5000 series PECVD (Max. 700+50 nm) IGZO deposition 250,000/ 장 325,000/ 장 400,000/ 장 500,000/ 장 Cu, Ti, Mo deposition AKT p-5000 series DC sputter (Max. 200 nm) 75,000/ 장 117,000/ 장 120,000/ 장 150,000/ 장 IZO (ITO) deposition 115,000/ 장 149,500/ 장 184,000/ 장 230,000/ 장 Au deposition Manual process DC sputter 기본 : < 100 nm, 추가 : 120,000 / 50 nm 130,000/ 장 169,000/ 장 208,000/ 장 260,000/ 장 Ion shower doping system AKT p-5000 series p-ch 110,000/ 장 143,000/ 장 176,000/ 장 220,000/ 장 Photo-lithography PR coat, baker (soft/hard), aligner, develop, PR strip 135,000/ 장 175,500/ 장 216,000/ 장 270,000/ 장 Dry etch AKT p-5000 series MERIE 100,000/ 장 130,000/ 장 160,000/ 장 200,000/ 장 Wet etch Dipping process (BOE etching) (Mo, Al, IZO, ITO, Au, Cr) ( 최대 4 장또는 30 분기준 ) 30,000/ 회 39,000/ 회 48,000/ 회 60,000/ 회 Release layer/pi/gas barrier 850,000/ 장 1,105,000/ 장 1,360,000/ 장 1,700,000/ 장 Flexible Substrate Release layer/pi 600,000/ 장 780,000/ 장 960,000/ 장 1,200,000/ 장 - 2 -

( 나 ) 15 X 15 cm 2 급 LC 셀제작공정 공정명세부내역 ADRC 교내타대학기업체 PI Coating 재료비포함, Spin-coator, Baking 50,000/ 장 65,000/ 장 80,000/ 장 100,000/ 장 PI Rubbing Iwazaki rubbing machine 60,000/ 장 78,000/ 장 96,000/ 장 120,000/ 장 Seal drawing 재료비포함, Mushasi dispensor, UV sealant or thermal sealant 50,000/ 장 65,000/ 장 80,000/ 장 100,000/ 장 Ball spacer spray 5,000/ 장 6,500/ 장 8,000/ 장 10,000/ 장 Column spacer 125,000/ 장 162,500/ 장 200,000/ 장 250,000/ 장 Assembly Align 100,000/ 장 130,000/ 장 160,000/ 장 200,000/ 장 Hot press 100,000/ 회 130,000/ 회 160,000/ 회 200,000/ 회 LC injection BM or C.F 보유재료에한하여재료비포함. 다수의시료동시진행은협의. BM or C.F coat ( 중택 1), baker (soft), aligner, develop, O2 ashing, UV curing 100,000/ 장 130,000/ 장 160,000/ 장 200,000/ 장 150,000/ 장 195,000/ 장 240,000/ 장 300,000/ 장 전면 Coating 의경우 62,500/ 장 81,250/ 장 100,000/ 장 125,000/ 장 OC End seal Polarizer attachment OC coat, baker, annealing UV sealing, UV curing 재료비별도 50,000/ 장 65,000/ 장 80,000/ 장 100,000/ 장 15,000/ 장 19,500/ 장 24,000/ 장 30,000/ 장 ( 다 ) Organic 증착공정 공정명세부내역 ADRC 교내타대학기업체 OLED deposition Metal evaporation 물질단가제외, 증착기사용 LiF, Al (max 100 nm) 중 단가 210,000/ 회 273,000/ 회 336,000/ 회 420,000/ 회 85,000/ 회 110,500/ 회 136,000/ 회 170,000/ 회 Glove box N 2 ambient 23,500/hr 30,550/hr 37,6000/hr 47,000/hr Encapsulation UV seal dispensing, UV curing 23,500/ 회 30,550/ 회 37,600/ 회 47,000/ 회 ITO Substrate Patterned (w/ Bank) 35,000/ 개 전면 ITO 150*150 mm 2 R sheet : 8 ~ 10 Ω/sq 30,000/ 장 39,000/ 장 48,000/ 장 60,000/ 장 Encap glass 16*16*0.7t 5,000/ 개 OLED materials OPV materials 시가반영 50,000/ 종 20,000/ 종 실험관련물질및 ITO 기판, encap glass : 시가반영후탄력적용 - 3 -

( 라 ) 단위공정 공정명세부내역 ADRC 교내타대학기업체 Baker 110 o C, 130 o C 9,000/ 회 11,700/ 회 14,400/ 회 18,000/ 회 Annealing Annealing < 280 o C 10,000/hr 13,000/hr 16,000/hr 20,000/hr Furnace Max 25 장, Temp. < 700 o C, in N 2 ambient 10,000/hr 13,000/hr 16,000/hr 20,000/hr Spin coater 재료비별도 10,000/hr 13,000/hr 16,000/hr 20,000/hr COG manual bonder FPC bonding ACF manual bonder FOG/TAB manual bonder 샘플에따라가격차등적용재료비별도 20,000/ 장 26,000/ 장 32,000/ 장 40,000/ 장 진공포장기 12,500/ 장 16,250/ 장 20,000/ 장 25,000/ 장 Glass scriber 22,500/0.5 hr 29,250/0.5 hr 36,000/0.5 hr 45,000/0.5hr UV/O3 cleaner UV curing 172 nm lamp 400 W 15,000/30 분 19,500/30 분 24,000/30 분 30,000/30 분 - 4 -

2. 측정, 시뮬레이션및공정개발요율 장비명세부내역기준 ADRC 교내타대학기업체비고 Cell gap / pretilt angle 측정기 Display Color analyzer 20,000 26,000 32,000 40,000 광학현미경 BX60M-11E47D 1 시간 10,000 13,000 16,000 20,000 전자저울 EL-200s 1 회 5,000 6,500 8,000 10,000 TFT 측정시스템 TFT 측정 (+ 온도 ) Agilent 4156C Agilent 41501A 1 시간 35,000 45,500 56,000 70,000 60,000 78,000 96,000 120,000 C-V 측정시스템 Conductivity 측정 전류전압측정을위한샘플링 Keithley 595 Keithley 5951 Keithley 230 Keithley 590 Keithley 4200 Keithley 485 Agilent 195 샘플링미포함 Al deposition, Bonding, Silver paste 1 시간 21,000 27,300 33,600 42,000 30,000 39,000 48,000 60,000 협의 100,000 130,000 160,000 200,000 Hall effect 측정 ECOPIA, 샘플링포함 35,000 45,500 56,000 70,000 Sheet resistance NAPSON RT-7 0.5 시간 5,000 6,500 8,000 10,000 박막두께측정알파스텝, ET-3000 0.5 시간 12,000 15,600 19,200 24,000 BLA process KORONA TM LDA 1 시간 100,000 130,000 160,000 200,000 Digital oscilloscope TDS 2014 1 시간 10,000 13,000 16,000 20,000 Contact angle (< 10 hr) 30,000 39,000 48,000 60,000 Lifetime 측정기 Polaronix M6000 (< 30 hr) (< 50 hr) x 1.3 x 1.5 협의. (> 50 hr) x 2.0 Photomask design Layout 1 장 2,500,000 (Cr mask) 600,000 (Film mask) 공정개발비신규개발의경우 - 자체검토 Mask 사용료 기존 ADRC Mask 사용시 건 1,000,000-5 -

장비명세부내역기준 ADRC 교내타대학기업체비고 분광광도계 Spectrophotometer 구동드라이버측정시스템 Agilent 6052A Agilent E3647A Agilent 33250A Keithley 2000 Keithley 230 Keithley 6221 20,000 26,000 32,000 40,000 Transient EL & Cryogenic 시스템 Agilent 8114A Amplifier TCPA300 Osiloscope TDS3054B 30,000 39,000 48,000 60,000 I-V-L 시스템 Keithley 238 CS-100 스펙트럼측정계 PR-650 1 시간 Solar simulator Asahi Spectra Max-302 Keithley 2400 21,000 27,300 33,600 42,000 OLED EQE measurement Keithley 2635A CS 2000A Solar cell EQE measurement McScience K3100 PL 측정 JASCO FP-6500 SCINCO FS-2 26,500 34,450 32,400 53,000 UV/Vis 측정 21,000 27,300 33,600 42,000-6 -